三星率先為DRAM芯片導入EUV：明年將用于DDR5/LPDDR5大規模量產(chǎn)

當前在芯片制造中最先進(jìn)的EUV（極紫外光刻）工藝被三星率先用到了DRAM內存顆粒的生產(chǎn)中。

這家韓國巨頭今日宣布，已經(jīng)出貨100萬(wàn)第一代10nm EUV級（D1x）DDR4 DRAM模組，并完成全球客戶(hù)評估，這為今后高端PC、手機、企業(yè)級服務(wù)器等應用領(lǐng)域開(kāi)啟新大門(mén)。

得益于EUV技術(shù)，可以在精度更高的光刻中減少多次圖案化的重復步驟，并進(jìn)一步提升產(chǎn)能。

三星表示，將從第四代10nm級（D1a）DRAM或高端級14nm級DRAM開(kāi)始全面導入EUV，明年基于D1a大規模量產(chǎn)DDR5和LPDDR5內存芯片，預計會(huì )使12英寸晶圓的生產(chǎn)率翻番。

不過(guò)，目前支持DDR5的PC平臺尚未亮相，LPDDR5倒是已經(jīng)逐漸鋪開(kāi)。三星量產(chǎn)的第一代EUV DDR5 DRAM單芯片容量為16Gb（2GB），地點(diǎn)是平澤市的V2線(xiàn)。

根據三星此前的預判，EUV將幫助公司至少推進(jìn)到3nm尺度。