光刻儀公司延期交貨 臺積電制程研發(fā)恐受影響

　　據報道，臺積電的光刻儀供應商Mapper公司已經(jīng)將300mm光刻設備交貨日延期近三個(gè)月之久。Mapper的多束e-beam光刻儀原計劃于今年第一 季度裝備臺積電300mm工廠(chǎng)，不過(guò)由于技術(shù)上的原因Mapper公司拖延了交貨日期，此舉可能對臺積電的制程研發(fā)進(jìn)度造成一定的影響。

　　臺積電CEO蔡力行曾稱(chēng)臺積電已在與合作伙伴聯(lián)合開(kāi)發(fā)22nm及更高規格制程用多束e-beam光刻技術(shù)(multiple electron-beam (e-beam) maskless lithography equipment)，以便公司盡早實(shí)現向32nm制程的轉換。

　　2008年十月份，臺積電與Mapper公司簽署了一份供貨協(xié)議，根據這份協(xié)議，Mapper將為臺積電制造300mm多束e-beam光刻設備用于制程開(kāi)發(fā)，并為該公司提供光刻原型機。