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光刻
光刻 文章 進(jìn)入光刻技術(shù)社區
光刻巨頭ASML四季度來(lái)首次盈利
- 隨著(zhù)芯片廠(chǎng)商設備訂單的恢復，歐洲最大的半導體設備制造商ASML報出了2930萬(wàn)美元的凈利潤，為四個(gè)季度來(lái)首次盈利。 ASML在今天的聲明中表示該公司第三季度凈利潤為1970萬(wàn)歐元(2930萬(wàn)美元)，即每股5歐分，低于去年同期7330萬(wàn)歐元的利潤水平。不過(guò)這超過(guò)了彭博社調查7位分析師所得出的1060萬(wàn)歐元的市場(chǎng)預期。 該公司首席執行官埃里克·莫里斯(EricMeurice)表示，ASML的設備可以讓芯片客戶(hù)生產(chǎn)出尺寸更小的芯片，隨著(zhù)客戶(hù)在設備投資上恢復投入，該公司本季度銷(xiāo)售額將
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Mapper Lithography獲資助 大力開(kāi)發(fā)無(wú)掩模光刻設備
- 半導體設備供應商Mapper Lithography BV公司日前獲得荷蘭經(jīng)濟事務(wù)部名為SenterNoven的機構達1000萬(wàn)歐元(合1470萬(wàn)美元)的補貼。 Mapper公司將利用此筆資金開(kāi)發(fā)試用版設備。公司表示目前正在設計一款無(wú)掩模光刻設備的開(kāi)發(fā)。這款設備將含有超過(guò)10000道平行電子束，從而將會(huì )在晶圓上直接形成圖樣，降低普通光刻設備上由于采用掩模版而帶來(lái)的高昂成本。 Mapper將聯(lián)合股東各方Catena，Technolution，Multin Hittech，Demcon，Del
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生存在矛盾之中
- 在全球金融危機影響下，由于市場(chǎng)的萎縮導致大部分企業(yè)都不甚景氣，向來(lái)紅火的半導體業(yè)也感覺(jué)壓力深重。在探討未來(lái)如何發(fā)展之中，發(fā)現各種矛盾叢生，似乎很難作出決斷。 投入多產(chǎn)出少，能持久嗎? SanDisk CEO Eli Harari于近期闡述了自己對于NAND閃存技術(shù)未來(lái)發(fā)展的幾點(diǎn)看法，認為NAND閃存產(chǎn)業(yè)正處在十字路口，未來(lái)的產(chǎn)能需要和產(chǎn)品需求兩者之間脫節，也即每年投資巨大, 然而由于A(yíng)SP下降導致銷(xiāo)售額沒(méi)有相應的增大，利潤越來(lái)越薄,目前糟糕的NAND閃存產(chǎn)業(yè)模式使得制造廠(chǎng)商對于建新廠(chǎng)已逐漸
- 關(guān)鍵字： SanDisk NAND 光刻 模擬電路 存儲器
消息稱(chēng)Canon步進(jìn)光刻部門(mén)將裁員700人
- 有消息稱(chēng)，日本Canon計劃裁去步進(jìn)式光刻部門(mén)的700名員工。 這些職位多數都在日本，其中一些員工將轉至Canon其他部門(mén)，據悉700名員工約占步進(jìn)光刻部門(mén)的30%。 Canon是全球第三的步進(jìn)光刻設備供應商，排在A(yíng)SML和Nikon之后，市場(chǎng)份額約為11%。 市場(chǎng)研究公司Gartner預測，2009年步進(jìn)光刻市場(chǎng)將是艱難的一年，市場(chǎng)銷(xiāo)售額預計將減少54%。 Canon預計2012年之前，步進(jìn)光刻部門(mén)不會(huì )盈利。
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光刻儀公司延期交貨 臺積電制程研發(fā)恐受影響
- 據報道，臺積電的光刻儀供應商Mapper公司已經(jīng)將300mm光刻設備交貨日延期近三個(gè)月之久。Mapper的多束e-beam光刻儀原計劃于今年第一 季度裝備臺積電300mm工廠(chǎng)，不過(guò)由于技術(shù)上的原因Mapper公司拖延了交貨日期，此舉可能對臺積電的制程研發(fā)進(jìn)度造成一定的影響。 臺積電CEO蔡力行曾稱(chēng)臺積電已在與合作伙伴聯(lián)合開(kāi)發(fā)22nm及更高規格制程用多束e-beam光刻技術(shù)(multiple electron-beam (e-beam) maskless lithography equip
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ASML的上半年訂單落空 預期下半年有望回復
- 按全球第一大光刻設備供應商ASML公司的預估，其Q1的銷(xiāo)售額將從08年Q4的4.94億歐元下降到1.84億歐元，而去年同期為9.19億歐元，下降達80%。 ASML預計Q2的銷(xiāo)售額在2.1-2.3億歐元間，因為受工藝制程的進(jìn)一步縮小推動(dòng)，產(chǎn)業(yè)可能會(huì )在今年下半年開(kāi)始復蘇，訂單回歸到4.0-5.0億歐元。新的工藝制程會(huì )要求購買(mǎi)新的或者升級現有的設備。 如08年僅只有各領(lǐng)域的領(lǐng)先者在購買(mǎi)設備，主要集中在如閃存flash的45nm、DRAM的55nm及代工的45nm客戶(hù)。預計2009年會(huì )加速工藝制
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2009年中國國際半導體技術(shù)研討會(huì )成功在上海舉辦
- 由SEMI、ECS及中國高科技專(zhuān)家組共同舉辦的中國國際半導體技術(shù)研討會(huì )成功于3月19-20日在上海召開(kāi)。諾貝爾物理學(xué)獎得主、IBM院士Georg Bednorz、Intel資深院士Robert Chau、IMEC CEO Gilbert Declerck、Praxair CTO Ray Roberge為大會(huì )作主題演講，為550名與會(huì )的國內外半導體產(chǎn)業(yè)界人士介紹國際最前沿的納米技術(shù)、微電子技術(shù)的發(fā)展趨勢。本次研討會(huì )的成功召開(kāi)為提升中國半導體產(chǎn)業(yè)的技術(shù)水平，將國際最先進(jìn)的技術(shù)與理念引進(jìn)中國起到了積極的推動(dòng)
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世界最大光刻設備企業(yè)阿斯麥將裁員10%
- 世界最大的光刻設備制造商阿斯麥（ＡＳＭＬ）18日宣布，由于全球經(jīng)濟下滑，芯片制造設備需求銳減，該公司計劃在半年內裁員1000人，占全球員工總數10％以上。 總部位于荷蘭南部城市費爾德霍芬的阿斯麥公司當天發(fā)布聲明說(shuō)，裁員計劃主要涉及總部和美國的部分生產(chǎn)廠(chǎng)，此外美國的一個(gè)培訓中心將關(guān)閉。裁減對象將主要為臨時(shí)工。 阿斯麥總裁埃里克·穆里斯說(shuō)，受半導體產(chǎn)品需求下降、存儲器價(jià)格低迷和客戶(hù)資金周轉困難的三重夾擊，近一段時(shí)間國際市場(chǎng)光刻設備需求銳減，“其跌速和跌幅前所未有&rd
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EUV掩膜版清洗—Intel的解決之道
- 對于極紫外（EUV）光刻技術(shù)而言，掩膜版相關(guān)的一系列問(wèn)題是其發(fā)展道路上必須跨越的鴻溝，而在這些之中又以如何解決掩膜版表面多層抗反射膜的污染問(wèn)題最為關(guān)鍵。自然界中普遍存在的碳和氧元素對于EUV光線(xiàn)具有極強的吸收能力。在Texas州Austin召開(kāi)的表面預處理和清洗會(huì )議上，針對EUV掩膜版清洗方面遇到的問(wèn)題和挑戰，Intel Corp. (Santa Clara, Calif.)的Ted Liang主持召開(kāi)了一次內部討論，并在會(huì )上向與會(huì )的同仁報告了在這一領(lǐng)域Intel和Dai Nippon Printin
- 關(guān)鍵字： 光刻 EUV 掩膜 CMOS
道康寧電子部推出XR-1541電子束光刻膠
- 全球材料、應用技術(shù)及服務(wù)綜合供應商美國道康寧公司電子部（Dow Corning Electronics）的硅晶片光刻解決方案事業(yè)部今日宣布正式開(kāi)始供應Dow Corning® XR-1541電子束光刻膠，該產(chǎn)品是專(zhuān)為實(shí)現下一代、直寫(xiě)光刻工藝技術(shù)開(kāi)發(fā)所設計。這一新型先進(jìn)的旋涂式光刻膠產(chǎn)品系列是以電子束（electron beam）取代傳統光源產(chǎn)生微影圖案，可提供圖形定義小至6納米的無(wú)掩模光刻技術(shù)能力。 可用于各種高純度、半導體等級配方的XR-1541電子束光刻膠，是由甲基異丁基酮(meth
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光刻介紹
光刻 利用照相復制與化學(xué)腐蝕相結合的技術(shù)，在工件表面制取精密、微細和復雜薄層圖形的化學(xué)加工方法。光刻原理雖然在19世紀初就為人們所知，但長(cháng)期以來(lái)由于缺乏優(yōu)良的光致抗蝕劑而未得到應用。直到20世紀50年代，美國制成高分辨率和優(yōu)異抗蝕性能的柯達光致抗蝕劑(KPR)之后,光刻技術(shù)才迅速發(fā)展起來(lái)，并開(kāi)始用在半導體工業(yè)方面。光刻是制造高級半導體器件和大規模集成電路的關(guān)鍵工藝之一，并已用于刻劃光柵、 [ 查看詳細 ]
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