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光刻機
光刻機 文章 進(jìn)入光刻機技術(shù)社區
佳能押注納米壓印技術(shù) 價(jià)格比阿斯麥EUV光刻機“少一位數”
- 11月6日消息，日本佳能一直在投資納米壓?。∟ano-imprint Lithography，NIL）這種新的芯片制造技術(shù)，并計劃將新型芯片制造設備的價(jià)格定在阿斯麥最好光刻機的很小一部分，從而在光刻機領(lǐng)域取得進(jìn)展。納米壓印技術(shù)是極紫外光刻（EUV）技術(shù)的低成本替代品。佳能首席執行官御手洗富士夫(Fujio Mitarai)表示，該公司最新的納米壓印技術(shù)將為小型芯片制造商生產(chǎn)先進(jìn)芯片開(kāi)辟出一條道路?！斑@款產(chǎn)品的價(jià)格將比阿斯麥的EUV少一位數，”現年88歲的御手洗富士夫表示。這是他第三次擔任佳能總裁，上一次退
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納米壓?。阂粋€(gè)「備胎」走向「臺前」的故事
- 佳能在 10 月 13 日宣布，正式推出納米壓印半導體制造設備。對于 2004 年就開(kāi)始探索納米壓印技術(shù)的佳能來(lái)說(shuō)，新設備的推出無(wú)疑是向前邁出了一大步。佳能推出的這個(gè)設備型號是 FPA-1200NZ2C，目前可以實(shí)現最小線(xiàn)寬 14nm 的圖案化，相當于生產(chǎn)目前最先進(jìn)的邏輯半導體所需的 5 納米節點(diǎn)。佳能表示當天開(kāi)始接受訂單，目前已經(jīng)向東芝供貨。半導體行業(yè)可謂是「苦光刻機久已」，納米壓印設備的到來(lái)，讓期盼已久的半導體迎來(lái)一線(xiàn)曙光。那么什么是納米壓印技術(shù)？這種技術(shù)距離真的能夠取代光刻機嗎？納米壓印走向臺前想要
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佳能尼康，是怎么被ASML甩開(kāi)的
- 10 月，光刻機大廠(chǎng)佳能（Canon）公司通過(guò)新聞稿宣布，其已經(jīng)開(kāi)始銷(xiāo)售基于「納米印刷」（Nanoprinted lithography）技術(shù)的芯片生產(chǎn)設備 FPA-1200NZ2C。佳能表示，該設備采用不同于復雜光刻技術(shù)的方案，可以制造 5nm 芯片。消息一出，不少人發(fā)現這種設備已經(jīng)達到了 EUV 光刻機的水平，甚至將顛覆行業(yè)巨頭 ASML。自從 ASML 成功取代尼康佳能，成為高端光刻機的唯一王者之后，這還是第一次傳出這么震撼的消息。日本的光刻機，從稱(chēng)霸到被甩開(kāi)，經(jīng)歷了什么？來(lái)自上個(gè)世紀的光鮮上世紀末
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非光刻方案，佳能開(kāi)始銷(xiāo)售 5nm 芯片生產(chǎn)設備
- IT之家 10 月 14 日消息，佳能（Canon）公司近日發(fā)布新聞稿，開(kāi)始銷(xiāo)售芯片生產(chǎn)設備 FPA-1200NZ2C，表示采用不同于復雜光刻技術(shù)的方案，可以制造 5 nm 芯片。佳能表示這套生產(chǎn)設備的工作原理和行業(yè)領(lǐng)導者 ASML 不同，并非光刻，而更類(lèi)似于印刷，沒(méi)有利用圖像投影的原理將集成電路的微觀(guān)結構轉移到硅晶圓上。這套設備可以應用于最小 14 平方毫米的硅晶圓，從而可以生產(chǎn)相當于 5nm 工藝的芯片。佳能表示會(huì )繼續改進(jìn)和發(fā)展這套系統，未來(lái)有望用于生產(chǎn) 2nm 芯片。IT之家注：納米印刷（
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俄羅斯正在開(kāi)發(fā)可替代光刻機的芯片制造工具
- 近期，俄羅斯國際新聞通訊社報道，俄羅斯在開(kāi)發(fā)可以替代光刻機的芯片制造工具。據悉，圣彼得堡理工大學(xué)的研究人員開(kāi)發(fā)出了一種“光刻復合體”，可用于蝕刻生產(chǎn)無(wú)掩模芯片，這將有助于俄羅斯在微電子領(lǐng)域技術(shù)領(lǐng)域獲得主動(dòng)權。該設備綜合體包括用于無(wú)掩模納米光刻和等離子體化學(xué)蝕刻的設備，其中一種工具的成本為500萬(wàn)盧布（約36.7萬(wàn)元人民幣），另一種工具的成本未知。開(kāi)發(fā)人員介紹，傳統光刻技術(shù)需要使用專(zhuān)門(mén)的掩膜板來(lái)獲取圖像。該裝置由專(zhuān)業(yè)軟件控制，可實(shí)現完全自動(dòng)化，隨后的另外一臺設備可直接用于形成納米結構，但也可以制作硅膜，例如
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ASML再次改口！國家迅速回應，外媒：荷蘭將光刻機事情鬧大了
- 近年來(lái)，光刻機行業(yè)發(fā)展迅猛，成為半導體產(chǎn)業(yè)的重要一環(huán)。ASML公司作為全球光刻機行業(yè)的龍頭企業(yè)，其對華出口光刻機的態(tài)度一直備受關(guān)注。然而，最近ASML公司的態(tài)度再次發(fā)生變化，引發(fā)了國家的迅速回應。荷蘭的決定被外媒認為將光刻機事情鬧大了。本文將分別從ASML公司態(tài)度的變化、荷蘭及日本的對華出口管控、ASML公司的技術(shù)依賴(lài)和市場(chǎng)地位、我國光刻機技術(shù)的突破、ASML公司對華出口限制的影響以及中企自主掌握核心技術(shù)等方面進(jìn)行分析。ASML公司對華出口光刻機態(tài)度的變化ASML公司在對華出口光刻機的態(tài)度上一直搖擺不定。
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光刻機發(fā)展要另辟蹊徑？
- 最近，光刻機話(huà)題異?；馃?，似乎全世界都在關(guān)注中國本土相關(guān)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。要想制造出一臺可商用的高端光刻機（可制造 7nm 及更先進(jìn)制程芯片），是一項復雜的工程，因為高端光刻機所需要的精密零部件太多了，每一種的技術(shù)含量都非常高，而且，要想把這些零部件組合成一臺可用的機器，需要長(cháng)期的技術(shù)和實(shí)踐積累。光刻這個(gè)概念，有廣義和狹義之分。在狹義層面，就是用光去「復印」集成電路圖案，這也是我們常說(shuō)的光學(xué)光刻技術(shù)，特別是紫外線(xiàn)光刻技術(shù)（DUV 和 EUV）。在廣義層面，光刻泛指各種集成電路「復印」和「印刷」技術(shù)，這些技術(shù)中，
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國產(chǎn)光刻機工廠(chǎng)落地雄安？中國電子院澄清：這是北京高能同步輻射光源
- 近期，一則消息在各大視頻平臺廣為傳播，稱(chēng)清華大學(xué)EUV項目把ASML的光刻機巨大化，實(shí)現了光刻機國產(chǎn)化，并表示這個(gè)項目已經(jīng)在雄安新區落地。對此，中國電子工程設計院有限公司（下稱(chēng)中國電子院）9月18日發(fā)聲，稱(chēng)該項目并非網(wǎng)傳的國產(chǎn)光刻機工廠(chǎng)，而是北京高能同步輻射光源項目（HEPS）。北京高能同步輻射光源項目坐落于北京懷柔雁棲湖畔，是國家“十三五”重大科技基礎設施，它是我國第一臺高能量同步輻射光源，也是世界上亮度最高的第四代同步輻射光源之一。該項目早在2019年就開(kāi)始建設、將于2025年底投入使用。北京高能同步
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光刻機之爭掀起第三波浪潮
- 當下，光刻機在半導體行業(yè)的地位前所未有的重要，而且已經(jīng)突破了技術(shù)和產(chǎn)業(yè)范疇，引發(fā)了新一波光刻機之爭。從歷史發(fā)展情況來(lái)看，光刻機（這里主要指用于制造集成電路前道工序的光刻機）的發(fā)展和應用經(jīng)歷了很多波折，總體來(lái)看，有兩個(gè)值得關(guān)注的時(shí)期，一個(gè)是 ASML 依靠浸沒(méi)式技術(shù)，異軍突起，并將原本的行業(yè)兩強甩在身后，這是技術(shù)之戰，另一個(gè)是 EUV 商用化之后，先進(jìn)制程（從 16nm 開(kāi)始）爭奪戰打響，臺積電、三星電子和英特爾這三家為了爭奪產(chǎn)量有限的 EUV 而展開(kāi)競爭，這是商業(yè)之爭。從目前的情況來(lái)看，第三波光刻機之爭正
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尼康推出新一代步進(jìn)式光刻機“NSR-2205iL1”，2024 年夏季上市
- IT之家 9 月 6 日消息，尼康宣布推出新一代具有 5 倍縮小投影倍率的 i-line 步進(jìn)式光刻機“NSR-2205iL1”，預計 2024 年夏季上市。據稱(chēng)，這種光刻機具有縮小投影放大系統，支持功率半導體、通信半導體和 MEMS 等多種產(chǎn)品，并且與尼康現有的 i-line 曝光設備高度兼容；NSR-2205iL1 代表了尼康 5 倍步進(jìn)技術(shù)在過(guò)去二十五年中的最重大的更新，將可直接響應客戶(hù)對這些在芯片制造中發(fā)揮重要作用的光刻系統的需求。尼康表示，與現有的尼康 i-line 曝光系統相比，NS
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日本與荷蘭簽署半導體合作備忘錄：采購 ASML 光刻機，加強技術(shù)合作
- IT之家 6 月 26 日消息，據日本經(jīng)濟新聞報道，日本經(jīng)產(chǎn)省與荷蘭經(jīng)濟事務(wù)和氣候政策部在東京簽署了半導體合作備忘錄。二者將共同推進(jìn)欲量產(chǎn) 2 nm 工藝的日本晶圓代工商 Rapidus 與荷蘭光刻機巨頭 ASML 的合作，并聯(lián)手進(jìn)行技術(shù)開(kāi)發(fā)?！?圖源：ASML報道稱(chēng)，ASML 量產(chǎn)尖端半導體工藝所需的 EUV 光刻機。Rapidus 計劃利用經(jīng)產(chǎn)省提供的補貼，采購 EUV 光刻設備。IT之家注意到，EUV 光刻機在全球范圍內較為短缺，面臨著(zhù)臺積電、英特爾、三星等巨頭的爭搶。報道指出，如果 Ra
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開(kāi)始1-γ芯片制程開(kāi)發(fā)？美光日本廠(chǎng)擬引入ASML光刻機
- 知情人士稱(chēng)，美國美光科技公司準備在日本廣島的工廠(chǎng)安裝荷蘭ASML公司的先進(jìn)芯片制造設備EUV（極紫外光刻機），以制造下一代存儲芯片（DRAM）。而其也將獲得日本政府提供的約2000億日元（15億美元）的補貼。日本經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)大臣西村康稔之后證實(shí)了美光在日的進(jìn)一步投資。他指出，日本政府正與臺積電討論擴大在日投資的可能性，美光也有意在廣島開(kāi)始大規模生產(chǎn)先進(jìn)存儲芯片。今日（周四），日本首相岸田文雄會(huì )見(jiàn)了美光首席執行官Sanjay Mehrotra在內的芯片高管代表團，而有關(guān)芯片的詳細計劃可能在之后陸續宣布。自201
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2025搞定2nm工藝 日本芯片公司Rapidus已搞定EUV光刻機
- 5月17日消息，原本已經(jīng)落后的日本半導體制造行業(yè)近年來(lái)加快了追趕速度，去年8月份索尼、豐田等8家企業(yè)出資成立了Rapidus，計劃2025年試產(chǎn)2nm工藝，而且很快就籌備了EUV光刻機。日本當前的邏輯工藝還在28nm以上，但是Rapidus公司選擇跳過(guò)中間的工藝，直接搞2nm工藝，而5nm以下的工藝都離不開(kāi)EUV光刻機，不論研發(fā)還是制造都要先買(mǎi)設備。Rapidus社長(cháng)小池淳義日前在采訪(fǎng)中透露，他們已經(jīng)完成了1臺EUV光刻機的籌備，不過(guò)具體的型號及進(jìn)度沒(méi)有說(shuō)明，不確定是ASML的哪款EUV光刻機，何時(shí)安裝、
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在光刻機新技術(shù)的研發(fā)上, 我們似乎又掉隊了
- 目前全球僅4家廠(chǎng)商，能夠制造光刻機，分別是荷蘭的ASML，日本的尼康、佳能，和上海的微電子。從技術(shù)水平來(lái)看，ASML>尼康>佳能>上海微電子。如下圖所示，ASML的光刻機能夠達到3nm的精度了，而尼康的主要在28nm及以上，而佳能、上海微電子的在90nm以上。再給大家一個(gè)數字，這是某機構統計的，2021年全球半導體前道光刻機的銷(xiāo)售情況，從這張表可以看出來(lái)，小米7nm的EUV光刻機，ASML全部包攬。在45-7nm的光刻機上，僅有尼康、ASML能夠推出，尼康也就是打醬油，僅賣(mài)出4臺，另外的
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