2025搞定2nm工藝 日本芯片公司Rapidus已搞定EUV光刻機

5月17日消息，原本已經(jīng)落后的日本半導體制造行業(yè)近年來(lái)加快了追趕速度，去年8月份索尼、豐田等8家企業(yè)出資成立了Rapidus，計劃2025年試產(chǎn)2nm工藝，而且很快就籌備了EUV光刻機。

日本當前的邏輯工藝還在28nm以上，但是Rapidus公司選擇跳過(guò)中間的工藝，直接搞2nm工藝，而5nm以下的工藝都離不開(kāi)EUV光刻機，不論研發(fā)還是制造都要先買(mǎi)設備。

Rapidus社長(cháng)小池淳義日前在采訪(fǎng)中透露，他們已經(jīng)完成了1臺EUV光刻機的籌備，不過(guò)具體的型號及進(jìn)度沒(méi)有說(shuō)明，不確定是ASML的哪款EUV光刻機，何時(shí)安裝、測試也沒(méi)公布。

Rapidus公司成立了僅僅9個(gè)月多，不到一年時(shí)間就籌備完成EUV光刻機，進(jìn)度確實(shí)很快。

小池淳義表示，通常大規模量產(chǎn)先進(jìn)工藝需要至少1000名工程師，但他們引入了AI和自動(dòng)化技術(shù)，現在有500名工程師了，用一半的資源就能完成。

根據該公司的計劃，他們2025年試產(chǎn)2nm工藝，2027年量產(chǎn)，2030年代預計營(yíng)收將達到1萬(wàn)億日元。