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ASML兩款光刻機出口許可被撤銷(xiāo)
- 1月2日，全球光刻機龍頭ASML在官網(wǎng)發(fā)布聲明稱(chēng)，荷蘭政府最近撤銷(xiāo)了此前頒發(fā)給其2023年發(fā)貨NXT:2050i和NXT:2100i光刻機的部分出口許可證，這將對ASML在中國內地的個(gè)別客戶(hù)產(chǎn)生影響。在聲明中，ASML表示：“在新的出口管制條例下，今年（指2023年）年底前ASML仍能履行已簽訂的合同，發(fā)運這些光刻設備?？蛻?hù)也已知悉出口管制條例所帶來(lái)的限制，即自2024年1月1日起，ASML將基本不會(huì )獲得向中國客戶(hù)發(fā)運這些設備的出口許可證?！鳖A計此次出口許可證撤銷(xiāo)及最新的美國出口管制限制不會(huì )對公司2023
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?ASML被禁止向中國運送其部分關(guān)鍵的芯片制造工具
- 半導體設備制造商ASML表示，荷蘭政府禁止其向中國出口部分工具。ASML表示，荷蘭政府最近部分撤銷(xiāo)了其N(xiāo)XT：2050i和NXT：2100i光刻系統在2023年裝運的許可證。在撤銷(xiāo)船舶許可證之前，美國政府在10月份加強了對中國先進(jìn)半導體和芯片制造工具的出口管制，并在此前的規定基礎上進(jìn)行了進(jìn)一步收緊。荷蘭公司ASML制造了制造世界上最先進(jìn)芯片所需的最重要機器之一。美國的芯片限制使包括ASML在內的公司爭先恐后地弄清楚這些規則在實(shí)踐中的含義。ASML公司該公司表示，荷蘭政府禁止其制造最先進(jìn)半導體的關(guān)鍵機器向中
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韓國總統到訪(fǎng)之際，ASML與三星達成7.52億美元的芯片廠(chǎng)協(xié)議
- 周二，荷蘭科技巨頭ASML和三星（Samsung）簽署了一項價(jià)值約7億歐元的協(xié)議，將在韓國建設一家半導體研究廠(chǎng)。與此同時(shí)，韓國總統尹錫悅（Yoon Suk Yeol）結束了這次以科技為重點(diǎn)的訪(fǎng)問(wèn)的第一天。尹錫悅是第一位到訪(fǎng)ASML高度安全的“無(wú)塵室”的外國領(lǐng)導人，這次到訪(fǎng)荷蘭的目的是在這兩個(gè)全球半導體大國之間結成“芯片聯(lián)盟”。他參觀(guān)了ASML的城市規模設施，該公司制造先進(jìn)的機器來(lái)制造半導體芯片，為從智能手機到汽車(chē)的一切提供動(dòng)力。ASML和三星后來(lái)同意“未來(lái)共同”投資該設施，該設施將“使用下一代EUV（極紫
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佳能押注納米壓印技術(shù) 價(jià)格比阿斯麥EUV光刻機“少一位數”
- 11月6日消息，日本佳能一直在投資納米壓?。∟ano-imprint Lithography，NIL）這種新的芯片制造技術(shù)，并計劃將新型芯片制造設備的價(jià)格定在阿斯麥最好光刻機的很小一部分，從而在光刻機領(lǐng)域取得進(jìn)展。納米壓印技術(shù)是極紫外光刻（EUV）技術(shù)的低成本替代品。佳能首席執行官御手洗富士夫(Fujio Mitarai)表示，該公司最新的納米壓印技術(shù)將為小型芯片制造商生產(chǎn)先進(jìn)芯片開(kāi)辟出一條道路?！斑@款產(chǎn)品的價(jià)格將比阿斯麥的EUV少一位數，”現年88歲的御手洗富士夫表示。這是他第三次擔任佳能總裁，上一次退
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納米壓?。阂粋€(gè)「備胎」走向「臺前」的故事
- 佳能在 10 月 13 日宣布，正式推出納米壓印半導體制造設備。對于 2004 年就開(kāi)始探索納米壓印技術(shù)的佳能來(lái)說(shuō)，新設備的推出無(wú)疑是向前邁出了一大步。佳能推出的這個(gè)設備型號是 FPA-1200NZ2C，目前可以實(shí)現最小線(xiàn)寬 14nm 的圖案化，相當于生產(chǎn)目前最先進(jìn)的邏輯半導體所需的 5 納米節點(diǎn)。佳能表示當天開(kāi)始接受訂單，目前已經(jīng)向東芝供貨。半導體行業(yè)可謂是「苦光刻機久已」，納米壓印設備的到來(lái)，讓期盼已久的半導體迎來(lái)一線(xiàn)曙光。那么什么是納米壓印技術(shù)？這種技術(shù)距離真的能夠取代光刻機嗎？納米壓印走向臺前想要
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EUV光刻技術(shù)仍需克服的三個(gè)缺點(diǎn)
- 光刻技術(shù)是指在光照作用下，借助光致抗蝕劑（又名光刻膠）將掩膜版上的圖形轉移到基片上的技術(shù)。其主要過(guò)程為：首先紫外光通過(guò)掩膜版照射到附有一層光刻膠薄膜的基片表面，引起曝光區域的光刻膠發(fā)生化學(xué)反應；再通過(guò)顯影技術(shù)溶解去除曝光區域或未曝光區域的光刻膠（前者稱(chēng)正性光刻膠，后者稱(chēng)負性光刻膠），使掩膜版上的圖形被復制到光刻膠薄膜上；最后利用刻蝕技術(shù)將圖形轉移到基片上。想要了解光刻技術(shù)對半導體供需穩定將會(huì )產(chǎn)生什么樣的影響，首先要了解的是大家經(jīng)常聽(tīng)到的 14 納米 DRAM、4 納米應用處理器等用語(yǔ)，要先說(shuō)明納米是什么意
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英特爾首次采用EUV技術(shù)的Intel 4制程節點(diǎn)已大規模量產(chǎn)
- 近日，英特爾宣布已開(kāi)始采用極紫外光刻（EUV）技術(shù)大規模量產(chǎn)（HVM）Intel 4制程節點(diǎn)。據英特爾中國官微獲悉，近日，英特爾宣布已開(kāi)始采用極紫外光刻（EUV）技術(shù)大規模量產(chǎn)（HVM）Intel 4制程節點(diǎn)。據悉，作為英特爾首個(gè)采用極紫外光刻技術(shù)生產(chǎn)的制程節點(diǎn)，Intel 4與先前的節點(diǎn)相比，在性能、能效和晶體管密度方面均實(shí)現了顯著(zhù)提升。極紫外光刻技術(shù)正在驅動(dòng)著(zhù)算力需求最高的應用，如AI、先進(jìn)移動(dòng)網(wǎng)絡(luò )、自動(dòng)駕駛及新型數據中心和云應用。英特爾“四年五個(gè)制程節點(diǎn)”計劃正在順利推進(jìn)中。目前，Intel 7和I
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俄羅斯7納米驚人突破 泄國產(chǎn)EUV曝光時(shí)間
- 俄羅斯企圖打破艾司摩爾（ASML）先進(jìn)半導體設備獨占地位！俄媒消息指出，俄羅斯號稱(chēng)開(kāi)發(fā)出可取代曝光機的芯片制造工具，甚至發(fā)下豪語(yǔ)，將于2028年研發(fā)出可生產(chǎn)7納米芯片的曝光機，還可擊敗ASML同類(lèi)產(chǎn)品。俄國目前普遍使用20年前的65納米制程，正在興建28納米晶圓廠(chǎng)。俄羅斯國際新聞通訊社（俄新社）報導，圣彼得堡理工大學(xué)研發(fā)出一種「國產(chǎn)曝光復合體」，可用于蝕刻生產(chǎn)無(wú)掩模芯片，將有助于解決俄羅斯在微電子領(lǐng)域的技術(shù)主權問(wèn)題?？茖W(xué)家表示，這款芯片制造設備成本為500萬(wàn)盧布（約臺幣161萬(wàn)元），而另一種工具的成本未知
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Intel 4技術(shù)在愛(ài)爾蘭大批量生產(chǎn)，點(diǎn)燃歐洲半導體制造能力
- DIGITAL-得益于A(yíng)SML的芯片機，英特爾在愛(ài)爾蘭的尖端技術(shù)生產(chǎn)點(diǎn)燃了歐洲革命。在英特爾位于愛(ài)爾蘭的最新制造工廠(chǎng)Fab 34的潔凈室里。?英特爾公司?英特爾在技術(shù)領(lǐng)域掀起了波瀾，在愛(ài)爾蘭推出了英特爾4技術(shù)的大批量生產(chǎn)，引發(fā)了一場(chǎng)歐洲革命。這標志著(zhù)極紫外光刻機（EUV）首次用于歐洲大規模生產(chǎn)。此舉鞏固了英特爾對快節奏生產(chǎn)戰略的承諾，并提升了歐洲的半導體制造能力。?這家科技巨頭在愛(ài)爾蘭、德國和波蘭的投資正在推動(dòng)整個(gè)歐洲大陸的尖端價(jià)值鏈。英特爾對可持續發(fā)展的執著(zhù)也體現在其愛(ài)爾蘭氣候行動(dòng)計
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在人工智能半導體市場(chǎng)不斷增長(cháng)的情況下，美國加強了對芯片出口的控制
- 美國政府計劃修改對半導體技術(shù)對中國的出口限制。此舉旨在加強對芯片制造中使用的工具的控制，包括人工智能（AI）中使用的芯片。這些法規將與荷蘭和日本最近的法規保持一致，將限制使用光刻設備等芯片制造工具，并旨在彌補人工智能處理芯片出口限制中的一些漏洞。?這一法規的更新是在首次實(shí)施出口限制近一年后才開(kāi)始的。一些報告顯示，美國商務(wù)部一直在努力更新這些法規。據稱(chēng)，美國提前向中國表明了即將改變限制措施，以避免華盛頓和北京之間關(guān)系的任何潛在關(guān)系。?加強對芯片制造工具的限制?荷蘭政府也對出口限
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用新型極紫外光刻膠材料推進(jìn)半導體工藝
- 新型極紫外光刻膠材料是不斷增強半導體技術(shù)的重要基石。
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euv介紹
在半導體行業(yè)，EUV一般指EUV光刻，即極紫外光刻。
極紫外光刻（英語(yǔ)：Extreme ultra-violet，也稱(chēng)EUV或EUVL）是一種使用極紫外（EUV）波長(cháng)的光刻技術(shù)。
EUV光刻采用波長(cháng)為10-14納米的極紫外光作為光源，可使曝光波長(cháng)一下子降到13.5nm,它能夠把光刻技術(shù)擴展到32nm以下的特征尺寸。
根據瑞利公式（分辨率=k1·λ/NA），這么短的波長(cháng)可以提供極高 [ 查看詳細 ]
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