Mapper Lithography獲資助 大力開(kāi)發(fā)無(wú)掩模光刻設備

　　半導體設備供應商Mapper Lithography BV公司日前獲得荷蘭經(jīng)濟事務(wù)部名為SenterNoven的機構達1000萬(wàn)歐元(合1470萬(wàn)美元)的補貼。

　　Mapper公司將利用此筆資金開(kāi)發(fā)試用版設備。公司表示目前正在設計一款無(wú)掩模光刻設備的開(kāi)發(fā)。這款設備將含有超過(guò)10000道平行電子束，從而將會(huì )在晶圓上直接形成圖樣，降低普通光刻設備上由于采用掩模版而帶來(lái)的高昂成本。

　　Mapper將聯(lián)合股東各方Catena，Technolution，Multin Hittech，Demcon，Delft University of Technology共同開(kāi)發(fā)。

　　Mapper與CEA-Leti近日聯(lián)合宣布Mapper一款300mm電子束光刻設備已經(jīng)發(fā)貨至法國的CEA-Leti。這臺設備將用于為期三年的Imagine計劃，開(kāi)發(fā)22nm及以下的IC制程技術(shù)。

　　臺積電積極推進(jìn)無(wú)掩模技術(shù)，日前也宣布已經(jīng)加入CEA-Leti國際組織，共同研發(fā)電子束直寫(xiě)光刻技術(shù)。