【科普】什么是EUV光刻？
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在說(shuō)EUV之前，讓我們先了解一下什么是光刻技術(shù)。
光刻技術(shù)從基本上來(lái)說(shuō)是一個(gè)投影系統，將光線(xiàn)投射并穿透印有電路藍圖的光罩，利用光學(xué)原理將圖樣打在已涂布感光****劑的硅晶片上，進(jìn)行曝光。當未曝光的部分被蝕刻移除后，圖樣就會(huì )顯露出來(lái)。
在光刻行業(yè)有一個(gè)規律，就是芯片廠(chǎng)在芯片上塞進(jìn)的結構數量越多，芯片就越強大。進(jìn)而循著(zhù)這條規律，所有芯片廠(chǎng)的目標就是盡力縮小結構尺寸。
這時(shí)候就要說(shuō)到我們今天的話(huà)題——EUV了。
EUV，中文是極紫外光刻。它是光刻技術(shù)的一種。
EUV是現在最領(lǐng)先的光刻技術(shù)。它以波長(cháng)為10~14納米的極紫外光作為光源，可使曝光波長(cháng)一下子降到13.5納米。這一技術(shù)能夠讓芯片工藝擴展到32nm以下。
這里提到的極紫外光。據悉，荷蘭ASML公司需要以每秒5萬(wàn)次的頻率，對液態(tài)錫的液滴****高能激光束才能得到。
EUV光刻系統有兩個(gè)特點(diǎn)：
●可精確控制光束，其精度就好比從地球上發(fā)出的手電筒光線(xiàn)?？梢哉盏椒胖迷谠虑蛏系囊幻?0分歐元硬幣一樣。
●使用的鏡片需極度平攤。假設你要制作一個(gè)像德國般大小的鏡片，其最高凸起物必須低于1毫米高。
一套EUV光刻系統包含一個(gè)重達7600公斤的大型真空室，而一套EUV光刻系統有18萬(wàn)公斤重。
*本文參考《EUV是什么？》，芯通社綜合整理
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