三星首次將EUV技術(shù)應用于DRAM生產(chǎn)
作者：
時(shí)間：2020-03-26
來(lái)源：SEMI大半導體產(chǎn)業(yè)網(wǎng)
收藏
加入技術(shù)交流群
掃碼加入
和技術(shù)大咖面對面交流
海量資料庫查詢(xún)
據ZDnet報道，三星宣布，已成功將EUV技術(shù)應用于DRAM的生產(chǎn)中。
本文引用地址：http://dyxdggzs.com/article/202003/411363.htm三星已經(jīng)出貨了100萬(wàn)個(gè)使用EUV工藝制造的10nm級DDR4 DRAM模塊，并得到了客戶(hù)的評估。三星表示，評估工作完成后，將為明年大規模生產(chǎn)新的DRAM鋪平道路。
三星在平澤工廠(chǎng)的EUV專(zhuān)用V2生產(chǎn)線(xiàn)將于下半年開(kāi)始生產(chǎn)DRAM模塊。該生產(chǎn)線(xiàn)預計將生產(chǎn)4代10nm級DDR5和LPDDR5。
這是平澤工廠(chǎng)除7nm邏輯芯片外又一使用EUV技術(shù)生產(chǎn)的芯片，三星稱(chēng)，EUV技術(shù)將使其單個(gè)12英寸晶圓的生產(chǎn)效率提升一倍。
三星、英特爾和臺積電等全球半導體制造商預計都將擴大EUV技術(shù)在芯片生產(chǎn)中的應用。三星此前曾表示，計劃利用EUV技術(shù)生產(chǎn)3nm芯片。
評論