EEPW首頁(yè) >>
主題列表 >>
掩膜
掩膜 文章 進(jìn)入掩膜技術(shù)社區
Vistec Lithography宣布與華中科技大簽署戰略合作伙伴協(xié)議
- 電子束光刻系統的知名廠(chǎng)商Vistec Lithography公司近日宣布他們與中國武漢華中科技大學(xué)光電工程學(xué)院簽署了戰略合作伙伴協(xié)議。武漢華中科技大學(xué)是大陸國家級重點(diǎn)院校之一，而 Vistec Lithography則是電子束光刻設備的領(lǐng)先廠(chǎng)商，按協(xié)議規定，兩家將在納米光刻技術(shù)研究和教學(xué)領(lǐng)域開(kāi)展合作。 這次合作的核心是Vistec公司提供給華中科技大學(xué)的EBPG5000pES電子束光刻系統，裝備這套系統之后，華中科技大學(xué)在教學(xué)，科研以及對外合作方面的實(shí)力將如虎添翼。華中科技大學(xué)稱(chēng)：“
- 關(guān)鍵字： Vistec-Lithography 光刻 掩膜
德國建立32nm光刻掩膜研發(fā)項目
- 先進(jìn)掩膜技術(shù)中心（AMTC）、半導體設備供貨商Vistec和德國國家物理技術(shù)研究院（PTB）將共同完成研發(fā)下一代芯片生產(chǎn)技術(shù)和量測流程的開(kāi)發(fā)項目。 德國教育部對此代號為“CDuR32 （32nm掩膜光刻技術(shù)的核心演習和使用） ”的研發(fā)項目提供了部分資助。該項目的總預算資金為16.7百萬(wàn)歐元（約24.3百萬(wàn)），其中德國政府資助了7.9百萬(wàn)歐元。 該項目預計為期2.5年，旨在研發(fā)掩膜技術(shù)以用于今后其Dresden晶圓廠(chǎng)32nm存儲芯片和22nm微處理器的生產(chǎn)。AMTC由
- 關(guān)鍵字： 掩膜 AMTC 半導體 PTB
EUV掩膜版清洗—Intel的解決之道
- 對于極紫外（EUV）光刻技術(shù)而言，掩膜版相關(guān)的一系列問(wèn)題是其發(fā)展道路上必須跨越的鴻溝，而在這些之中又以如何解決掩膜版表面多層抗反射膜的污染問(wèn)題最為關(guān)鍵。自然界中普遍存在的碳和氧元素對于EUV光線(xiàn)具有極強的吸收能力。在Texas州Austin召開(kāi)的表面預處理和清洗會(huì )議上，針對EUV掩膜版清洗方面遇到的問(wèn)題和挑戰，Intel Corp. (Santa Clara, Calif.)的Ted Liang主持召開(kāi)了一次內部討論，并在會(huì )上向與會(huì )的同仁報告了在這一領(lǐng)域Intel和Dai Nippon Printin
- 關(guān)鍵字： 光刻 EUV 掩膜 CMOS
| 共6條 1/1 1 |
掩膜介紹
MASK(掩膜)：?jiǎn)纹瑱C掩膜是指程序數據已經(jīng)做成光刻版，在單片機生產(chǎn)的過(guò)程中把程序做進(jìn)去。優(yōu)點(diǎn)是：程序可靠、成本低。缺點(diǎn)：批量要求大，每次修改程序就需要重新做光刻板，不同程序不能同時(shí)生產(chǎn)，供貨周期長(cháng)。
在半導體制造中，許多芯片工藝步驟采用光刻技術(shù)，用于這些步驟的圖形“底片”稱(chēng)為掩膜（也稱(chēng)作“掩?！保?，其作用是：在硅片上選定的區域中對一個(gè)不透明的圖形模板掩膜，繼而下面的腐蝕或擴散將只影響選 [ 查看詳細 ]
掩膜相關(guān)帖子
關(guān)于我們 -
廣告服務(wù) -
企業(yè)會(huì )員服務(wù) -
網(wǎng)站地圖 -
聯(lián)系我們 -
征稿 -
友情鏈接 -
手機EEPW
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權所有 北京東曉國際技術(shù)信息咨詢(xún)有限公司
京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案：1101082052 京公網(wǎng)安備11010802012473
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權所有 北京東曉國際技術(shù)信息咨詢(xún)有限公司
京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案：1101082052 京公網(wǎng)安備11010802012473