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為什么ASML加速來(lái)華？
- 芯片雖小，制造難度卻很大，而且芯片制造的關(guān)鍵設備光刻機的缺乏，更是成為限制我國高端芯片的一大難題。尤其是近兩年華為事件的不斷發(fā)酵，讓我國半導體芯片領(lǐng)域的問(wèn)題越加明顯，那就是在芯片制造的設備上，我國依然受制于人的問(wèn)題相當嚴重。為什么ASML加速來(lái)華？北大教授的發(fā)聲很現實(shí)，國產(chǎn)光刻機突破在即雖然華為研發(fā)出基于5nm工藝的麒麟9000芯片，令一眾對手刮目相看，但是沒(méi)有臺積電為其代工生產(chǎn)，沒(méi)有屬于中國自己的高端光刻機，就等同于一張“紙老虎”。作為中國大陸最先進(jìn)的芯片制造企業(yè)中芯國際，因為沒(méi)有高端光刻機，至今仍然沒(méi)
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三星有意在美國建5nm EUV芯片廠(chǎng) 巨額投資
- 據韓媒援引業(yè)內人士消息，三星電子已決定在美國得克薩斯州奧斯丁設立EUV半導體工廠(chǎng)，以滿(mǎn)足日益增長(cháng)的小型芯片需求和美國重振半導體計劃。該工廠(chǎng)將采用5nm制程，計劃于今年Q3開(kāi)工，2024年投產(chǎn)，預計耗資180億美元，同時(shí)也是三星電子首次在韓國之外設立EUV產(chǎn)線(xiàn)。去年，臺積電去宣布將在美國建設芯片工廠(chǎng)，建成之后將采用5nm工藝為相關(guān)的客戶(hù)代工芯片，目標是2024年投產(chǎn)。最新消息稱(chēng)，臺積電管理層目前正在討論，他們在美國的下一座芯片工廠(chǎng)，是否采用更先進(jìn)的3nm制程工藝，為相關(guān)的客戶(hù)代工芯片。
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阿斯麥已生產(chǎn)的極紫外光刻機 70%賣(mài)給了臺積電
- 本周一，外媒援引韓國產(chǎn)業(yè)通商資源部一份有關(guān)半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展戰略文件報道稱(chēng)，光刻機制造商阿斯麥將投資2.12億美元，在京畿道華城建設極紫外光刻機再制造廠(chǎng)和培訓中心。在報道阿斯麥將在華城建設極紫外光刻機再制造廠(chǎng)和培訓中心時(shí)，外媒還提到，雖然三星電子、SK海力士已引進(jìn)了阿斯麥生產(chǎn)的極紫外光刻機，但他們獲得的數量同臺積電相比，有不小的差距?！ ⊥饷皆趫蟮乐刑岬?，阿斯麥目前已生產(chǎn)的極紫外光刻機，70%是賣(mài)給了臺積電，留給其他廠(chǎng)商的就只有30%?！ “⑺果準悄壳叭蛭ㄒ荒苤圃鞓O紫外光刻機的廠(chǎng)商，他們已推出了TWIN
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不用EUV光刻機就搞定類(lèi)7nm工藝？中芯國際回應
- 做為國內最大也是最先進(jìn)的半導體制造公司，中芯國際在先進(jìn)工藝上的進(jìn)展引人關(guān)注，其中7nm及以下節點(diǎn)非常重要，這還牽涉到EUV光刻機?！ ∪涨坝泄擅裨诨?dòng)平臺上詢(xún)問(wèn)，稱(chēng)有報道指出中芯國際不用EUV光刻就攻克了類(lèi)7nm工藝，要求中芯國際澄清?！ Υ?，中芯國際表示，公司不針對傳言進(jìn)行評論?！ 闹行緡H官網(wǎng)的介紹來(lái)看，該公司提到的最先進(jìn)工藝還是14nm，接下來(lái)的是N+1、N+2工藝，但沒(méi)有指明具體的工藝節點(diǎn)?！ ≈行緡H聯(lián)合CEO趙海軍曾表示，經(jīng)過(guò)三年的積累，FinFET工藝已經(jīng)取得了不錯的成績(jì)，N+1已經(jīng)
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ASML澄清與中芯國際交易EUV與DUV光刻機一字之差大不同
- 近日，中芯國際與ASML達成12億美元交易購買(mǎi)晶圓生產(chǎn)設備的消息引發(fā)關(guān)注。針對雙方此次合作，有媒體報道稱(chēng)“除了EUV光刻機，中芯國際幾乎可以買(mǎi)到其他所有型號的光刻機?！钡沁@一說(shuō)法很快被ASML官方澄清，該協(xié)議與DUV光刻技術(shù)的現有協(xié)議相關(guān)?！ 】赡芎芏嗑W(wǎng)友看到這里有點(diǎn)蒙圈，這繞來(lái)繞去的到底是玩的什么文字游戲。這里先進(jìn)行一個(gè)小科普，EUV和DUV到底有啥區別呢？EUV也就是“極深紫外線(xiàn)”的意思，而DUV是“深紫外線(xiàn)”的意思，通過(guò)字面就知道EUV看上去就比DUV高級，實(shí)際上也是如此?！ SML澄清與中
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中國芯片業(yè)為什么搞不過(guò)一家荷蘭公司
- 荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）1月20日發(fā)布了2020年Q4和全年財報，這位世界光刻機霸主去年共出貨了31臺EUV光刻機，中國大陸由于種種原因沒(méi)有買(mǎi)到其中任何一臺?！ ∮腥苏f(shuō)阿斯麥是唯一一個(gè)能讓臺積電折腰的公司，這一點(diǎn)也不夸張。阿斯麥所生產(chǎn)的光刻機，是半導體工廠(chǎng)生產(chǎn)芯片的最關(guān)鍵工具。畢竟，沒(méi)有刀，再好的師傅也雕不出來(lái)花?！ ∪绻腥魏螐S(chǎng)商的光刻機設備需要維修，阿斯麥的工程師從登上飛機那一刻，廠(chǎng)商就要付給他們以小時(shí)計的美金?！ ≡?jīng)，某上市公司的光刻機出問(wèn)題后，排了3年隊才等到阿斯麥的工程師。結果阿斯麥的
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全球最大光刻機廠(chǎng)CEO：拜登恐難緩解中美半導體緊張局勢
- 拜登上任在即，他會(huì )緩解緊張的中美科技局勢嗎？近期，全球最大光刻機制造商ASML的CEO表示，即使總統換屆，兩國在包括光刻機在內的半導體領(lǐng)域，仍將出現進(jìn)一步的對抗。也有人發(fā)表看法，發(fā)展芯片，開(kāi)源指令集架構RISC-V可能會(huì )讓中國芯片自主「彎道超車(chē)」？ 離美國新任總統拜登的上任越來(lái)越近了?！ ≡谶^(guò)去川普任職期內，中美之間的貿易戰讓不少科技公司都卷入其中，總部位于荷蘭的光刻機制造商ASML也是其中之一?！ ∮捎诿绹膲毫?，其最新價(jià)值約2億美元的光刻機已停止向中國銷(xiāo)售?！ ∮捎诖ㄆ盏呐e動(dòng)常常出其不意而且瘋狂
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在EUV光刻技術(shù)上，日本公司壟斷了光刻膠的供應
- 雖然將會(huì )有更多用于EUV光刻的光刻膠制造商。但是目前這個(gè)市場(chǎng)是日本公司壟斷的。目前只有兩家芯片制造商掌握了使用EUV極紫外線(xiàn)輻射光刻的半導體光刻技術(shù)，但是毫無(wú)疑問(wèn)，這就是光刻技術(shù)的未來(lái)。與任何未來(lái)一樣，它為一些光刻材料市場(chǎng)開(kāi)拓者提供了在新市場(chǎng)中建立自己的機會(huì )。尤其是目前由兩家日本公司生產(chǎn)使用EUV光刻機所使用的技術(shù)處理材料，而其中一家是著(zhù)名的Fujifilm富士膠片公司。富士膠片控股公司和住友化學(xué)將在2021年開(kāi)始為下一代芯片提供光刻材料，這可能有助于減小智能手機和其他設備的芯片尺寸，并使它們更加節能。這
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斥資440億元采購EUV光刻機？臺積電：不評論傳聞
- 9月30日訊，此前有媒體報道，由于先進(jìn)制程推進(jìn)順利和訂單量擴大，臺積電將加大EUV光刻機的采購力度，預計到2021年底采購量為55臺左右。臺積電方面回復稱(chēng)：公司不評論市場(chǎng)傳聞。據了解，一臺EUV光刻機售價(jià)近8億元，55臺EUV光刻機價(jià)值約440億元。相關(guān)閱讀：臺積電明年底前將累計采購55臺EUV光刻機：花費超440億元出處：快科技 作者：萬(wàn)南芯片制程已經(jīng)推進(jìn)到了7nm以下，這其中最關(guān)鍵的核心設備就要數EUV光刻機了，目前全世界只有荷蘭ASML（阿斯麥）可以制造。來(lái)自Digitimes的報道稱(chēng)，臺積電打算在
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華為+中科院攻關(guān)EUV光刻機？ASML華裔工程師：天方夜譚
- 9月16日，中國科學(xué)院院長(cháng)白春禮在國新辦發(fā)布會(huì )上介紹稱(chēng)，“率先行動(dòng)”計劃第二階段要把美國“卡脖子”的清單變成科研任務(wù)清單進(jìn)行布局，集中全院力量聚焦國家最關(guān)注的重大領(lǐng)域攻關(guān)。白春禮稱(chēng)，從2021年到2030年未來(lái)的十年是“率先行動(dòng)”計劃第二階段。對此，首先要進(jìn)行體制機制改革。他稱(chēng)，目前已經(jīng)設立了創(chuàng )新研究院、卓越創(chuàng )新中心、大科學(xué)中心和特色所四類(lèi)機構，目的是根據科研性質(zhì)不同進(jìn)行分類(lèi)定位、分類(lèi)管理、分類(lèi)評價(jià)、分類(lèi)資源配置?！斑@個(gè)工作還沒(méi)有完，只是進(jìn)行了一部分，所以第二階段我們爭取在2025年要把四類(lèi)機構全部做完，
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10億元一臺EUV光刻機！芯片產(chǎn)能數量曝光：夠華為手機用嗎？
- 相信大家都知道，在前幾天，ASML重磅官宣了一條大新聞，正式在中國寶島臺灣建設了第一家海外培訓中心—亞洲培訓中心，這家培訓中心標配了14名培訓技師，一年大約可以培養超過(guò)360名EUV光刻機操作工程師，能夠讓芯片生產(chǎn)加工企業(yè)更好的掌握和使用EUV光刻機，從而可以進(jìn)一步提高5nm/3nm芯片的良品率，其實(shí)ASML在臺灣建設這座亞洲培訓中心，最大的目的就是為了直接幫助臺積電培養更多的光刻機操作工程師，因為在過(guò)去兩年時(shí)間里，ASML一共售賣(mài)了57臺EUV光刻機產(chǎn)品，其中臺積電就購得了30臺，占據著(zhù)絕大部分的份額，
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臺積電：5nm EUV工藝已在量產(chǎn)、明年推出增強版
- 24日，臺積電舉辦了第26屆技術(shù)研討會(huì )，并披露了旗下最新工藝制程情況。按照臺積電的說(shuō)法，5nm工藝規劃了兩代，分別是N5和N5P。其中N5確定引入EUV（極紫外光刻）技術(shù)，并且已經(jīng)在大規模量產(chǎn)之中。相較于N7，N5的功耗降低了30%、性能提升了15%，邏輯器件密度是之前的1.8倍。N5P作為改良版，仍在開(kāi)發(fā)中，規劃2021年量產(chǎn)，相較于第一代5nm，功耗進(jìn)一步降低10%、性能提升5%，據稱(chēng)面向高性能計算平臺做了優(yōu)化。據手頭資料，臺積電的5nm有望應用在蘋(píng)果A14芯片（包括Apple Silicon PC處
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您好，目前還沒(méi)有人創(chuàng )建詞條nxe:3800e euv!
歡迎您創(chuàng )建該詞條，闡述對nxe:3800e euv的理解，并與今后在此搜索nxe:3800e euv的朋友們分享。 創(chuàng )建詞條
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