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nxe:3800e euv 文章進(jìn)入nxe:3800e euv技術(shù)社區

ASML第三季接23臺EUV系統訂單

ASML近日發(fā)布2019年第3季財報。根據財報顯示，ASML在2019年第3季銷(xiāo)售凈額（net sales）為30億歐元，凈收入（net income）為6.27億歐元，毛利率（gross margin）43.7%。
關(guān)鍵字： ASML EUV 營(yíng)運

三星公布全球首顆 7nm EUV 芯片——Exynos 9825

Exynos 9825 將搭載于三星 Galaxy Note 10 系列手機中。
關(guān)鍵字：三星 Exynos 9825 EUV 芯片

ASML發(fā)布Q2季度財報 EUV光刻機產(chǎn)能大增

掌握全球唯一EUV光刻機研發(fā)、生產(chǎn)的荷蘭ASML（阿斯麥）公司今天發(fā)布了2019年Q2季度財報，當季營(yíng)收25.68億歐元，其中凈設備銷(xiāo)售額18.51億歐元，總計出貨了41臺光刻機，其中EUV光刻機7臺。
關(guān)鍵字：阿斯麥極紫外光刻 EUV

高通Snapdragon 865肥單　傳交三星7納米EUV制程生產(chǎn)

韓國業(yè)界傳出消息，指三星電子(Samsung Electronics)獲高通(Qualcomm)新一代應用處理器(AP)Snapdragon 865(暫稱(chēng))晶圓代工訂單。2018年臺積電(TSMC)搶走高通AP晶圓代工訂單，如今再度回到三星手上，可望挹注三星晶圓代工事業(yè)部不少業(yè)績(jì)。
關(guān)鍵字：高通三星電子 NVIDIA 臺積電 EUV Snapdragon Exynos處理器

數字時(shí)報：臺積電7nm+ EUV已開(kāi)始量產(chǎn)

IT之家5月26日消息據《數字時(shí)報》報道，臺積電首席執行官表示，該公司7nm+ EUV已開(kāi)始批量生產(chǎn)。這是臺積電第一次、也是行業(yè)第一次量產(chǎn)EUV極紫外光刻技術(shù)。
關(guān)鍵字：臺積電 7nm+ EUV

三星5nm EUV研發(fā)完成：功耗降低20%

在芯片代工領(lǐng)域，臺積電和三星是實(shí)力最強勁的兩大巨頭。不過(guò)，最近幾年，臺積電的實(shí)力要更勝一籌，通過(guò)7nm工藝，臺積電拿到了蘋(píng)果、高通、AMD、比特大陸等多家的大訂單。而三星自家最新的Exynos 9820處理器，采用的則還是8nm工藝。今天，三星在官網(wǎng)上帶來(lái)了一個(gè)新消息，5nm EUV成功開(kāi)發(fā)完成。這對三星而言，算是一個(gè)里程碑式的成就。三星表示，與7nm相比，5nm FinFET工藝功耗降低了20％，性能提高了10％。需要說(shuō)明的是，三星的7nm工藝去年10月開(kāi)始宣布并初步生產(chǎn)，今年年初實(shí)現量產(chǎn)。最近三星曝光
關(guān)鍵字：三星 EUV 5nm

EUV光刻取得成功，Lasertec功不可沒(méi)

在經(jīng)歷了二十多年的研發(fā)之后，芯片制造商在一項能夠大幅度提升硅片上晶體管密度的技術(shù)上壓下了重注，那就是EUV光刻。他們能夠取得成功，日本東京郊區的一家名為L(cháng)asertec小公司功不可沒(méi)。
關(guān)鍵字： EUV Lasertec

EUV技術(shù) 為摩爾定律延命

隨著(zhù)晶片功能愈趨強大，在半導體制程愈趨復雜的情況下，摩爾定律的推進(jìn)已經(jīng)放緩，以臺積電、三星、英特爾等三大半導體廠(chǎng)目前采用的浸潤式(immersion)微影及多重曝影(multi-patterning)技術(shù)來(lái)說(shuō)，若要維持摩爾定律的制程推進(jìn)速度，晶片成本會(huì )呈現等比級數般飆升。也因此，能夠明顯減少晶片光罩層數的極紫外光(EUV)微影技術(shù)，將可為摩爾定律延命。
關(guān)鍵字： EUV 摩爾定律

傳臺積電今年將購入18臺EUV光刻機，7nm EUV最快3月量產(chǎn)

來(lái)自產(chǎn)業(yè)鏈的最新消息稱(chēng)，臺積電將包攬ASML今年的30臺EUV光刻機中的18臺，加上之前采購的幾臺，臺積電有望在今年3月份啟動(dòng)7nm EUV的量產(chǎn)，推動(dòng)7nm在其2019年晶圓銷(xiāo)售中的占比從去年的9%提升到25%。
關(guān)鍵字：臺積電 7nm EUV

芯片設計企業(yè)該如何選擇適合的工藝？

如何向芯片設計企業(yè)推薦最合適的工藝，芯片設計企業(yè)應該怎么權衡?不久前，在珠海舉行的“2018中國集成電路設計業(yè)年會(huì )(ICCAD)”期間，芯原微電子、Cadence南京子公司南京凱鼎電子科技有限公司、UMC(和艦)公司分別介紹了他們的看法。
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敞開(kāi)擁抱中國，荷蘭光刻機巨頭ASML絲毫不受“大火”影響

荷蘭光刻機霸主阿斯麥(ASML)公司公布了2018年第四季度及全年業(yè)績(jì)報告，而在當天的聲明中，公司CEO彼得·維尼克(Peter Wennink)特別指出，中國對其產(chǎn)品的需求強勁，繼續看好對中國的出口。
關(guān)鍵字： ASML EUV

英特爾巨資升級美國D1X晶圓廠(chǎng)，上馬7nm EUV工藝

　　12月中旬英特爾宣布擴建美國俄勒岡州以及以色列、愛(ài)爾蘭的晶圓廠(chǎng)產(chǎn)能。英特爾這次的產(chǎn)能擴張計劃有對應14nm的，但是并不是應急用的，也有面向未來(lái)工藝的，其中俄勒岡州的D1X晶圓廠(chǎng)第三期工程就是其中之一，未來(lái)英特爾的7nm EUV處理器會(huì )在這里生產(chǎn)?！　?018年下半年英特爾忽然出現了14nm產(chǎn)能不足的危機，這件事已經(jīng)影響了CPU、主板甚至整個(gè)PC行業(yè)的增長(cháng)，官方也承認了14nm產(chǎn)能供應短缺，并表示已經(jīng)增加了額外的15億美元支出擴建產(chǎn)能。12月中旬英特爾宣布擴建美國俄勒岡州以及以色列、愛(ài)爾蘭的晶圓廠(chǎng)產(chǎn)
關(guān)鍵字：英特爾晶圓 EUV

EUV需求巨大！ASML最新財報顯示今年將出貨30臺

　　荷蘭當地時(shí)間1月23日，ASML發(fā)布了去(2018)年第四季度及全年的業(yè)績(jì)報告?！　蟾嬷赋?，去年第四季度凈銷(xiāo)售額為31億歐元，凈收入為7.88億歐元，毛利率為44.3%?！　【唧w來(lái)看，ASML指出，DUV光刻業(yè)務(wù)中，存儲客戶(hù)的需求使得TWINSCAN NXT:2000i保持著(zhù)持續增長(cháng)。同時(shí)ASML也提高了該產(chǎn)品的可靠性，據了解，上一代產(chǎn)品需要六個(gè)月才能達到高可靠性，而該產(chǎn)品僅用了兩個(gè)月?！　∪ツ耆?，ASML凈銷(xiāo)售額為109億歐元，凈收入為26億歐元?！　≈档米⒁獾氖?，ASML已與尼康簽署了諒解
關(guān)鍵字： EUV ASML

全面起底ASML的EUV光刻技術(shù)

　　用于高端邏輯半導體量產(chǎn)的EUV(Extreme Ultra-Violet，極紫外線(xiàn)光刻)曝光技術(shù)的未來(lái)藍圖逐漸“步入”我們的視野，從7nm階段的技術(shù)節點(diǎn)到今年(2019年，也是從今年開(kāi)始)，每2年~3年一個(gè)階段向新的技術(shù)節點(diǎn)發(fā)展?！　　　「叨诉壿嫲雽w的技術(shù)節點(diǎn)和對應的EUV曝光技術(shù)的藍圖?！　∫簿褪钦f(shuō)，在EUV曝光技術(shù)的開(kāi)發(fā)比較順利的情況下，5nm的量產(chǎn)日程時(shí)間會(huì )大約在2021年，3nm的量產(chǎn)時(shí)間大約在2023年。關(guān)于更先進(jìn)的2nm的技術(shù)節點(diǎn)，還處于模糊階段，據預測，其量產(chǎn)時(shí)間最快也是在2026
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Imec與ASML聯(lián)手，EUV成主流技術(shù)工具

　　日前，有消息稱(chēng)，比利時(shí)研究機構Imec和微影設備制造商ASML計劃成立一座聯(lián)合研究實(shí)驗室，共同探索在后3nm邏輯節點(diǎn)的奈米級元件制造藍圖。此次雙方這項合作是一項為期五年計劃的一部份，分為兩個(gè)階段：　　首先是開(kāi)發(fā)并加速極紫外光(EUV)微影技術(shù)導入量產(chǎn)，包括最新的EUV設備準備就緒?！　∑浯螌⒐餐剿飨乱淮邤抵悼讖?NA)的EUV微影技術(shù)潛力，以便能夠制造出更小型的奈米級元件，從而推動(dòng)3nm以后的半導體微縮?！　O紫外光(EUV)微影技術(shù)　　EUV光刻也叫極紫外光刻，它以波長(cháng)為10-14 nm的極紫外
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nxe:3800e euv介紹

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三星公布全球首顆 7nm EUV 芯片——Exynos 9825

ASML發(fā)布Q2季度財報 EUV光刻機產(chǎn)能大增

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數字時(shí)報：臺積電7nm+ EUV已開(kāi)始量產(chǎn)

三星5nm EUV研發(fā)完成：功耗降低20%

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