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臺積電美國亞利桑那工廠(chǎng)導入首臺 EUV 設備，預計 2025 年量產(chǎn) 4nm 芯片
- IT之家 8 月 22 日消息，法拉第未來(lái)在最新的季度報告中稱(chēng)，其虧損有所縮小，并表示已經(jīng)進(jìn)入創(chuàng )收階段。該公司在截至 6 月 30 日的第二季度的虧損為 1.249 億美元（IT之家備注：當前約 9.13 億元人民幣），即每股 10 美分，而去年同期的虧損為 1.417 億美元，即每股 44 美分。法拉第未來(lái)在本季度沒(méi)有報告任何收入?？傔\營(yíng)費用從 1.375 億美元降至 4,940 萬(wàn)美元，主要是由于研發(fā)和管理費用的減少。法拉第未來(lái)在給投資者的信中表示，公司計劃在未來(lái)幾個(gè)月內將其制造團隊擴大兩倍
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ASML：數值孔徑0.75超高NA EUV光刻設備2030年登場(chǎng)
- 據日本媒體報導，光刻機設備龍頭阿斯麥（ASML）執行副總裁Christophe Fouquet近日在比利時(shí)imec年度盛會(huì )ITF World 2023表示，半導體產(chǎn)業(yè)需要2030年開(kāi)發(fā)數值孔徑0.75的超高NA EUV光刻技術(shù)，滿(mǎn)足半導體發(fā)展。Christophe Fouquet表示，自2010年以來(lái)EUV技術(shù)越來(lái)越成熟，半導體制程微縮至2020年前后三年，以超過(guò)50%幅度前進(jìn)，不過(guò)速度可能會(huì )在2030年放緩。故ASML計劃年底前發(fā)表首臺商用High-NA（NA=0.55）EUV微影曝光設備（原型制作），
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與EUV相比，這一光刻技術(shù)更具發(fā)展潛力
- 對于半導體行業(yè)而言，光刻技術(shù)和設備發(fā)揮著(zhù)基礎性作用，是必不可少的。所謂光刻，就是將設計好的圖形從掩模版轉印到晶圓表面的光刻膠上所使用的技術(shù)。光刻技術(shù)最先應用于印刷工業(yè)，之后長(cháng)期用于制造印刷電路板（PCB），1950 年代，隨著(zhù)半導體技術(shù)的興起，光刻技術(shù)開(kāi)始用于制造晶體管和集成電路（IC）。目前，光刻是 IC 制造過(guò)程中最基礎，也是最重要的技術(shù)。在半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展史上，光刻技術(shù)的發(fā)展經(jīng)歷了多個(gè)階段，接觸/接近式光刻、光學(xué)投影光刻、分步（重復）投影光刻出現時(shí)間較早，集成電路生產(chǎn)主要采用掃描式光刻、浸沒(méi)式掃描光刻
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今年轉向4nm EUV工藝 英特爾退役11代酷睿移動(dòng)版：10nm再見(jiàn)了
- 6月7日消息，英特爾今年下半年將會(huì )推出14代酷睿Meteor Lake處理器，首發(fā)Intel 4工藝，這是該公司首款EUV工藝，而且還會(huì )用上全新3D封裝工藝，處理器變化非常大。在迎接4nm EUV的同時(shí)，英特爾也在加快清理遺產(chǎn)，2020年發(fā)布的11代酷睿Tiger Lake處理器現在也進(jìn)入了退役階段，這一批主要是中低端的酷睿i7/i5/i3及賽揚系列，包括U系列及H35系列，最高端的就是酷睿i7-1165G7。與之一同退役的還有配套的500系芯片組，包括RM590E，HM570E和QM580E系列。這些產(chǎn)
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消息稱(chēng)三星半導體將減少 10% 晶圓投片量，EUV 產(chǎn)線(xiàn)成重災區
- IT之家 5 月 26 日消息，據韓媒 Aju News 報道，三星計劃自 2023 年第三季度開(kāi)始，對韓國華城園區 S3 工廠(chǎng)減少至少 10% 的晶圓投片量?！?圖源：三星報道稱(chēng)，三星半導體將在第三季度開(kāi)始，對華城園區 S3 工廠(chǎng)進(jìn)行減產(chǎn)作業(yè)。S3 工廠(chǎng)是三星半導體于 2018 年建成投產(chǎn)的 12 英寸生產(chǎn)線(xiàn)，目前主要生產(chǎn) 10nm 至 7nm 產(chǎn)品，也是三星半導體 EUV 先進(jìn)工藝的主力生產(chǎn)廠(chǎng)之一，三星為其部署了多臺 ASML 的 NXE3400 EUV 光刻機。Aju News
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2025搞定2nm工藝 日本芯片公司Rapidus已搞定EUV光刻機
- 5月17日消息，原本已經(jīng)落后的日本半導體制造行業(yè)近年來(lái)加快了追趕速度，去年8月份索尼、豐田等8家企業(yè)出資成立了Rapidus，計劃2025年試產(chǎn)2nm工藝，而且很快就籌備了EUV光刻機。日本當前的邏輯工藝還在28nm以上，但是Rapidus公司選擇跳過(guò)中間的工藝，直接搞2nm工藝，而5nm以下的工藝都離不開(kāi)EUV光刻機，不論研發(fā)還是制造都要先買(mǎi)設備。Rapidus社長(cháng)小池淳義日前在采訪(fǎng)中透露，他們已經(jīng)完成了1臺EUV光刻機的籌備，不過(guò)具體的型號及進(jìn)度沒(méi)有說(shuō)明，不確定是ASML的哪款EUV光刻機，何時(shí)安裝、
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柔弱的雕刻大師——EUV光刻機
- 在如今這個(gè)信息時(shí)代，如果說(shuō)我們的世界是由芯片堆積起來(lái)的高樓大廈，那么芯片制造，則是這里面高樓的地基，而談到芯片制造各位讀者自然就能想到光刻機，沒(méi)錯，作為人類(lèi)商業(yè)化機器的工程奇跡，光刻機自然是量產(chǎn)高性能芯片的必要設備。特別是隨著(zhù)這幾年中美貿易戰的加劇，光刻機這種大部分可能一生都不會(huì )見(jiàn)到的機器一下子成了婦孺皆知的存在，那么光刻機是如何工作的呢？它是如何在方寸之間的芯片上雕刻出上百億的晶體管的呢？本篇文章就著(zhù)重給大家介紹一下目前最先進(jìn)，也是我國被“卡脖子”的EUV（極紫外）光刻機。? ? &
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ASML預測，未來(lái)九個(gè)月對中國的銷(xiāo)量將大幅回升
- ASML 財務(wù)總監 Roger Daasen 表示，今年未來(lái)幾個(gè)季度中國大陸的銷(xiāo)量將顯著(zhù)回升。
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EUV機臺被砍單？ 業(yè)界：不太可能
- 終端市場(chǎng)需求低迷，近期市場(chǎng)傳出臺積電將宣布調降今年資本支出，恐沖擊艾司摩爾（ASML）及應用材料等設備廠(chǎng)出貨，甚至傳出艾司摩爾極紫外光（EUV）機臺被砍單消息，不過(guò)業(yè)界普遍認為可能性不高，原因在于EUV機臺交期長(cháng)達12～15個(gè)月，且中長(cháng)期來(lái)看EUV產(chǎn)能仍供不應求。 ASML預計19日舉行法人說(shuō)明會(huì )，可望針對EUV曝光機已接訂單（backlog）變化提出說(shuō)明。半導體生產(chǎn)鏈仍在進(jìn)行庫存調整，市場(chǎng)傳出臺積電可能在法人說(shuō)明會(huì )中下修全年資本支出，加上內存廠(chǎng)放慢擴產(chǎn)計劃，將導致EUV曝光機訂單減少或延后，受此消息影響
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國產(chǎn)光刻機的「行軍難」
- 3 月 8 日，ASML 發(fā)表聲明回應荷蘭政府即將出臺的半導體設備出口管制措施。ASML 稱(chēng)，這些新的出口管制措施側重于先進(jìn)的芯片制造技術(shù)，包括最先進(jìn)的沉積設備和浸潤式光刻系統，ASML 將需要申請出口許可證才能發(fā)運最先進(jìn)的浸潤式 DUV 系統。ASML 強調，這些管制措施需要一定時(shí)間才能付諸立法并生效。3 月 9 日，外交部例行記者會(huì )上，有媒體提問(wèn)，據報道，荷蘭外貿與發(fā)展合作大臣施賴(lài)納馬赫爾向荷議會(huì )致函稱(chēng)，出于國家安全考慮，荷蘭將于今年夏天之前對其芯片出口實(shí)施限制性措施。中方對此有何評論？外交部發(fā)言人毛
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ASML堵了EUV光刻機的路，但國產(chǎn)光刻機有3大新方向
- 眾所周知，當前全球只有ASML一家能夠生產(chǎn)EUV光刻機，甚至可以說(shuō)很長(cháng)一段時(shí)間內，全球也只有ASML能夠生產(chǎn)光刻機，不會(huì )有第二家。原因在于A(yíng)SML把EUV光刻機的路堵住了，這條路別人是走不通的。ASML與全球眾多的供應鏈，形成了捆綁關(guān)系，像蔡司等與ASML形成了利益共同體，EUV光刻機中，蔡司等廠(chǎng)商至關(guān)重要，掌握核心科技，缺少這些供應鏈，其它廠(chǎng)商不可能制造出EUV光刻機。所以，目前眾多的其它光刻機企業(yè)，并不打算走EUV光刻機這條路，在另尋它路。同樣的，國產(chǎn)光刻機基本上也走不通EUV這條路，只能另尋他路，而
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美國發(fā)起的對華聯(lián)合出口限制留下漏洞？
- 據報道，荷蘭和日本已與美國達成協(xié)議，共同限制向中國出口芯片制造工具，這將進(jìn)一步削弱中國半導體行業(yè)的發(fā)展，因為除了限制中國制造商使用 EUV 光刻機外，進(jìn)一步限制其使用浸沒(méi)式 DUV 光刻機。但在美國對中國發(fā)起的嚴格出口限制中，中國半導體企業(yè)是否可以利用任何關(guān)鍵漏洞來(lái)緩沖沖擊？這似乎是一個(gè)值得仔細研究的問(wèn)題。近年來(lái)，美國加大了對中國半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的打壓力度。不僅設計了各種策略和行動(dòng)，還動(dòng)員了盟友的參與。在 2022 年 10 月對向中國出口先進(jìn)芯片制造工具和技術(shù)實(shí)施全面出口限制后，美國急于讓擁有 ASML
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EUV光刻機開(kāi)始“落幕”了
- 說(shuō)到光刻機大家難免會(huì )想到三個(gè)廠(chǎng)商，荷蘭的ASML公司、尼康和佳能。而光刻機就是制造芯片的核心裝備?，F如今光刻機領(lǐng)域的核心地位就是荷蘭的ASML，他與臺積電合作，共同突破了沉浸式DUV光刻機，也正因為此動(dòng)作，才奠定了ASML在光刻機領(lǐng)域的核心地位。后續ASML又推出了更加高端的EUV光刻機，而且還是獨家壟斷生產(chǎn)。這就進(jìn)一步使得ASML成為行業(yè)的巨頭。隨著(zhù)科技的不斷發(fā)展，市場(chǎng)就要越來(lái)越追求高性能以及高要求，ASLM造成的長(cháng)時(shí)間壟斷，導致其他同行沒(méi)有辦法發(fā)展。在他自身無(wú)法突破的前提下，他的路是越走越窄。在全球范
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euv介紹
在半導體行業(yè)，EUV一般指EUV光刻，即極紫外光刻。
極紫外光刻（英語(yǔ)：Extreme ultra-violet，也稱(chēng)EUV或EUVL）是一種使用極紫外（EUV）波長(cháng)的光刻技術(shù)。
EUV光刻采用波長(cháng)為10-14納米的極紫外光作為光源，可使曝光波長(cháng)一下子降到13.5nm,它能夠把光刻技術(shù)擴展到32nm以下的特征尺寸。
根據瑞利公式（分辨率=k1·λ/NA），這么短的波長(cháng)可以提供極高 [ 查看詳細 ]
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