三星侵犯大學(xué)專(zhuān)利，賠償金或高達4億美元

　　近日，德克薩斯州聯(lián)邦陪審團作出一項裁決：三星電子因侵犯韓國技術(shù)學(xué)院一項專(zhuān)利技術(shù)，需向后者支付賠償金或將高達4億美元。

　　據了解，韓國技術(shù)學(xué)院曾向法院提起訴訟，指控三星電子侵犯了其鰭片晶體管技術(shù)(FinFET)制程工藝相關(guān)的專(zhuān)利技術(shù)。然而三星向陪審團表示，它與韓國技術(shù)學(xué)院合作開(kāi)發(fā)了這項技術(shù)，并否認侵犯了相關(guān)專(zhuān)利技術(shù)。三星還對這項專(zhuān)利的有效性提出了質(zhì)疑。就在三星對此不屑一顧時(shí)，其對手英特爾公司開(kāi)始向這項技術(shù)的發(fā)明者取得許可授權，圍繞三星是否侵權的力量博弈發(fā)生了改變，三星才開(kāi)始重視這個(gè)事件的嚴重性。

　　據悉，三星的這一侵權行為被裁定為“有意為之”，這意味著(zhù)法官可以將三星所需支付的賠償金額增加到陪審團規定的三倍。