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臺積電美國設廠(chǎng)貴又慢?工程師揭關(guān)鍵:EUV機臺組裝超乎想象

  • 臺積電熊本廠(chǎng)已在2月底開(kāi)幕,美國亞利桑那州新廠(chǎng)卻從2024年遞延至2025年量產(chǎn),美國一名結構工程師撰文指出,在美國蓋晶圓廠(chǎng)的速度比世界其他地方慢,建造成本也比世界其他地區高出30%到4倍。而蓋晶圓廠(chǎng)比想象中復雜,以ASML的一臺先進(jìn)EUV曝光機為例,可能裝在40個(gè)貨柜中,需要漫長(cháng)而仔細的組裝過(guò)程。美國進(jìn)步中心(Institute of Progress)學(xué)者、結構工程師波特(Brian Potter)以如何建造一座價(jià)值200億美元的半導體廠(chǎng)為題撰文指出,隨著(zhù)摩爾定律的發(fā)展,芯片已變得越來(lái)越小、越來(lái)越便宜
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財經(jīng)專(zhuān)家揭秘臺積電「抗震神器」:1鈴聲預告出大事

  • 花蓮外海3日上午發(fā)生規模7.2大地震,臺積電昨晚間發(fā)聲明,震后10小時(shí)內,晶圓廠(chǎng)設備的復原率已超過(guò)70%,雖少數設備受損并影響部分產(chǎn)線(xiàn)生產(chǎn),但主要機臺包含所有極紫外(EUV)光刻設備皆無(wú)受損。對此,財經(jīng)專(zhuān)家黃世聰表示,臺積電晶圓廠(chǎng)的機臺,使用的是美國航天等級、連美軍都在用的阻尼器,且下方還有抗震減壓的機臺,把地震影響降到最小,且臺積電工程師訓練有素,只要發(fā)生地震、聽(tīng)到公司手機響起臺積電之歌的鈴聲,就知道出大事、要趕回公司。臺積電產(chǎn)能牽動(dòng)全球科技業(yè),強震后外界關(guān)注影響。臺積電昨晚發(fā)布聲明,在3日地震發(fā)生后僅
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臺積電曝EUV主要機臺沒(méi)受損 美媒示警:強震后面臨考驗

  • 昨日花蓮發(fā)生規模7.2地震,外媒高度關(guān)注是否對中國臺灣護國神山臺積電造成影響,臺積電表示,部分廠(chǎng)區的少數設備受損,但所有極紫外(EUV)光刻設備等主要機臺皆無(wú)受損?!度A爾街日報》撰文指出,臺積電坐落在世界上最大地震熱點(diǎn)之一的中國臺灣,在昨日強震后將受到考驗。報導指出,在此次地震中臺積電是幸運的,因為其主要設施地點(diǎn)位在北、中、南部,與東部的震央距離相對較遠,這次臺積電新竹、龍潭和竹南等科學(xué)園區的最大震度為5級 ,臺中和臺南科學(xué)園區的最大震度4級。雖然臺積電工廠(chǎng)建筑物完好無(wú)損,但用于制造半導體的設備和材料非常
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中國臺灣地震影響全球半導體業(yè) 一文看懂如何撼動(dòng)芯片供應鏈

  • 3日早上7點(diǎn)58分左右,中國臺灣花蓮發(fā)生規模7.2地震,擾亂臺積電在內的公司營(yíng)運,臺積電對此表示,雖然部分廠(chǎng)區的少數設備受損并影響部分產(chǎn)線(xiàn)生產(chǎn),但主要機臺包含所有極紫外(EUV)光刻設備皆無(wú)受損。許多外媒則示警,這凸顯了臺積電和全球芯片供應鏈處在地震的風(fēng)險與威脅之中。 根據《商業(yè)內幕》報導,這場(chǎng)7.2強震凸顯了全球芯片供應鏈和臺積電的脆弱性,臺積電是世界上最大的芯片制造商,全球大約90%的最先進(jìn)處理器芯片都是臺積電生產(chǎn),而且中國臺灣也是小型芯片生產(chǎn)商的所在地。報導示警,如果大地震能夠擾亂臺積電,那么更具破
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High-NA EUV光刻機入場(chǎng),究竟有多強?

  • 光刻機一直是半導體領(lǐng)域的一個(gè)熱門(mén)話(huà)題。從早期的深紫外光刻機(DUV)起步,其穩定可靠的性能為半導體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展奠定了堅實(shí)基礎;再到后來(lái)的極紫外光刻機(EUV)以其獨特的極紫外光源和更短的波長(cháng),成功將光刻精度推向了新的高度;再到如今的高數值孔徑光刻機(High-NA)正式登上歷史舞臺,進(jìn)一步提升了光刻的精度和效率,為制造更小、更精密的芯片提供了可能。ASML 官網(wǎng)顯示,其組裝了兩個(gè) TWINSCAN EXE:5000 高數值孔徑光刻系統。其中一個(gè)由 ASM 與 imec 合作開(kāi)發(fā),將于 2024 年安裝在 A
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ASML 新款 NXE:3800E EUV 光刻機引入部分 High-NA 機型技術(shù)

  • 3 月 27 日消息,據荷蘭媒體 Bits&Chips 報道,ASML 官方確認新款 0.33NA EUV 光刻機 ——NXE:3800E 引入了部分 High-NA EUV 光刻機的技術(shù),運行效率得以提升。根據IT之家之前報道,NXE:3800E 光刻機已于本月完成安裝,可實(shí)現 195 片晶圓的每小時(shí)吞吐量,相較以往機型的 160 片提升近 22%。下一代光刻技術(shù) High-NA(高數值孔徑) EUV 采用了更寬的光錐,這意味著(zhù)其在 EUV 反射鏡上的撞擊角度更寬,會(huì )導致影響晶圓吞吐量的光損失。
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ASML正計劃搬離荷蘭?向外擴張轉移業(yè)務(wù)成為最優(yōu)解

  • 據路透社報道,光刻機巨頭阿斯麥(ASML)正計劃將公司搬離荷蘭。荷蘭政府緊急成立了一個(gè)名為“貝多芬計劃”的特別工作組,由首相馬克·呂特親自領(lǐng)導,以確保ASML繼續在荷蘭發(fā)展。消息還稱(chēng),ASML已向荷蘭政府提出了意向,表示將有可能在其他地方擴張或遷移,法國或是選擇之一。針對最近“搬離荷蘭”等傳言,ASML發(fā)言人對媒體稱(chēng)他們在考慮公司的未來(lái),但沒(méi)有透露具體的想法。ASML為何要搬離荷蘭?憑借先天的地理位置及海港內陸網(wǎng)絡(luò ),荷蘭一直為歐洲的交通樞紐,國家經(jīng)濟高度依賴(lài)國際貿易,2022年最新出口額占全國GDP之比超
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韓國芯片巨頭SK海力士計劃升級在華工廠(chǎng)

  • 據韓媒報道,韓國芯片巨頭SK海力士準備打破美國對華極紫外(EUV)光刻機出口相關(guān)限制,對其中國半導體工廠(chǎng)進(jìn)行技術(shù)提升改造。這被外界解讀為,隨著(zhù)半導體市場(chǎng)的復蘇以及中國高性能半導體制造能力提升,一些韓國芯片企業(yè)準備采取一切可以使用的方法來(lái)提高在華工廠(chǎng)制造工藝水平。韓國《首爾經(jīng)濟》13日的報道援引韓國業(yè)內人士的話(huà)稱(chēng),SK海力士計劃今年將其中國無(wú)錫工廠(chǎng)的部分動(dòng)態(tài)隨機存取存儲器(DRAM)生產(chǎn)設備提升至第四代10納米工藝。對于“無(wú)錫工廠(chǎng)將技術(shù)升級”的消息,SK海力士方面表示“無(wú)法確認工廠(chǎng)的具體運營(yíng)計劃”。無(wú)錫工廠(chǎng)
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英特爾是否正在壟斷ASML HIGH NA光刻機?

英特爾拿下首套High-NA EUV,臺積電如何應對?

  • 英特爾(intel)近日宣布,已經(jīng)接收市場(chǎng)首套具有0.55數值孔徑(High-NA)的ASML極紫外(EUV)光刻機,預計在未來(lái)兩到三年內用于 intel 18A 工藝技術(shù)之后的制程節點(diǎn)。 相較之下,臺積電則采取更加謹慎的策略,業(yè)界預計臺積電可能要到A1.4制程,或者是2030年之后才會(huì )采用High-NA EUV光刻機。業(yè)界指出,至少在初期,High-NA EUV 的成本可能高于 Low-NA EUV,這也是臺積電暫時(shí)觀(guān)望的原因,臺積電更傾向于采用成本更低的成熟技術(shù),以確保產(chǎn)品競爭力。Hig
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ASML兩款光刻機出口許可被撤銷(xiāo)

  • 1月2日,全球光刻機龍頭ASML在官網(wǎng)發(fā)布聲明稱(chēng),荷蘭政府最近撤銷(xiāo)了此前頒發(fā)給其2023年發(fā)貨NXT:2050i和NXT:2100i光刻機的部分出口許可證,這將對ASML在中國內地的個(gè)別客戶(hù)產(chǎn)生影響。在聲明中,ASML表示:“在新的出口管制條例下,今年(指2023年)年底前ASML仍能履行已簽訂的合同,發(fā)運這些光刻設備??蛻?hù)也已知悉出口管制條例所帶來(lái)的限制,即自2024年1月1日起,ASML將基本不會(huì )獲得向中國客戶(hù)發(fā)運這些設備的出口許可證?!鳖A計此次出口許可證撤銷(xiāo)及最新的美國出口管制限制不會(huì )對公司2023
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?ASML被禁止向中國運送其部分關(guān)鍵的芯片制造工具

  • 半導體設備制造商ASML表示,荷蘭政府禁止其向中國出口部分工具。ASML表示,荷蘭政府最近部分撤銷(xiāo)了其N(xiāo)XT:2050i和NXT:2100i光刻系統在2023年裝運的許可證。在撤銷(xiāo)船舶許可證之前,美國政府在10月份加強了對中國先進(jìn)半導體和芯片制造工具的出口管制,并在此前的規定基礎上進(jìn)行了進(jìn)一步收緊。荷蘭公司ASML制造了制造世界上最先進(jìn)芯片所需的最重要機器之一。美國的芯片限制使包括ASML在內的公司爭先恐后地弄清楚這些規則在實(shí)踐中的含義。ASML公司該公司表示,荷蘭政府禁止其制造最先進(jìn)半導體的關(guān)鍵機器向中
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英特爾拿到首臺2nm光刻機 重回領(lǐng)先地位?

  • 12月21日,荷蘭光刻機巨頭ASML通過(guò)社交媒體宣布,其首套高數值孔徑極紫外(High-NA EUV)光刻機正從荷蘭Veldhoven總部開(kāi)始裝車(chē)發(fā)貨,將向英特爾進(jìn)行交付。數值孔徑(NA)是光刻機光學(xué)系統的重要指標,直接決定了光刻的實(shí)際分辨率和最高能達到的工藝節點(diǎn)。
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韓國總統到訪(fǎng)之際,ASML與三星達成7.52億美元的芯片廠(chǎng)協(xié)議

  • 周二,荷蘭科技巨頭ASML和三星(Samsung)簽署了一項價(jià)值約7億歐元的協(xié)議,將在韓國建設一家半導體研究廠(chǎng)。與此同時(shí),韓國總統尹錫悅(Yoon Suk Yeol)結束了這次以科技為重點(diǎn)的訪(fǎng)問(wèn)的第一天。尹錫悅是第一位到訪(fǎng)ASML高度安全的“無(wú)塵室”的外國領(lǐng)導人,這次到訪(fǎng)荷蘭的目的是在這兩個(gè)全球半導體大國之間結成“芯片聯(lián)盟”。他參觀(guān)了ASML的城市規模設施,該公司制造先進(jìn)的機器來(lái)制造半導體芯片,為從智能手機到汽車(chē)的一切提供動(dòng)力。ASML和三星后來(lái)同意“未來(lái)共同”投資該設施,該設施將“使用下一代EUV(極紫
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