EEPW首頁(yè) >>
主題列表 >>
nxe:3800e euv
nxe:3800e euv 文章 進(jìn)入nxe:3800e euv技術(shù)社區
國產(chǎn)光刻機的「行軍難」
- 3 月 8 日，ASML 發(fā)表聲明回應荷蘭政府即將出臺的半導體設備出口管制措施。ASML 稱(chēng)，這些新的出口管制措施側重于先進(jìn)的芯片制造技術(shù)，包括最先進(jìn)的沉積設備和浸潤式光刻系統，ASML 將需要申請出口許可證才能發(fā)運最先進(jìn)的浸潤式 DUV 系統。ASML 強調，這些管制措施需要一定時(shí)間才能付諸立法并生效。3 月 9 日，外交部例行記者會(huì )上，有媒體提問(wèn)，據報道，荷蘭外貿與發(fā)展合作大臣施賴(lài)納馬赫爾向荷議會(huì )致函稱(chēng)，出于國家安全考慮，荷蘭將于今年夏天之前對其芯片出口實(shí)施限制性措施。中方對此有何評論？外交部發(fā)言人毛
- 關(guān)鍵字： 光刻機 EUV DUV
ASML堵了EUV光刻機的路，但國產(chǎn)光刻機有3大新方向
- 眾所周知，當前全球只有ASML一家能夠生產(chǎn)EUV光刻機，甚至可以說(shuō)很長(cháng)一段時(shí)間內，全球也只有ASML能夠生產(chǎn)光刻機，不會(huì )有第二家。原因在于A(yíng)SML把EUV光刻機的路堵住了，這條路別人是走不通的。ASML與全球眾多的供應鏈，形成了捆綁關(guān)系，像蔡司等與ASML形成了利益共同體，EUV光刻機中，蔡司等廠(chǎng)商至關(guān)重要，掌握核心科技，缺少這些供應鏈，其它廠(chǎng)商不可能制造出EUV光刻機。所以，目前眾多的其它光刻機企業(yè)，并不打算走EUV光刻機這條路，在另尋它路。同樣的，國產(chǎn)光刻機基本上也走不通EUV這條路，只能另尋他路，而
- 關(guān)鍵字： ASML EUV 光刻機
美國發(fā)起的對華聯(lián)合出口限制留下漏洞？
- 據報道，荷蘭和日本已與美國達成協(xié)議，共同限制向中國出口芯片制造工具，這將進(jìn)一步削弱中國半導體行業(yè)的發(fā)展，因為除了限制中國制造商使用 EUV 光刻機外，進(jìn)一步限制其使用浸沒(méi)式 DUV 光刻機。但在美國對中國發(fā)起的嚴格出口限制中，中國半導體企業(yè)是否可以利用任何關(guān)鍵漏洞來(lái)緩沖沖擊？這似乎是一個(gè)值得仔細研究的問(wèn)題。近年來(lái)，美國加大了對中國半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的打壓力度。不僅設計了各種策略和行動(dòng)，還動(dòng)員了盟友的參與。在 2022 年 10 月對向中國出口先進(jìn)芯片制造工具和技術(shù)實(shí)施全面出口限制后，美國急于讓擁有 ASML
- 關(guān)鍵字： EUV DUV 深紫外光刻機
EUV光刻機開(kāi)始“落幕”了
- 說(shuō)到光刻機大家難免會(huì )想到三個(gè)廠(chǎng)商，荷蘭的ASML公司、尼康和佳能。而光刻機就是制造芯片的核心裝備?，F如今光刻機領(lǐng)域的核心地位就是荷蘭的ASML，他與臺積電合作，共同突破了沉浸式DUV光刻機，也正因為此動(dòng)作，才奠定了ASML在光刻機領(lǐng)域的核心地位。后續ASML又推出了更加高端的EUV光刻機，而且還是獨家壟斷生產(chǎn)。這就進(jìn)一步使得ASML成為行業(yè)的巨頭。隨著(zhù)科技的不斷發(fā)展，市場(chǎng)就要越來(lái)越追求高性能以及高要求，ASLM造成的長(cháng)時(shí)間壟斷，導致其他同行沒(méi)有辦法發(fā)展。在他自身無(wú)法突破的前提下，他的路是越走越窄。在全球范
- 關(guān)鍵字： 光刻機 ASML DUV EUV
三星首次采用韓國本土EUV光刻膠 打破日企壟斷
- 據報道，三星首次引入韓國本土公司東進(jìn)世美肯（Dongjin Semichem）研發(fā)的EUV光刻膠（EUV PR）進(jìn)入其量產(chǎn)線(xiàn)，這也是三星進(jìn)行光刻膠本土量產(chǎn)的首次嘗試。在2019年經(jīng)歷與日本的光刻膠等關(guān)鍵原料的供應風(fēng)波之后，三星就在嘗試將關(guān)鍵原料的供應本土化，經(jīng)過(guò)三年的努力，韓國實(shí)現了光刻膠本地化生產(chǎn)。在日本限制出口、三星嘗試重構EUV光刻膠的供應鏈之后，東進(jìn)世美肯就已開(kāi)始研發(fā)EUV光刻膠，并在去年通過(guò)了三星的可靠性測試，隨后不到一年就被應用于三星的大規模生產(chǎn)線(xiàn)。不過(guò)，EUV光刻膠可用于3-50道程序，目前
- 關(guān)鍵字： 三星 韓國 EUV 光刻膠
有多貴？ASML新EUV光刻機單臺硬件造價(jià)2500億：可買(mǎi)三臺頂級航母
- 都知道光刻機單臺成本非常的貴，但是你知道有多貴嗎？一臺數億美元的光刻機讓我們看到了一款硬件設備的價(jià)格極限，然而，ASML CEO Peter Wennink最新接受媒體采訪(fǎng)時(shí)透露，他們正在全力研制劃時(shí)代的新光刻機high-NA EUV設備，而高NA EUV光刻機系統的單臺造價(jià)將在300億到350億歐元之間，約合人民幣2195到2561億元。這個(gè)價(jià)格什么概念，一搜頂級航母的價(jià)格差不多在100億美元左右，而這臺硬件設備可以買(mǎi)三艘頂級航母，而ASML目前在售的雙工件臺EUV光刻機不過(guò)數億美元，作為下一代產(chǎn)品身價(jià)
- 關(guān)鍵字： 光刻機 ASML EUV
事關(guān)EUV光刻技術(shù)，中國廠(chǎng)商公布新專(zhuān)利
- 近日，據國家知識產(chǎn)權局官網(wǎng)消息，華為技術(shù)有限公司于11月15日公布了一項于光刻技術(shù)相關(guān)的專(zhuān)利，專(zhuān)利申請號為202110524685X。集成電路制造中，光刻覆蓋了微納圖形的轉移、加工和形成環(huán)節，決定著(zhù)集成電路晶圓上電路的特征尺寸和芯片內晶體管的數量，是集成電路制造的關(guān)鍵技術(shù)之一。隨著(zhù)半導體工藝向7nm及以下節點(diǎn)的推進(jìn)，極紫外(extreme ultraviolet，EUV)光刻成為首選的光刻技術(shù)。相關(guān)技術(shù)的EUV光刻機中采用強相干光源在進(jìn)行光刻時(shí)，相干光經(jīng)照明系統分割成的多個(gè)子光束具有固定的相位關(guān)系，當
- 關(guān)鍵字： EUV 光刻 華為
美光：成功繞過(guò)了EUV光刻技術(shù)
- 本周美光宣布，采用全球先進(jìn)1β(1-beta)制造工藝的DRAM內存芯片已經(jīng)送樣給部分手機制造商、芯片平臺合作伙伴進(jìn)行驗證，并做好了量產(chǎn)準備。1β工藝可將能效提高約15％，存儲密度提升35％以上，單顆裸片(Die)容量高達16Gb(2GB)。一個(gè)值得關(guān)注的點(diǎn)是，美光稱(chēng)，1β繞過(guò)了EUV（極紫外光刻）工具，而依然采用的是DUV（深紫外光刻）。這意味著(zhù)相較于三星、SK海力士，美光需要更復雜的設計方案。畢竟，DRAM的先進(jìn)性很大程度上取決于每平方毫米晶圓面積上集成更多更快半導體的能力，各公司目前通過(guò)不斷縮小電路
- 關(guān)鍵字： 美光 EUV 光刻技術(shù)
芯片巨頭美光：成功繞過(guò)了EUV光刻技術(shù)
- 本周美光宣布，采用全球最先進(jìn)1β(1-beta)制造工藝的DRAM內存芯片已經(jīng)送樣給部分手機制造商、芯片平臺合作伙伴進(jìn)行驗證，并做好了量產(chǎn)準備?！ ?β工藝可將能效提高約15％，存儲密度提升35％以上，單顆裸片(Die)容量高達16Gb(2GB)?！ ∫粋€(gè)值得關(guān)注的點(diǎn)是，美光稱(chēng)，1β繞過(guò)了EUV（極紫外光刻）工具，而依然采用的是DUV（深紫外光刻）?！ ∵@意味著(zhù)相較于三星、SK海力士，美光需要更復雜的設計方案。畢竟，DRAM的先進(jìn)性很大程度上取決于每平方毫米晶圓面積上集成更多更快半導體的能力，各公司目
- 關(guān)鍵字： 美光 DRAM 內存芯片 光刻機 EUV
ASML：有望繼續向中國出貨非EUV光刻機
- 近期，全球半導體龍頭設備企業(yè)阿斯麥（ASML）、泛林（LAM）公布了其最新一季度財報，阿斯麥方面，最新一季度銷(xiāo)售額和利潤均超出市場(chǎng)預期，其新的凈預訂額也創(chuàng )下了紀錄。此外阿斯麥CEO Peter Wennink表示，ASML有望繼續向中國出貨非EUV光刻機；泛林方面，當季公司營(yíng)收創(chuàng )下歷史新高，官方表示，2023年晶圓廠(chǎng)設備支出將下滑。ASML：有望繼續向中國出貨非EUV光刻機10月19日，光刻機大廠(chǎng)阿斯麥公布了2022年第三季度財報。數據顯示，ASML第三季度凈營(yíng)收同比增長(cháng)10%至58億歐元，超出此前業(yè)界預
- 關(guān)鍵字： ASML EUV 光刻機 泛林
半導體廠(chǎng)倚重EUV 先進(jìn)微影技術(shù)的強勁需求
- 微影設備業(yè)者ASML第一季已完成136臺極紫外光（EUV）曝光機出貨，累計超過(guò)7,000萬(wàn)片晶圓完成EUV曝光。隨著(zhù)EUV微影技術(shù)推進(jìn)，預期2025年之后新一代EUV曝光機每小時(shí)曝光產(chǎn)量可達220片以上，以因應客戶(hù)端先進(jìn)制程推進(jìn)至埃米（Angstrom）世代對先進(jìn)微影技術(shù)的強勁需求。雖然2023年半導體市況能見(jiàn)度低且不確定性高，但包括臺積電、英特爾、三星、SK海力士、美光等全球前五大半導體廠(chǎng)仍積極投資EUV產(chǎn)能，加上制程推進(jìn)會(huì )帶動(dòng)光罩層數增加，法人樂(lè )觀(guān)看好家登、帆宣、公準、意德士（等EUV概念股明年營(yíng)運將
- 關(guān)鍵字： 微影技術(shù) ASML EUV
荷蘭光刻機巨頭大舉增加在華員工 背后有什么深意？
- 在美國拼命打壓中國之際，荷蘭光刻機巨頭ASML卻相反，根據該公司透露的消息，ASML今年將在中國招聘200多名員工，以跟上中國的增長(cháng)步伐，這意味著(zhù)ASML 在華員工人數已超過(guò) 1500 人，占ASML公司全球員工的14%。那么，ASML到底想干什么呢？首先，ASML公司是想賺錢(qián)，雖然臺積電、三星等買(mǎi)去了荷蘭ASML公司的大部分EUV光刻機，但ASML公司可以在中國銷(xiāo)售DUV等光刻機。而且，2021年ASML的第一大客戶(hù)就是中國大陸芯片企業(yè)，中國大陸芯片企業(yè)為ASML貢獻了超過(guò)290億美元，而中國臺灣和韓國
- 關(guān)鍵字： ASML EUV
nxe:3800e euv介紹
您好，目前還沒(méi)有人創(chuàng )建詞條nxe:3800e euv!
歡迎您創(chuàng )建該詞條，闡述對nxe:3800e euv的理解，并與今后在此搜索nxe:3800e euv的朋友們分享。 創(chuàng )建詞條
歡迎您創(chuàng )建該詞條，闡述對nxe:3800e euv的理解，并與今后在此搜索nxe:3800e euv的朋友們分享。 創(chuàng )建詞條
nxe:3800e euv專(zhuān)欄文章
關(guān)于我們 -
廣告服務(wù) -
企業(yè)會(huì )員服務(wù) -
網(wǎng)站地圖 -
聯(lián)系我們 -
征稿 -
友情鏈接 -
手機EEPW
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權所有 北京東曉國際技術(shù)信息咨詢(xún)有限公司
京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案：1101082052 京公網(wǎng)安備11010802012473
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權所有 北京東曉國際技術(shù)信息咨詢(xún)有限公司
京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案：1101082052 京公網(wǎng)安備11010802012473