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nxe:3800e euv 文章進(jìn)入nxe:3800e euv技術(shù)社區

Intel/臺積電/ASML齊捧EUV光刻：捍衛摩爾定律

日前，中國國際半導體技術(shù)大會(huì )（CSTIC）在上海開(kāi)幕，為期19天，本次會(huì )議重點(diǎn)是探討先進(jìn)制造和封裝。其中，光刻機一哥ASML（阿斯麥）的研發(fā)副總裁Anthony Yen表示，EUV光刻工具是目前唯一能夠處理7nm和更先進(jìn)工藝的設備，EUV技術(shù)已經(jīng)被廣泛認為是突破摩爾定律瓶頸的關(guān)鍵因素之一。Yen援引統計數據顯示，截至2019年第四季度，ASML當年共售出53臺EUV NXE：3400系列EUV光刻機，使用EUV機器制造的芯片產(chǎn)量已經(jīng)達到1000萬(wàn)片。他說(shuō)，EUV已經(jīng)成為制造7nm、5nm和3nm邏輯集成電
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華為、蘋(píng)果7/5nm需求大臺積電狂加EUV訂單

2020年因為全球經(jīng)濟的問(wèn)題，本來(lái)電子行業(yè)會(huì )下滑，但是晶圓代工場(chǎng)合不降反升，臺積電Q1季度營(yíng)收大漲了30%，牢牢坐穩了全球晶圓代工一哥的位置。由于華為、蘋(píng)果等公司的7nm及5nm工藝需求大，臺積電目前正在瘋狂增加EUV產(chǎn)能。臺積電2018年量產(chǎn)了7nm工藝，不過(guò)第一代7nm沒(méi)有EUV工藝加持，2019年的7nm EUV工藝才由華為的麒麟990 5G處理器首發(fā)，而今年的5nm工藝則會(huì )全面上馬EUV工藝。根據臺積電之前公布的數據，7nm及7nm EUV工藝目前每月的產(chǎn)能達到了11萬(wàn)片晶圓/月，而5nm工藝的月
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三星新建5nm晶圓廠(chǎng)：先進(jìn)EUV技術(shù) 2021年投產(chǎn)

隨著(zhù)時(shí)間邁入2020年中，以臺積電和三星為代表的芯片半導體也從7nm逐步向5nm進(jìn)發(fā)，實(shí)際上麒麟1020和蘋(píng)果A14芯片就是基于臺積電5nm工藝，表現相較7nm將會(huì )更上一層樓。很明顯在7nm時(shí)代，三星是落后于臺積電的，不過(guò)這家巨頭似乎想在5nm時(shí)代彎道超車(chē)，近日據媒體報道，三星宣布將于漢城南部的平澤市建造全新的5nm晶圓廠(chǎng)。該工廠(chǎng)是三星在韓國國內的第六條晶圓代工產(chǎn)線(xiàn)，將應用先進(jìn)的極紫外光微影（ExtremeUltravioletlithography，EUV）制程技術(shù)，拿7nmEUV工藝對比，三星5nmE
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EUV光刻機斷貨臺積電5nm工藝搶三星頭彩：A14/麒麟1020首發(fā)

臺積電上周發(fā)布了3月及Q1季度財報,營(yíng)收同比大漲了42%,淡季不淡。不過(guò)接下來(lái)的日子半導體行業(yè)可能不太好過(guò)了,ASML的EUV光刻機已經(jīng)斷貨,要延期交付,好在臺積電今年已經(jīng)在5nm工藝上搶先三星了。根據ASML之前的報告,3月底他們下調了1季度營(yíng)收預期到24-25億美元,差不多減少了1/4左右的營(yíng)收,毛利率也下滑到了45-46%之間。此外,ASML的EUV光刻機也因為種種原因斷貨了,雖然訂單沒(méi)有取消,但是交付要延期了,三星、臺積電今年都不太容易快速擴張EUV產(chǎn)能。不過(guò)臺積電在這次危機中更有優(yōu)勢地位,他們包
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三星首次將EUV技術(shù)應用于DRAM生產(chǎn)

據ZDnet報道，三星宣布，已成功將EUV技術(shù)應用于DRAM的生產(chǎn)中。
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三星率先為DRAM芯片導入EUV：明年將用于DDR5/LPDDR5大規模量產(chǎn)

當前在芯片制造中最先進(jìn)的EUV（極紫外光刻）工藝被三星率先用到了DRAM內存顆粒的生產(chǎn)中。這家韓國巨頭今日宣布，已經(jīng)出貨100萬(wàn)第一代10nm EUV級（D1x）DDR4 DRAM模組，并完成全球客戶(hù)評估，這為今后高端PC、手機、企業(yè)級服務(wù)器等應用領(lǐng)域開(kāi)啟新大門(mén)。得益于EUV技術(shù)，可以在精度更高的光刻中減少多次圖案化的重復步驟，并進(jìn)一步提升產(chǎn)能。三星表示，將從第四代10nm級（D1a）DRAM或高端級14nm級DRAM開(kāi)始全面導入EUV，明年基于D1a大規模量產(chǎn)DDR5和LPDDR5內存芯片，預計會(huì )使12
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引入EUV技術(shù)的6nm，才是真正的6nm

只有引入EUV技術(shù)的6nm才是真正的6nm，而這項技術(shù)也將伴隨未來(lái)可能的5nm、4nm、3nm、2nm、1nm一路
關(guān)鍵字： EUV 6nm 光刻機

泛林集團發(fā)布應用于EUV光刻的技術(shù)突破

近日，泛林集團發(fā)布了一項用于EUV光刻圖形化的干膜光刻膠技術(shù)。泛林集團研發(fā)的這項全新的干膜光刻膠技術(shù)，結合了泛林集團在沉積、刻蝕工藝上的領(lǐng)導地位及其與阿斯麥?(ASML) 和比利時(shí)微電子研究中心?(imec)?戰略合作的成果，它將有助于提高EUV光刻的分辨率、生產(chǎn)率和良率。泛林集團的干膜光刻膠解決方案提供了顯著(zhù)的EUV光敏性和分辨率優(yōu)勢，從而優(yōu)化了單次EUV光刻晶圓的總成本。由于領(lǐng)先的芯片制造商已開(kāi)始將EUV光刻系統應用于大規模量產(chǎn)，進(jìn)一步提升生產(chǎn)率和分辨率將幫助他們以更合理
關(guān)鍵字： EUV 光刻

泛林集團在提高EUV光刻分辨率、生產(chǎn)率和良率取得技術(shù)突破

泛林集團與阿斯麥 (ASML) 和比利時(shí)微電子研究中心 (imec) 共同研發(fā)的全新干膜光刻膠技術(shù)將有助于提高EUV光刻的分辨率、生產(chǎn)率和良率。
關(guān)鍵字：泛林 EUV 干膜光刻膠技術(shù)

2021年ASML將推下一代EUV光刻機面向2nm、1nm工藝

作為全球唯一能生產(chǎn)EUV光刻機的公司,荷蘭ASML公司去年出售了26臺EUV光刻機,主要用于臺積電、三星的7nm及今年開(kāi)始量產(chǎn)的5nm工藝,預計今年出貨35臺EUV光刻機。目前ASML出貨的光刻機主要是NXE:3400B及改進(jìn)型的NXE:3400C,兩者基本結構相同,但NXE:3400C采用模塊化設計,維護更加便捷,平均維修時(shí)間將從48小時(shí)縮短到8-10小時(shí),支持7nm、5nm。此外,NXE:3400C的產(chǎn)能也從之前的125WPH(每小時(shí)處理晶圓數)提升到了175WPH。不論NXE:3400B還是NXE:
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麒麟820處理器要來(lái),6納米+EUV工藝,手有技術(shù)氣自華!

hello,大家好,歡迎來(lái)到阿洛伊科技華為將于2月24日21:00舉行在線(xiàn)新品發(fā)布會(huì )。在疫情爆發(fā)期間,手機制造商選擇在網(wǎng)上舉行發(fā)布會(huì )。據悉,此次發(fā)布會(huì )的主題是“共同未來(lái)”。從海報上看,本次大會(huì )將涵蓋多個(gè)類(lèi)別,包括折疊手機、筆記本電腦、平板電腦、智能手表、智能家居等,不過(guò),據媒體透露,本次大會(huì )將會(huì )有一個(gè)驚喜,即將發(fā)布最新的旗艦SOC麒麟820處理器。與上一代麒麟810相比,該處理器有哪些升級?讓我們看看。麒麟820處理器將采用cortex A76架構。不采用最新的cortex a77架構的主要原因是,ARM
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臺積電遇強大對手!6nm、7nm EUV開(kāi)啟全面量產(chǎn),中國仍需努力!

告別了諾基亞、HTC、黑莓等手機,目前的智能手機陣營(yíng)也就是安卓和蘋(píng)果,而智能手機儼然就是人們的第二個(gè)精神生命,手機不離手已經(jīng)成為了一種現象,但是對于智能手機來(lái)說(shuō),除了軟件以外,最重要最核心的就是手機芯片了!但是在全世界來(lái)說(shuō),能夠生產(chǎn)高端芯片的廠(chǎng)商少之又少,主要還是因為納米級制程工藝的技術(shù)壁壘,誰(shuí)能夠率先突破制程工藝,誰(shuí)都將會(huì )在半導體芯片上拔得頭籌,對于中國來(lái)說(shuō),這一塊仍然非常的滯后,當然了如果說(shuō)臺積電也是中國的話(huà),那么中國其實(shí)還是領(lǐng)先的!但是畢竟臺積電一直以來(lái)是中國臺灣企業(yè),但其實(shí)其也一直受限于美國的政策
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面向3nm及以下工藝，ASML新一代EUV光刻機曝光

很快,臺積電和三星的5nm工藝即將量產(chǎn),與此同時(shí),臺積電和三星的3nm工藝也在持續的研發(fā)當中。而對于5nm及以下工藝來(lái)說(shuō),都必須依靠EUV(極紫外)光刻機才能實(shí)現。而目前全球只有一家廠(chǎng)商能夠供應EUV光刻機,那就是荷蘭的ASML。很快,臺積電和三星的5nm工藝即將量產(chǎn),與此同時(shí),臺積電和三星的3nm工藝也在持續的研發(fā)當中。而對于5nm及以下工藝來(lái)說(shuō),都必須依靠EUV(極紫外)光刻機才能實(shí)現。而目前全球只有一家廠(chǎng)商能夠供應EUV光刻機,那就是荷蘭的ASML。目前ASML出貨的EUV光刻機主要是NXE:340
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三星最先進(jìn)EUV產(chǎn)線(xiàn)投用：7nm產(chǎn)能今年增加兩倍

當前，有實(shí)力圍繞10nm以下先進(jìn)制程較量的廠(chǎng)商僅剩下Intel、臺積電和三星三家。
關(guān)鍵字：三星 EUV 7nm

EUV市場(chǎng)供不應求，ASML或取代應材登全球半導體設備龍頭

根據外媒報導，已經(jīng)多年蟬聯(lián)全球半導體設備龍頭的美商應材公司（Applied Materials），2019年可能將其龍頭寶座，讓給以生產(chǎn)半導體制造過(guò)程中不可或缺曝光機的荷蘭ASML，原因是受惠即紫外光刻設備（EUV）的市場(chǎng)需求大增，進(jìn)一步拉抬了ASML的市占率表現。
關(guān)鍵字： EUV ASML 半導體設備

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華為、蘋(píng)果7/5nm需求大臺積電狂加EUV訂單

三星新建5nm晶圓廠(chǎng)：先進(jìn)EUV技術(shù) 2021年投產(chǎn)

EUV光刻機斷貨臺積電5nm工藝搶三星頭彩：A14/麒麟1020首發(fā)

三星首次將EUV技術(shù)應用于DRAM生產(chǎn)

三星率先為DRAM芯片導入EUV：明年將用于DDR5/LPDDR5大規模量產(chǎn)

引入EUV技術(shù)的6nm，才是真正的6nm

泛林集團發(fā)布應用于EUV光刻的技術(shù)突破

泛林集團在提高EUV光刻分辨率、生產(chǎn)率和良率取得技術(shù)突破

2021年ASML將推下一代EUV光刻機面向2nm、1nm工藝

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