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泛林集團發(fā)布應用于EUV光刻的技術(shù)突破
- 近日，泛林集團發(fā)布了一項用于EUV光刻圖形化的干膜光刻膠技術(shù)。泛林集團研發(fā)的這項全新的干膜光刻膠技術(shù)，結合了泛林集團在沉積、刻蝕工藝上的領(lǐng)導地位及其與阿斯麥?(ASML) 和比利時(shí)微電子研究中心?(imec)?戰略合作的成果，它將有助于提高EUV光刻的分辨率、生產(chǎn)率和良率。泛林集團的干膜光刻膠解決方案提供了顯著(zhù)的EUV光敏性和分辨率優(yōu)勢，從而優(yōu)化了單次EUV光刻晶圓的總成本。由于領(lǐng)先的芯片制造商已開(kāi)始將EUV光刻系統應用于大規模量產(chǎn)，進(jìn)一步提升生產(chǎn)率和分辨率將幫助他們以更合理
- 關(guān)鍵字： EUV 光刻
泛林集團在提高EUV光刻分辨率、生產(chǎn)率和良率取得技術(shù)突破
- 泛林集團與阿斯麥 (ASML) 和比利時(shí)微電子研究中心 (imec) 共同研發(fā)的全新干膜光刻膠技術(shù)將有助于提高EUV光刻的分辨率、生產(chǎn)率和良率。
- 關(guān)鍵字： 泛林 EUV 干膜光刻膠技術(shù)
2021年ASML將推下一代EUV光刻機 面向2nm、1nm工藝
- 作為全球唯一能生產(chǎn)EUV光刻機的公司,荷蘭ASML公司去年出售了26臺EUV光刻機,主要用于臺積電、三星的7nm及今年開(kāi)始量產(chǎn)的5nm工藝,預計今年出貨35臺EUV光刻機。目前ASML出貨的光刻機主要是NXE:3400B及改進(jìn)型的NXE:3400C,兩者基本結構相同,但NXE:3400C采用模塊化設計,維護更加便捷,平均維修時(shí)間將從48小時(shí)縮短到8-10小時(shí),支持7nm、5nm。此外,NXE:3400C的產(chǎn)能也從之前的125WPH(每小時(shí)處理晶圓數)提升到了175WPH。不論NXE:3400B還是NXE:
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麒麟820處理器要來(lái),6納米+EUV工藝,手有技術(shù)氣自華!
- hello,大家好,歡迎來(lái)到阿洛伊科技華為將于2月24日21:00舉行在線(xiàn)新品發(fā)布會(huì )。在疫情爆發(fā)期間,手機制造商選擇在網(wǎng)上舉行發(fā)布會(huì )。據悉,此次發(fā)布會(huì )的主題是“共同未來(lái)”。從海報上看,本次大會(huì )將涵蓋多個(gè)類(lèi)別,包括折疊手機、筆記本電腦、平板電腦、智能手表、智能家居等,不過(guò),據媒體透露,本次大會(huì )將會(huì )有一個(gè)驚喜,即將發(fā)布最新的旗艦SOC麒麟820處理器。與上一代麒麟810相比,該處理器有哪些升級?讓我們看看。麒麟820處理器將采用cortex A76架構。不采用最新的cortex a77架構的主要原因是,ARM
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臺積電遇強大對手!6nm、7nm EUV開(kāi)啟全面量產(chǎn),中國仍需努力!
- 告別了諾基亞、HTC、黑莓等手機,目前的智能手機陣營(yíng)也就是安卓和蘋(píng)果,而智能手機儼然就是人們的第二個(gè)精神生命,手機不離手已經(jīng)成為了一種現象,但是對于智能手機來(lái)說(shuō),除了軟件以外,最重要最核心的就是手機芯片了!但是在全世界來(lái)說(shuō),能夠生產(chǎn)高端芯片的廠(chǎng)商少之又少,主要還是因為納米級制程工藝的技術(shù)壁壘,誰(shuí)能夠率先突破制程工藝,誰(shuí)都將會(huì )在半導體芯片上拔得頭籌,對于中國來(lái)說(shuō),這一塊仍然非常的滯后,當然了如果說(shuō)臺積電也是中國的話(huà),那么中國其實(shí)還是領(lǐng)先的!但是畢竟臺積電一直以來(lái)是中國臺灣企業(yè),但其實(shí)其也一直受限于美國的政策
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面向3nm及以下工藝，ASML新一代EUV光刻機曝光
- 很快,臺積電和三星的5nm工藝即將量產(chǎn),與此同時(shí),臺積電和三星的3nm工藝也在持續的研發(fā)當中。而對于5nm及以下工藝來(lái)說(shuō),都必須依靠EUV(極紫外)光刻機才能實(shí)現。而目前全球只有一家廠(chǎng)商能夠供應EUV光刻機,那就是荷蘭的ASML。很快,臺積電和三星的5nm工藝即將量產(chǎn),與此同時(shí),臺積電和三星的3nm工藝也在持續的研發(fā)當中。而對于5nm及以下工藝來(lái)說(shuō),都必須依靠EUV(極紫外)光刻機才能實(shí)現。而目前全球只有一家廠(chǎng)商能夠供應EUV光刻機,那就是荷蘭的ASML。目前ASML出貨的EUV光刻機主要是NXE:340
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三星公布全球首顆 7nm EUV 芯片——Exynos 9825
- Exynos 9825 將搭載于三星 Galaxy Note 10 系列手機中。
- 關(guān)鍵字： 三星 Exynos 9825 EUV 芯片
三星5nm EUV研發(fā)完成：功耗降低20%
- 在芯片代工領(lǐng)域，臺積電和三星是實(shí)力最強勁的兩大巨頭。不過(guò)，最近幾年，臺積電的實(shí)力要更勝一籌，通過(guò)7nm工藝，臺積電拿到了蘋(píng)果、高通、AMD、比特大陸等多家的大訂單。而三星自家最新的Exynos 9820處理器，采用的則還是8nm工藝。今天，三星在官網(wǎng)上帶來(lái)了一個(gè)新消息，5nm EUV成功開(kāi)發(fā)完成。這對三星而言，算是一個(gè)里程碑式的成就。三星表示，與7nm相比，5nm FinFET工藝功耗降低了20％，性能提高了10％。需要說(shuō)明的是，三星的7nm工藝去年10月開(kāi)始宣布并初步生產(chǎn)，今年年初實(shí)現量產(chǎn)。最近三星曝光
- 關(guān)鍵字： 三星 EUV 5nm
euv介紹
在半導體行業(yè)，EUV一般指EUV光刻，即極紫外光刻。
極紫外光刻（英語(yǔ)：Extreme ultra-violet，也稱(chēng)EUV或EUVL）是一種使用極紫外（EUV）波長(cháng)的光刻技術(shù)。
EUV光刻采用波長(cháng)為10-14納米的極紫外光作為光源，可使曝光波長(cháng)一下子降到13.5nm,它能夠把光刻技術(shù)擴展到32nm以下的特征尺寸。
根據瑞利公式（分辨率=k1·λ/NA），這么短的波長(cháng)可以提供極高 [ 查看詳細 ]
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