國產(chǎn)光刻機工廠(chǎng)落地雄安?中國電子院澄清:這是北京高能同步輻射光源
近期,一則消息在各大視頻平臺廣為傳播,稱(chēng)清華大學(xué)EUV項目把ASML的光刻機巨大化,實(shí)現了光刻機國產(chǎn)化,并表示這個(gè)項目已經(jīng)在雄安新區落地。
本文引用地址:http://dyxdggzs.com/article/202309/450676.htm對此,中國電子工程設計院有限公司(下稱(chēng)中國電子院)9月18日發(fā)聲,稱(chēng)該項目并非網(wǎng)傳的國產(chǎn)光刻機工廠(chǎng),而是北京高能同步輻射光源項目(HEPS)。
北京高能同步輻射光源項目坐落于北京懷柔雁棲湖畔,是國家“十三五”重大科技基礎設施,它是我國第一臺高能量同步輻射光源,也是世界上亮度最高的第四代同步輻射光源之一。該項目早在2019年就開(kāi)始建設、將于2025年底投入使用。
北京高能同步輻射光源項目實(shí)拍圖
HEPS是干嘛用的呢?它的作用是通過(guò)加速器將電子束加速到6GeV,然后注入周長(cháng)1360米的儲存環(huán),用接近光速的速度保持運轉。電子束在儲存環(huán)的不同位置通過(guò)彎轉磁鐵或者各種插入件時(shí)就會(huì )沿著(zhù)偏轉軌道切線(xiàn)的方向,釋放出穩定、高能量、高亮度的光,也就是同步輻射光。
中國電子院解釋稱(chēng),HEPS可以看成是一個(gè)超精密、超高速、具有強大穿透力的巨型X光機,它產(chǎn)生的小光束可以穿透物質(zhì)、深入內部進(jìn)行立體掃描,從分子、原子的尺度多維度地觀(guān)察微觀(guān)世界,HEPS是進(jìn)行科學(xué)實(shí)驗的大科學(xué)裝置,并不是網(wǎng)傳的光刻機工廠(chǎng)。
中國電子院稱(chēng),該項目由全國勘察設計大師、國投集團首席科學(xué)家?jiàn)溆顜ш?,中國電子院多個(gè)技術(shù)科研和設計團隊協(xié)同合作,從項目可研立項到項目落地攻克了多項技術(shù)和工藝難關(guān)。目前高能同步輻射光源配套工程已全面完工。
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