2021年ASML將推下一代EUV光刻機 面向2nm、1nm工藝

作為全球唯一能生產(chǎn)EUV光刻機的公司,荷蘭ASML公司去年出售了26臺EUV光刻機,主要用于臺積電、三星的7nm及今年開(kāi)始量產(chǎn)的5nm工藝,預計今年出貨35臺EUV光刻機。

目前ASML出貨的光刻機主要是NXE:3400B及改進(jìn)型的NXE:3400C,兩者基本結構相同,但NXE:3400C采用模塊化設計,維護更加便捷,平均維修時(shí)間將從48小時(shí)縮短到8-10小時(shí),支持7nm、5nm。

此外,NXE:3400C的產(chǎn)能也從之前的125WPH(每小時(shí)處理晶圓數)提升到了175WPH。

不論NXE:3400B還是NXE:3400C,目前的EUV光刻機還是第一代,主要特點(diǎn)是物鏡系統的NA(數值孔徑)為0.33。

根據光刻機的分辨率公式,NA數字越大,光刻機精度還會(huì )更高,ASML現在還研發(fā)NA 0.55的新一代EUV光刻機EXE:5000系列,主要合作伙伴是卡爾蔡司、IMEC比利時(shí)微電子中心。

EXE:5000系列的下一代光刻機主要面向后3nm時(shí)代,目前三星、臺積電公布的制程工藝路線(xiàn)圖也就到3nm,2nm甚至1nm工藝都還在構想中,要想量產(chǎn)就需要新的制造裝備,新一代EUV光刻機是重中之重。

根據ASML的信息,EXE:5000系列光刻機最快在2021年問(wèn)世,不過(guò)首發(fā)的還是樣機,真正用于生產(chǎn)還得等幾年,樂(lè )觀(guān)說(shuō)法是2023年或者2024年才有可能看到NA 0.55的EXE:5000系列光刻機上市。