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3nm finfet
3nm finfet 文章 進(jìn)入3nm finfet技術(shù)社區
FinFET對動(dòng)態(tài)功耗的影響
- 現在主要的代工廠(chǎng)都在生產(chǎn)FinFET晶體管,這些FinFET以創(chuàng )紀錄的速度實(shí)現了從設計到現貨產(chǎn)品的轉變。FinFET的發(fā)展普及一直都比較穩定,因為與平面器件相
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臺積電計劃2022年量產(chǎn)3nm芯片

- 臺積電在8月14日宣布,公司董事會(huì )已批準了一項約45億美元的資本預算。未來(lái)將會(huì )使用該預算來(lái)修建新的晶圓廠(chǎng),而現在中國臺灣媒體報道稱(chēng),臺積電計劃2020年開(kāi)始建造3nm制程的晶圓廠(chǎng),希望能夠在2022年實(shí)現3nm制程芯片的量產(chǎn)?! 「鶕_灣《經(jīng)濟日報》的報道,臺灣相關(guān)部門(mén)通過(guò)了「臺南科學(xué)園區二期基地開(kāi)發(fā)暨原一期基地變更計劃環(huán)差案」,這項議案主要是為了臺積電全新的晶圓制造廠(chǎng)而打造?! ?,臺積電計劃2020年開(kāi)始建造最新的3nm制程的晶圓廠(chǎng),同時(shí)最快可以在2022年實(shí)現對于3nm制程芯片的量產(chǎn)。目前臺積
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中芯國際14納米FinFET制程開(kāi)始客戶(hù)導入,Q2營(yíng)收同比增長(cháng)18.6%

- 9日中芯國際集成電路制造有限公司公布截至2018年6月30日止第二季度的綜合經(jīng)營(yíng)業(yè)績(jì)。中芯國際第二季度銷(xiāo)售額為8.907億美元,與上一季度環(huán)比增長(cháng)7.2%,與去年同比增長(cháng)18.6%。欣喜的是,14納米FinFET制程開(kāi)始進(jìn)入到客戶(hù)導入階段,可以預見(jiàn)量產(chǎn)目標已不遙遠。14納米FinFET制程如果正式量產(chǎn),對于中芯國際來(lái)說(shuō)將是一個(gè)歷史性的時(shí)刻。不僅可以確保其遙遙領(lǐng)先于國內的競爭對手,更是可以拉近其和國際芯片大廠(chǎng)之間的距離?! 「鶕行緡H財報,第二季度不含技術(shù)授權收入(授權收入)確認的銷(xiāo)售額為8.379億
- 關(guān)鍵字: 中芯國際 14納米 FinFET
三星侵犯大學(xué)專(zhuān)利,賠償金或高達4億美元
- 近日,德克薩斯州聯(lián)邦陪審團作出一項裁決:三星電子因侵犯韓國技術(shù)學(xué)院一項專(zhuān)利技術(shù),需向后者支付賠償金或將高達4億美元?! 私?,韓國技術(shù)學(xué)院曾向法院提起訴訟,指控三星電子侵犯了其鰭片晶體管技術(shù)(FinFET)制程工藝相關(guān)的專(zhuān)利技術(shù)。然而三星向陪審團表示,它與韓國技術(shù)學(xué)院合作開(kāi)發(fā)了這項技術(shù),并否認侵犯了相關(guān)專(zhuān)利技術(shù)。三星還對這項專(zhuān)利的有效性提出了質(zhì)疑。就在三星對此不屑一顧時(shí),其對手英特爾公司開(kāi)始向這項技術(shù)的發(fā)明者取得許可授權,圍繞三星是否侵權的力量博弈發(fā)生了改變,三星才開(kāi)始重視這個(gè)事件的嚴重性?! ?/li>
- 關(guān)鍵字: 三星 FinFET
胡正明:技術(shù)創(chuàng )新可能讓半導體晶體管密度再增加1000倍

- “半導體市場(chǎng)正在經(jīng)歷由技術(shù)推動(dòng)到需求推動(dòng)的轉變。而半導體技術(shù)上的創(chuàng )新,可能讓半導體晶體管密度再增加1000倍,仍有巨大空間?!苯?,美國加州大學(xué)伯克利分校教授、國際微電子學(xué)家胡正明在接受集微網(wǎng)采訪(fǎng)時(shí)表示?! ∽?965年摩爾定律提出以來(lái),歷經(jīng)半個(gè)多世紀的發(fā)展,如今越來(lái)越遭遇挑戰,特別是新世紀以來(lái),每隔十年,摩爾定律以及半導體的微型化似乎便會(huì )遭遇到可能終止的危機?! 『靼l(fā)明了鰭型晶體管(FinFET)以及「全耗盡型絕緣層上硅晶體管」(FD-SOI),兩大革命性創(chuàng )新為半導體帶來(lái)新契機。 2011年5月
- 關(guān)鍵字: FinFET 7納米
aveni S.A. 運用創(chuàng )新電鍍化學(xué),將銅互連擴展至5nm及以下節點(diǎn)以實(shí)現BEOL集成

- 為2D互連和3D硅穿孔封裝提供顛覆性濕沉積技術(shù)與化學(xué)材料的開(kāi)發(fā)商與生產(chǎn)商aveni S.A.今日宣布,其已獲得成果可有力支持在先進(jìn)互連的后段制程中,在5nm及以下技術(shù)節點(diǎn)可繼續使用銅?! 钢荡算~集成20周年之際,我們的研究結果證實(shí)了IBM研究員Dan Edelstein在近期IEEE Nanotechnology Symposium上的主題演講中所表達的意見(jiàn):『銅集成可持續使用』?!筧veni執行長(cháng)Bruno Morel指出?! ∮捎谄骷獫M(mǎn)足(和創(chuàng )
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格芯技術(shù)大會(huì )攜最新技術(shù)突出中國市場(chǎng)重要地位

- 近日,格芯2017技術(shù)大會(huì )(GLOBALFOUNDRIES Technology Conference或GTC)于上海舉行,格芯盛邀數百位半導體行業(yè)領(lǐng)導者、客戶(hù)、研究專(zhuān)家與核心媒體齊聚一堂,并精心為與會(huì )者準備了公司的核心業(yè)務(wù)、市場(chǎng)推進(jìn)方向與創(chuàng )新成果,以及包括制程工藝、設計實(shí)現、IP、射頻以及生態(tài)圈的發(fā)展等方面的最新進(jìn)展,共同聚焦格芯面向5G互聯(lián)時(shí)代的技術(shù)解決方案。作為格芯的年度技術(shù)盛會(huì ),本次大會(huì )格芯分享的技術(shù)主題十分廣泛,包括FDX?設計和生態(tài)系統、IoT,5G/網(wǎng)絡(luò )和汽車(chē)解決方案智能應用,FDX?、Fi
- 關(guān)鍵字: GTC FDSOI FINFET 制程
張忠謀:3nm晶圓廠(chǎng)2020年開(kāi)建 未來(lái)3年收入增幅都達5-10%
- 臺積電創(chuàng )始人兼董事長(cháng)張忠謀在近日的一次公司會(huì )議上披露,臺積電將在2020年開(kāi)工建設3nm工藝晶圓廠(chǎng),但不會(huì )去美國設廠(chǎng),而是堅持留在中國臺灣本土,確切地說(shuō)是在南部科技園區。 張忠謀提出,臺積電相信當地政府會(huì )解決好3nm工廠(chǎng)建設所需的水電土地問(wèn)題,并提供全力協(xié)助。 按照張忠謀此前的說(shuō)法,3nm工廠(chǎng)建設預計會(huì )花費超過(guò)200億美元,同時(shí)有望帶動(dòng)相關(guān)供應商跟進(jìn)建廠(chǎng),拉動(dòng)臺南地區經(jīng)濟發(fā)展。 他沒(méi)有透露3nm工廠(chǎng)何時(shí)完工、新工藝何時(shí)量產(chǎn),但即便不考慮額外困難和挑戰,最快也得是2023年的事兒了。
- 關(guān)鍵字: 3nm 晶圓
3nm finfet介紹
您好,目前還沒(méi)有人創(chuàng )建詞條3nm finfet!
歡迎您創(chuàng )建該詞條,闡述對3nm finfet的理解,并與今后在此搜索3nm finfet的朋友們分享。 創(chuàng )建詞條
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