不用EUV光刻機就搞定類(lèi)7nm工藝？中芯國際回應

　　做為國內最大也是最先進(jìn)的半導體制造公司，中芯國際在先進(jìn)工藝上的進(jìn)展引人關(guān)注，其中7nm及以下節點(diǎn)非常重要，這還牽涉到EUV光刻機。

　　日前有股民在互動(dòng)平臺上詢(xún)問(wèn)，稱(chēng)有報道指出中芯國際不用EUV光刻就攻克了類(lèi)7nm工藝，要求中芯國際澄清。

　　對此，中芯國際表示，公司不針對傳言進(jìn)行評論。

　　從中芯國際官網(wǎng)的介紹來(lái)看，該公司提到的最先進(jìn)工藝還是14nm，接下來(lái)的是N+1、N+2工藝，但沒(méi)有指明具體的工藝節點(diǎn)。

　　中芯國際聯(lián)合CEO趙海軍曾表示，經(jīng)過(guò)三年的積累，FinFET工藝已經(jīng)取得了不錯的成績(jì)，N+1已經(jīng)進(jìn)入了風(fēng)險量產(chǎn)，但是在外部因素的影響下，去年四季度起FinFET的產(chǎn)能利用率不足，爬坡需要時(shí)間，營(yíng)收奉獻尚未達到預期水準，折舊又對公司整體的盈利造成了負擔。