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光刻機 文章 進(jìn)入光刻機技術(shù)社區
卡脖子也沒(méi)用 國內廠(chǎng)商芯片新技術(shù)繞過(guò)EUV光刻機
- 毫無(wú)疑問(wèn)，如今國內芯片廠(chǎng)商面前最大的障礙就是EUV光刻機，不過(guò)EUV光刻機是研制先進(jìn)芯片的一條路徑，但并非唯一解。 對于國內廠(chǎng)商來(lái)說(shuō)，當前在3D NAND閃存的發(fā)展上，就因為不需要EUV機器，從而找到了技術(shù)追趕的機會(huì )。而在DRAM內存芯片領(lǐng)域，盡管三星、美光、SK海力士找到的答案都是EUV，可來(lái)自浙江海寧的芯盟則開(kāi)辟出繞過(guò)EUV光刻的新方案。芯盟科技CEO洪沨宣布基于HITOC技術(shù)的3D 4F2 DRAM架構問(wèn)世。他指出，基于HITOC技術(shù)所開(kāi)發(fā)的全新架構3D 4F2 DRA
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臺積電高管：將在2024年引入阿斯麥最新極紫外光刻機
- 6月17日消息，據外媒報道，臺積電高管周四表示，該公司將在2024年引入荷蘭廠(chǎng)商阿斯麥的最新一代光刻機?！ ∨_積電研發(fā)高級副總裁米玉杰在硅谷舉行的技術(shù)研討會(huì )上表示，“展望未來(lái)，臺積電將在2024年引入高數值孔徑的極紫外光刻機，為的是開(kāi)發(fā)客戶(hù)所需相關(guān)基礎設施和模式解決方案，進(jìn)一步推動(dòng)創(chuàng )新?！薄 ∶子窠懿⑽赐嘎缎乱淮饪虣C引入后何時(shí)用于大規模生產(chǎn)芯片。阿斯麥推出的第二代極紫外線(xiàn)光刻機能用于制造尺寸更小、處理速度更快的芯片。臺積電競爭對手英特爾公司此前表示，將在2025年之前開(kāi)始使用新一代光刻機生產(chǎn)芯片，并
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ASML 分享 High-NA EUV 光刻機最新進(jìn)展：目標 2024-2025 年進(jìn)廠(chǎng)
- 5 月 29 日消息，半導體行業(yè)花了十多年的時(shí)間來(lái)準備極紫外線(xiàn) (EUV) 光刻技術(shù)，而新的高數值孔徑 EUV 光刻（High-NA EUV）技術(shù)將會(huì )比這更快。目前，最先進(jìn)的芯片是 4/5 納米級工藝，下半年三星和臺積電還能量產(chǎn) 3nm 技術(shù)，而對于使用 ASML EUV 光刻技術(shù)的 Twinscan NXE:3400C 及類(lèi)似系統來(lái)說(shuō)，它們大都具有 0.33 NA（數值孔徑）的光學(xué)器件，可提供 13 nm 分辨率。目前來(lái)看，這種分辨率尺寸對于 7 nm / 6 nm 節點(diǎn) (36 nm ~ 38 nm)
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業(yè)績(jì)超預期：日本佳能光刻機銷(xiāo)售火爆
- 光刻機是半導體芯片制造中的核心設備，日本佳能公司也有光刻機，現在賣(mài)得也不錯，推動(dòng)業(yè)績(jì)大漲。很多人都知道佳能主業(yè)是相機，不過(guò)這幾年全球數碼相機業(yè)務(wù)持續下滑，佳能也難免受到?jīng)_擊，最近幾年增長(cháng)的反而是其他業(yè)務(wù)，該公司即將發(fā)布2022財年（2021年4月到今年3月），預計全年利潤可達2500億日元，約合19億美元或者126億人民幣，比1月份公布的指引高出50億日元，同比大漲20%。推動(dòng)佳能業(yè)績(jì)大漲的業(yè)務(wù)主要是安全攝像頭以及光刻機，而且隨著(zhù)半導體設備投資的增加，佳能的光刻機業(yè)務(wù)還會(huì )持續增長(cháng)。從佳能官網(wǎng)上可以查到，該
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ASML公司開(kāi)撕美國？光源技術(shù)不是根源，不交付EUV光刻機另有原因
- ASML公司雖然是荷蘭企業(yè)，但不少網(wǎng)友都把ASML公司“美”化了，這里的“美”指的是美國。在華為遭遇到芯片封鎖之前，中國半導體企業(yè)就曾向ASML公司支付了定金，采購了一臺EUV光刻機。然而，ASML公司卻遲遲沒(méi)有發(fā)貨，這也引起了網(wǎng)友的各種猜疑。眾所周知，全世界只有ASML公司能夠生產(chǎn)EUV光刻機，而一部EUV光刻機上就有超過(guò)10w的精密零件，各方面的技術(shù)也是來(lái)自全世界各國的頂尖技術(shù)。所以ASML公司的光刻機一直是供不應求。但明明已經(jīng)收了定金，10億一部的EUV光刻機，ASML公司為何有生意不做呢？大部分的
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投資5000多萬(wàn) 俄羅斯計劃研發(fā)全新EUV光刻機：ASML都沒(méi)有
- 光刻機是半導體制造中的核心設備之一，EUV光刻機全球也只有ASML公司能夠研發(fā)、生產(chǎn)，但它的技術(shù)限制也很多，俄羅斯計劃開(kāi)發(fā)全新的EUV光刻機，使用的是X射線(xiàn)技術(shù)，不需要光掩模就能生產(chǎn)芯片?！ 」饪虣C的架構及技術(shù)很復雜，不過(guò)決定光刻機分辨率的主要因素就是三點(diǎn)，分別是常數K、光源波長(cháng)及物鏡的數值孔徑，波長(cháng)越短，分辨率就越高，現在的EUV光刻機使用的是極紫外光EUV，波長(cháng)13.5nm，可以用于制造7nm及以下的先進(jìn)工藝工藝?！ 《砹_斯莫斯科電子技術(shù)學(xué)院 (MIET)現在就接下了貿工部的6.7億盧布資金(約合51
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光刻機“電老虎” 中芯國際一年耗電29億度：不到臺積電零頭
- 芯片制造是公認的高科技，但是這也是個(gè)非常消耗電力及水力的行業(yè)，其中的關(guān)鍵設備光刻機就是名副其實(shí)的電老虎，EUV光刻機一天就能耗電3萬(wàn)度以上，導致晶圓生產(chǎn)中電費都是高成本的存在。那國內最大的晶圓制造企業(yè)中芯國際到底有多耗電呢？該公司日前也發(fā)布了企業(yè)責任報告，公布了2021年度的能耗情況，具體如下：2021年，中芯國際能源消耗總量為2,887.69百萬(wàn)千瓦時(shí)，能源消耗強度為12.77千瓦時(shí) /8 吋晶圓當量-光罩數，與 2020年基本相當。簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，中芯國際去年的總能耗大概是28.9億度電，其中直接的電力消耗
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佳能將于2023年上半年發(fā)售3D半導體光刻機，曝光面積是現在的4倍
- 4 月 1 日消息，據日經(jīng)中文網(wǎng)報道，佳能正在開(kāi)發(fā)用于半導體 3D 技術(shù)的光刻機。佳能光刻機新品最早有望于 2023 年上半年上市。曝光面積擴大至現有產(chǎn)品的約 4 倍，可支持 AI 使用的大型半導體的生產(chǎn)。3D 技術(shù)可以通過(guò)堆疊多個(gè)半導體芯片使其緊密連接來(lái)提高性能的方式。據介紹，在放置芯片的板狀零部件上，以很高的密度形成以電氣方式連接各個(gè)芯片的多層微細布線(xiàn)，佳能就正在開(kāi)發(fā)用于形成這種布線(xiàn)的新型光刻機，過(guò)在原基礎上改進(jìn)透鏡和鏡臺等光學(xué)零部件，來(lái)提高曝光精度以及布線(xiàn)密度。據稱(chēng)，普通光刻機的分辨率為十幾微米，但
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攻克“光源中的光源”，中國有機會(huì )
- 當前，芯片問(wèn)題廣受關(guān)注，而半導體工業(yè)皇冠上的明珠——以極紫外（EUV）光刻機為代表的高端光刻機，則是我國集成電路（IC）產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展必須邁過(guò)的“如鐵雄關(guān)”。如何在短期內加快自主生產(chǎn)高端光刻機的步伐，打破國外的技術(shù)封鎖和市場(chǎng)壟斷？筆者認為，應找準關(guān)鍵技術(shù)，攻克核心設備，躋身上游產(chǎn)業(yè)。認清光刻關(guān)鍵技術(shù)對于光刻機，憑什么美國可以左右荷蘭阿斯麥公司（ASML）EUV光刻機的出海國家？ASML又為什么“愿意”聽(tīng)從美國的“擺布”？一方面，美國在A(yíng)SML早期研發(fā)階段給予大力扶持，幫助其獲取最新的研究成果；作為繼續扶持
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總投資155億 國產(chǎn)CMOS傳感器工廠(chǎng)又迎來(lái)一臺ASML先進(jìn)光刻機搬入
- 日前國產(chǎn)芯片廠(chǎng)商格科微宣布成功實(shí)現整套ASML光刻機中的關(guān)鍵設備——先進(jìn)ArF光刻機的搬入。據格科微表示，目前，格科微潔凈室已按計劃分階段順利驗收，相關(guān)廠(chǎng)務(wù)系統配備進(jìn)展順利，共有六十一臺設備已經(jīng)搬入。未來(lái)，外延、蝕刻、薄膜、清洗等相關(guān)設備仍會(huì )陸續搬入。格科微表示，ArF光刻機的成功引入，是格科微“12英寸CIS集成電路特色工藝研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化項目”建設的關(guān)鍵節點(diǎn)。依托自有工廠(chǎng)即格科半導體的先進(jìn)制程，格科微將進(jìn)一步加快先進(jìn)CIS工藝和高階專(zhuān)利像素的研發(fā)速度，并在自有工廠(chǎng)實(shí)現批量生產(chǎn)驗證，從而極大縮短高端產(chǎn)品從研
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光刻機巨頭阿斯麥 ASML 將于新加坡擴建新產(chǎn)線(xiàn)
- 3 月 29 日消息，光刻機巨頭阿斯麥 ASML 在新加坡一間工廠(chǎng)的開(kāi)幕式上宣布，將在該工廠(chǎng)興建第二座制造車(chē)間，預計將于 2023 年初投產(chǎn)。擴建后的工廠(chǎng)將讓該公司在新加坡的產(chǎn)能增加 3 倍，全球產(chǎn)能倍增。ASML 是世界領(lǐng)先的科技公司之一，全球半導體價(jià)值鏈的主要參與者。這里設計的技術(shù)和機器有助于在新加坡、韓國或美國生產(chǎn)芯片。世界上最大的芯片制造商們都需要這種設備。在生產(chǎn)處理器芯片的過(guò)程中，EUV 光刻機最昂貴。目前全世界只有阿斯麥（ASML）能制造出 EUV 光刻機。在過(guò)去的十年時(shí)間里，阿斯麥總共售出大
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光刻機傳來(lái)新消息，臺積電不得不接受現實(shí)
- 臺積電正在加快芯片產(chǎn)能，不管是成熟工藝還是高端芯片，臺積電都具備強勁的制造實(shí)力。但臺積電并沒(méi)有就此止步，仍積極開(kāi)展美國，日本的新建工廠(chǎng)計劃。因此臺積電在未來(lái)還會(huì )有更多的產(chǎn)業(yè)鏈采購需求，可是光刻機傳來(lái)新消息，ASML表態(tài)產(chǎn)能供應不足。ASML為何會(huì )出現產(chǎn)能不足的情況呢？光刻機供應緊張，對臺積電影響幾何呢？關(guān)于光刻機供貨，ASML發(fā)出警告ASML生產(chǎn)的光刻機遍布世界各地，交付到各個(gè)芯片制造商手中，或者提供給一些廠(chǎng)商進(jìn)行生產(chǎn)研究。根據光刻機的需求不同，覆蓋領(lǐng)域也是不一樣的，從芯片制造產(chǎn)業(yè)到光刻膠材料生產(chǎn)，以及封
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ASML發(fā)出產(chǎn)能預警 芯片制造商面臨先進(jìn)光刻機供應短缺的瓶頸
- 受近年芯片供應持續短缺的影響，我們已經(jīng)看到了位于世界各地的多個(gè)晶圓廠(chǎng)的建設公告。但是在投入實(shí)際生產(chǎn)之前，這一切都受到荷蘭阿斯麥（ASML）的光刻機供應的限制。ASML 首席執行官 Peter Wennink 剛剛發(fā)出警告，稱(chēng)該公司難以滿(mǎn)足客戶(hù)的產(chǎn)品需求。據悉，ASML 專(zhuān)注于生產(chǎn)適用于半導體行業(yè)的各種類(lèi)型的光刻機，且在該領(lǐng)域處于世界領(lǐng)先地位，客戶(hù)中包括了英特爾、臺積電、三星等芯片巨頭。然而最新消息是，至少在未來(lái)幾年內，ASML 都無(wú)法順利交付所有訂單。即使今年預期的光刻機出貨量高于去年，但明年的增勢并未放
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