ASML發(fā)布Q2季度財報 EUV光刻機產(chǎn)能大增

掌握全球唯一EUV光刻機研發(fā)、生產(chǎn)的荷蘭ASML（阿斯麥）公司今天發(fā)布了2019年Q2季度財報，當季營(yíng)收25.68億歐元，其中凈設備銷(xiāo)售額18.51億歐元，總計出貨了41臺光刻機，其中EUV光刻機7臺。

在Q2季度中，ASML公司獲得了10臺EUV光刻機訂單，而且這些訂單不只是用于邏輯半導體工藝，還首次用于存儲芯片——在此之前，三星表示將在未來(lái)的內存芯片生產(chǎn)中使用EUV光刻機，ASML的存儲芯片訂單應該是來(lái)自三星了。

對于EUV光刻機，目前最主要的問(wèn)題還是產(chǎn)能不足，ASML現在出售的光刻機型號是NXE:3400B，每小時(shí)晶圓產(chǎn)能是150到155wph，不過(guò)Q2季度中ASML已經(jīng)升級到了NXE:3400C型號，產(chǎn)能提升到了170wph，已經(jīng)有客戶(hù)做到了每天生產(chǎn)2000片晶圓的水平了。

根據ASML的路線(xiàn)圖，未來(lái)EUV光刻機的產(chǎn)品還會(huì )再有一次提升，每小時(shí)晶圓產(chǎn)能最終將達到185wph，不過(guò)要等到2021到2022年了。

再往后的話(huà)，EUV光刻機就要進(jìn)入下一代了，提升光刻分辨率要靠新的物鏡系統，ASML前幾年就投資了蔡司光學(xué)20億美元，雙方將共同研發(fā)NA=0.55的High NA（高數值孔徑）透鏡，可以進(jìn)一步提升光刻機的分辨率。

根據ASML的計劃，High NA（高數值孔徑）透鏡的新一代EUV光刻機與在3nm節點(diǎn)引入，時(shí)間點(diǎn)是2023年到2025年，距離現在還早呢。