Entegris攜最新產(chǎn)品亮相Semicon Taiwan，提供整合解決方案應對未來(lái)制造挑戰

　　隨著(zhù)先進(jìn)制程的不斷推進(jìn)，從14nm、10nm到將來(lái)的7nm、3nm，在生產(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)生的微粒也越來(lái)越小，怎樣去找到這些極微小的微粒將是未來(lái)半導體制造商面臨的一個(gè)非常大的挑戰。近日，領(lǐng)先特殊材料供應商Entegris參加了在Semicon Taiwan，同時(shí)發(fā)布了幾款全新產(chǎn)品，其全球銷(xiāo)售副總裁謝俊安也與臺灣媒體進(jìn)行了交流。

　　謝俊安首先介紹了Entegris的三個(gè)主要事業(yè)部，分別為電子材料部分，主要提供尖端氣體、沉積的解決方案以及一些化學(xué)清洗類(lèi)產(chǎn)品;第二個(gè)是微污染控制，主要的產(chǎn)品為用于水、氣體以及化學(xué)方面的濾芯濾材;另外一個(gè)部分是主管運輸方面的部門(mén)，可提供一些晶圓、化學(xué)品以及在客戶(hù)工廠(chǎng)端的誰(shuí)、氣體和化學(xué)方面的運輸解決方案。各個(gè)事業(yè)部可以單獨提供服務(wù)給客戶(hù)，也可以根據客戶(hù)需要，提供綜合的在解決方案。謝俊安表示：“隨著(zhù)制程技術(shù)的不斷復雜，污染控制面臨的挑戰也越來(lái)越嚴峻?！?nbsp;他列舉了一個(gè)有趣的例子，找出現在的制程中的微粒就如在整個(gè)臺灣找出兩個(gè)1元硬幣。而在半導體進(jìn)行制造的過(guò)程中，每個(gè)環(huán)節都有可能產(chǎn)生污染，而Entegris的解決方案可以覆蓋各個(gè)環(huán)節。如客戶(hù)在制造氣體過(guò)程中，Entegris可以提供解決方案，而在這些氣體運輸的過(guò)程中，這些強酸強堿可能會(huì )侵蝕塑膠品，可能會(huì )產(chǎn)生微污染， Entegris可以提供綜合的解決方案給到客戶(hù)，覆蓋半導體生態(tài)圈的各個(gè)部分，確保每個(gè)環(huán)節的安全性。

　　近期，Entegris剛剛還擴建了其臺灣的技術(shù)中心，加入了全新的微污染物分析與技術(shù)開(kāi)發(fā)能力。謝俊安表示：“Entegris原本在臺灣就有一個(gè)化學(xué)CAP中心和一個(gè)濾芯濾材中心，此次新的技術(shù)中心就是結合了原有的兩個(gè)中心，并進(jìn)行擴建，可以達到很好的綜合效果?！按舜螖U展共投資了850萬(wàn)美元，用于擴展三個(gè)方面：一是1000級的無(wú)塵室;二是擴大5倍的實(shí)驗室空間;三是進(jìn)行設施裝修和設備升級。謝俊安表示：”新的技術(shù)中心將Entegris在液體過(guò)濾、特殊用化學(xué)品和CMP領(lǐng)域的核心技術(shù)整合，提供更完整的分析服務(wù)與技術(shù)開(kāi)發(fā)解決方案，滿(mǎn)足隨著(zhù)制程推進(jìn)已經(jīng)器件不斷小型化所帶來(lái)的制造挑戰?！?/p>

　　在Semicon Taiwan期間，Entegris同時(shí)發(fā)布了3款最新產(chǎn)品，它們分別為Integra? Plus WS(堰式閥)高流量流體管理閥門(mén)、Oktolex? 薄膜技術(shù)以及GateKeeper? GPU(氣體純化裝置)腐蝕性氣體純化器。其中Integra? Plus WS針對半導體制程應用中的腐蝕性化學(xué)品所設計，采用創(chuàng )新、單件且黏著(zhù)劑的隔膜設計，其流體效能比競爭對手適用于超純度大量化學(xué)品和CMP研磨液應用的閥高出70%。而Oktolex? 薄膜技術(shù)可應用于先進(jìn)的使用點(diǎn)光微影技術(shù)，它可針對各種化學(xué)品的需求，強化各種薄膜原本的攔截機制，過(guò)濾重要的光化學(xué)污染物。最后的GateKeeper? GPU腐蝕性氣體純化器采用了Entegris的高階媒介，可同時(shí)去除18種不同其體內的濕氣并捕捉揮發(fā)性金屬微粒，有助于提升晶圓產(chǎn)能。