俄羅斯7納米驚人突破 泄國產(chǎn)EUV曝光時(shí)間

俄羅斯企圖打破艾司摩爾（ASML）先進(jìn)半導體設備獨占地位！俄媒消息指出，俄羅斯號稱(chēng)開(kāi)發(fā)出可取代曝光機的芯片制造工具，甚至發(fā)下豪語(yǔ)，將于2028年研發(fā)出可生產(chǎn)7納米芯片的曝光機，還可擊敗ASML同類(lèi)產(chǎn)品。俄國目前普遍使用20年前的65納米制程，正在興建28納米晶圓廠(chǎng)。

俄羅斯國際新聞通訊社（俄新社）報導，圣彼得堡理工大學(xué)研發(fā)出一種「國產(chǎn)曝光復合體」，可用于蝕刻生產(chǎn)無(wú)掩模芯片，將有助于解決俄羅斯在微電子領(lǐng)域的技術(shù)主權問(wèn)題。

科學(xué)家表示，這款芯片制造設備成本為500萬(wàn)盧布（約臺幣161萬(wàn)元），而另一種工具的成本未知。

研究人員指出，相較于傳統曝光技術(shù)需要專(zhuān)門(mén)掩膜板來(lái)獲取影像，這款裝置更為經(jīng)濟、便利，透過(guò)專(zhuān)業(yè)軟件控制，實(shí)現完全自動(dòng)化。該發(fā)明是「各種微電子裝置運行」所需的「納米結構」工藝分兩階段進(jìn)行，首先使用基礎掩模曝光機，然后利用硅等離子化學(xué)蝕刻機。

而另一款設備可直接形成納米結構或制作硅膜，如用于艦載超壓傳感器。

俄羅斯目前使用最普遍的技術(shù)是20年前的65納米制程，但現在正積極興建28制程晶圓廠(chǎng)。

Tom's Hardware此前報導，俄羅斯大諾夫哥羅德策略發(fā)展機構（Novgorod Strategy Development）宣稱(chēng)2028年將開(kāi)發(fā)出可生產(chǎn)7納米芯片的曝光機，并擊敗ASML同類(lèi)產(chǎn)品，即ASML Twinscan NXT：2000i DUV。

俄羅斯科學(xué)院納米結構研究所副所長(cháng)Nikolai Chkhalo表示，近20年來(lái)ASML致力于發(fā)展EUV（極紫外光）曝光機，目標是讓頂尖半導體廠(chǎng)商保持極高的生產(chǎn)效率，但俄羅斯并不需要，只要根據國內的需求向前推進(jìn)即可。