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資訊 | 臺積電公布最新技術(shù)進(jìn)展!3nm明年量產(chǎn)

發(fā)布人:旺材芯片 時(shí)間:2021-06-05 來(lái)源:工程師 發(fā)布文章
本周,臺積電舉辦了2021年技術(shù)研討會(huì ),分享其先進(jìn)邏輯技術(shù)、特殊技術(shù)、3DFabric先進(jìn)封裝與芯片堆疊等方面的最新進(jìn)展,由于疫情尚未平復,臺積電依然沿用去年的線(xiàn)上模式舉辦這次論壇。

“數字化轉型為半導體行業(yè)開(kāi)辟了一個(gè)充滿(mǎn)機遇的新世界,我們的全球技術(shù)研討會(huì )強調了我們增強和擴展技術(shù)組合的許多方法,以釋放客戶(hù)的創(chuàng )新,”臺積電CEO魏哲家在大會(huì )上說(shuō)道。
015nm家族添新成員,解決汽車(chē)計算需求
臺積電將其領(lǐng)先的工藝節點(diǎn)分為三個(gè)產(chǎn)品家族:7nm、5nm和即將推出的3nn工藝節點(diǎn),正如許多人在過(guò)去幾年中注意到的那樣,臺積電自2018年推出7nm節點(diǎn)并實(shí)現大規模量產(chǎn)后,在芯片制造領(lǐng)域超越競爭對手取得領(lǐng)先地位,到今天也還是如此。
迄今為止,臺積電7nm芯片出貨已超過(guò)10億顆,已經(jīng)被納入越來(lái)越成熟的工藝。且隨著(zhù)許多客戶(hù)遷移到更先進(jìn)的工藝節點(diǎn),7nm產(chǎn)能增速放緩,預計2021年產(chǎn)能僅增加14%,與曾經(jīng)16nm工藝系列產(chǎn)能進(jìn)展類(lèi)似。與之對應的,目前代工廠(chǎng)主要專(zhuān)注于5nm和即將推出的3nm芯片產(chǎn)品。臺積電5nm工藝節點(diǎn)自2020年開(kāi)始量產(chǎn),為數以?xún)|計的SoC提供動(dòng)力,一方面越來(lái)越多的公司設計更多5nm產(chǎn)品,另一方面臺積電擁有全球大約50%的EUV半導體設備,因此臺積電5nm進(jìn)展十分順利,更是在此次技術(shù)研討會(huì )上又添新成員——N5A。
臺積電官方介紹,N5A工藝旨在應對當今對計算能力需求不斷增加的汽車(chē)應用,例如支持AI輔助駕駛和座艙數字化,N5A將當今超級計算機中所使用的技術(shù)引入汽車(chē),在滿(mǎn)足AEC-Q100 2 級以及其他汽車(chē)安全和質(zhì)量標準的可靠性要求的同時(shí),滿(mǎn)足N5的性能、功率和邏輯密度。
由于有臺積電汽車(chē)設計平臺的支持,N5A計劃于2022年第三季度上市。
023nm明年量產(chǎn),5G射頻將升級到6nm
臺積電也透露了其4nm和3nm的最新進(jìn)展。采用與N5幾乎近相同設計法則的4nm加強版在性能、功耗和集體管密度上均進(jìn)一步提升,通過(guò)邏輯的光學(xué)微縮、標準單元庫的改進(jìn)和設計規則的推動(dòng),N4的晶體管密度較N5提升6%。臺積電還聲稱(chēng),N4自2020年技術(shù)研討會(huì )上宣布以來(lái)進(jìn)展順利,預計2021年第三季度風(fēng)險量產(chǎn)。


3nm方面,依靠業(yè)經(jīng)驗證的FinFET晶體管架構,得以實(shí)現最佳性能、功耗和成本效益,與N5相比,臺積電N3性能提升15%、功耗降低30%、邏輯密度增加70%,有望在2022年下半年開(kāi)始量產(chǎn),同時(shí)成為世界上最先進(jìn)的芯片制造技術(shù)。
擁有龐大市場(chǎng)的手機SoC制程的更新?lián)Q代已不足為奇,如今5nm已經(jīng)成為旗艦手機的標配,隨著(zhù)臺積電3nm開(kāi)始量產(chǎn),可以預測各家手機廠(chǎng)商的旗艦手機SoC也將更新至3nm。不過(guò)射頻芯片沒(méi)有像手機SoC制程一樣頻繁升級,依然使用16nm左右制程,但這一局面可能會(huì )在未來(lái)有所改變。
與4G相比,5G智能手機需要更大的芯片面積、消耗更多的電量才能提供更高的無(wú)線(xiàn)傳輸速率,支持5G的芯片集成很多功能和組件,尺寸變大且與電池競爭空間。因此,本次研討會(huì )上,臺積電首次推出N6RF工藝,將其先進(jìn)的邏輯工藝的功耗、性能和面積優(yōu)勢帶到5G射頻(RF)和WiFi 6、WiFi 6E解決方案中,預計N6RF晶體管性能將比上一代16nm射頻技術(shù)高出16%以上。
此外,臺積電還稱(chēng),N6RF支持低于6GHz和毫米波頻段的5G射頻收發(fā)器,降低功耗和面積,且不會(huì )影響為消費者提供的性能、功能和電池壽命臺積電N6RF還將增強WiFi 6/6E的性能和電源效率。
03持續擴展3DFabric先進(jìn)封裝
臺積電還公布了其在先進(jìn)封裝方面的最新進(jìn)展。
在高性能計算應用領(lǐng)域,臺積電將在2021年為其InFO_oS 和 CoWoS封裝解決方案提供更大的光罩尺寸,從而為小芯片和高帶寬內存集成提供更大的二維平面。此外,臺積電的SoIC-CoW預計今年完成N7對N7的驗證,并將于2022年在全新的全自動(dòng)化晶圓廠(chǎng)中開(kāi)始生產(chǎn)。
在移動(dòng)應用領(lǐng)域,臺積電推出InFO_B解決方案,制造將強大的移動(dòng)處理器集成在薄而緊湊的封裝中,性能增強、電源效率變高,并支持移動(dòng)設備制造商在鳳裝飾的DEAM堆疊。
值得注意的是,在同期舉行的Computex大會(huì )上,AMD展示了其3D小芯片的首個(gè)應用,并稱(chēng)通過(guò)與臺積電的密切合作,其3D小芯片技術(shù)比當前的3D封裝解決方案耗能更少,堆疊更靈活。AMD同時(shí)表示,有望在2021年底之前開(kāi)始生產(chǎn)具有3D小芯片的高端計算產(chǎn)品。

文稿來(lái)源:快科技


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