臺積電加573億先進(jìn)制程 主攻20nm及FinFET

　　晶圓龍頭臺積電13日董事會(huì )通過(guò)573.65億元資本支出，連同上次核準金額，合計為2033.65億元，約占臺積電全年資本支出上限100億美元的68%，顯示臺積電加速先進(jìn)制程腳步。

　　臺積電將今年資本支出上修至95至100億美元(約新臺幣2990億)，只少許落后英特爾的110億美元，是臺灣投資計劃最大的電子大廠(chǎng)。

　　設備廠(chǎng)商透露，臺積電加緊20納米及16納米先進(jìn)制程量產(chǎn)及試產(chǎn)時(shí)程，添購所需設備，推估今年臺積電全年資本支出，絕對會(huì )在上限100億美元，而且明年也可能與今年相近。

　　設備商表示，臺積電追加573.65億元的資本支出，主要用于20納米、16納米鰭式晶體管(FinFET)以下制程產(chǎn)能，有助于明年營(yíng)收、獲利成長(cháng)。

　　臺積電日前公布28納米上半年營(yíng)收占比為29%，創(chuàng )單季新高，遙遙領(lǐng)先對手，預估今年28納米占營(yíng)收比重將比去年成長(cháng)3倍。