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光刻機
光刻機 文章 進(jìn)入光刻機技術(shù)社區
中芯國際稱(chēng)7nm EUV光刻機問(wèn)題已解決 技術(shù)研發(fā)步入正軌
- 在半導體工藝進(jìn)入10nm節點(diǎn)之后，制造越來(lái)越困難，其中最復雜的一步——光刻需要用到EUV光刻機了，而后者目前只有荷蘭ASML阿斯麥公司才能供應。中芯國際去年也訂購了一臺EUV光刻機，日前該公司表示與ASML之間已解決光刻機的問(wèn)題，EUV技術(shù)研發(fā)步入正軌。前不久有消息稱(chēng)ASML停止對中芯國際供應EUV光刻機，隨后ASML公司表示不是停供，而是延期，主要是在準備該國政府的出口申請文本工作。中芯國際董事長(cháng)周子學(xué)日前在韓國訪(fǎng)問(wèn)，韓媒報道稱(chēng)周子學(xué)表態(tài)已經(jīng)解決了與ASML之間就光刻機供應存在的問(wèn)題，強調中芯國際在先進(jìn)
- 關(guān)鍵字： 光刻機 極紫外光刻
唯一打破ASML光刻機雙工臺技術(shù)壟斷：華卓精科擬登陸科創(chuàng )板
- 近年來(lái)，隨著(zhù)國家的大力支持以及國內市場(chǎng)需求的快速增長(cháng)，國產(chǎn)半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅猛，而在關(guān)鍵的國產(chǎn)半導體設備領(lǐng)域也有了不小的進(jìn)步。比如在硅刻蝕機領(lǐng)域，北方華創(chuàng )實(shí)現了14nm設備的突破，同時(shí)也在去年實(shí)現了適用于8英寸晶圓的金屬刻蝕機的研發(fā)和生產(chǎn)。已經(jīng)登錄科創(chuàng )板的中微半導體自主研發(fā)的5nm等離子體刻蝕機經(jīng)臺積電驗證，性能優(yōu)良，將用于全球首條5nm制程生產(chǎn)線(xiàn)。但是在晶圓制造環(huán)節更為關(guān)鍵的光刻機領(lǐng)域，卻仍與國外有著(zhù)巨大的差距。目前荷蘭的ASML是全球最大的光刻機制造商，占據了全球光刻機市場(chǎng)（按銷(xiāo)售計）的近90%的市場(chǎng)份
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國家半導體大基金二期募資2041億 國產(chǎn)EUV光刻機有望解決？
- 據報道，第二期國家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金——也就是大基金，已經(jīng)在10月22日注冊成立，注冊資本高達2041.5億元，比第一期的1387.2億元高出一半多，最快11月份開(kāi)始投資，這次投資重點(diǎn)是半導體裝備及材料行業(yè)。為了推動(dòng)半導體行業(yè)投資，2014年國務(wù)院發(fā)布《國家集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展推進(jìn)綱要》，提出要設立國家產(chǎn)業(yè)投資基金。2014 年9月24日，國家財政部、國開(kāi)金融、中國煙草、亦莊國投、中國移動(dòng)、上海國盛、中國電子、中國電科、華芯投資等共同發(fā)起“國家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金”，這就是俗稱(chēng)的大基金。目前，國家
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EUV光刻機將如何發(fā)展？
- AI、5G應用推動(dòng)芯片微縮化，要實(shí)現5nm、3nm等先進(jìn)制程，意味著(zhù)需要更新穎的技術(shù)支援以進(jìn)行加工制造，半導體設備商遂陸續推出新一代方案。AI、5G應用推動(dòng)晶片微縮化，要實(shí)現5nm、3nm等先進(jìn)制程，意味著(zhù)需要更新穎的技術(shù)支援以進(jìn)行加工制造，為此，艾司摩爾(ASML)持續強化極紫外光(EUV)微影系統效能。艾司摩爾(ASML)資深市場(chǎng)策略總監Boudewijn Sluijk表示，VR/AR、自動(dòng)駕駛、5G、大數據及AI等，持續推動(dòng)半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展，為滿(mǎn)足各式應用、資料傳輸，以及演算法需求，芯片效能不斷提高的
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北京加快突破光刻機“卡脖子”難題
- 我國正加速實(shí)現中高端光刻機的國產(chǎn)化。近日，亦莊企業(yè)北京國望光學(xué)科技有限公司增資項目在北京產(chǎn)權交易所完成。通過(guò)此次增資，國望光學(xué)引入中國科學(xué)院長(cháng)春光學(xué)精密機械與物理研究所和中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機械研究所作為戰略投資者，兩家機構以無(wú)形資產(chǎn)作價(jià)10億元入股，對應持股比例為33.33%。這意味著(zhù)北京在推動(dòng)國產(chǎn)光刻機核心部件生產(chǎn)方面邁出實(shí)質(zhì)性步伐，將加快突破國產(chǎn)中高端光刻機制造“卡脖子”技術(shù)難題。
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日韓貿易戰 才發(fā)現日本還是半導體王者
- 日本真的失去20年了嗎？1、日本的進(jìn)攻上一次日本參與半導體界的貿易戰還是30年前，當時(shí)日本和美國的芯片大戰改變了全球半導體產(chǎn)業(yè)的格局。從結果看，日本基本輸掉了內存芯片的高地，加上去年?yáng)|芝出售閃存芯片業(yè)務(wù)，日本半導體制造的衰落成為公認的事實(shí)。隔壁的韓國則順勢搶下內存產(chǎn)業(yè)，三星、SK海力士等企業(yè)在存儲產(chǎn)業(yè)的崛起，給外界傳達了掌控上游產(chǎn)業(yè)鏈的高科技形象。然而，這一次日韓貿易戰的爆發(fā)，印象突然反轉。原來(lái)山外有山，上游之中也有層次，日本恰恰站在了食物鏈頂端。在亞洲的局部戰中，大家又開(kāi)始重新審視日本的力量。根據日本政
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ASML除了光刻機還有什么秘密武器
- ASML( Advanced Semiconductor Material Lithography)是半導體光刻系統的主要供應商，也是EUV系統的唯一供應商。根據Network題為“Sub 100nm光刻:市場(chǎng)分析與戰略問(wèn)題”的報道，ASML當前取得的成績(jì)可以匯總為以下幾點(diǎn): 1)ASML占據EUV光刻市場(chǎng)100%的份額; 2)ASML占據浸沒(méi)式193nm DUV光刻市場(chǎng)93%的份額; 3)ASML占據248nm DUV光刻行業(yè)73%的份額?！ ?016年，ASML以31億美元收購了He
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全面起底光刻機7nm芯片制造工藝
- 對于業(yè)界傳言說(shuō)中國光刻機超越世界領(lǐng)先水平，這點(diǎn)內容不夠準確。嚴格意義上來(lái)說(shuō)，中國屬于蝕刻技術(shù)達到了一定的水平，光刻機制造技術(shù)目前還是依靠荷蘭進(jìn)口?！ ⊥ㄟ^(guò)引進(jìn)進(jìn)口，能夠將7nm搞定，這就是一大進(jìn)步了。其實(shí)更低的制程雖然好，但良品率很重要，不能一味追求制程，還要在芯片設計創(chuàng )新上下功夫的。就像炒菜的鐵鍋，幾十塊的鐵鍋和幾千塊的鐵鍋，師傅不同，炒菜出來(lái)味道就很不一樣了哦?！ ≈皇沁@臺光刻機理論上確實(shí)可以達到7納米，但媒體和網(wǎng)民卻忘了有一種東西叫做工藝，這也是為什么同樣的設備臺積電的7納米可以量產(chǎn)而三星卻
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