非光刻方案，佳能開(kāi)始銷(xiāo)售 5nm 芯片生產(chǎn)設備

IT之家 10 月 14 日消息，佳能（Canon）公司近日發(fā)布新聞稿，開(kāi)始銷(xiāo)售芯片生產(chǎn)設備 FPA-1200NZ2C，表示采用不同于復雜光刻技術(shù)的方案，可以制造 5 nm 芯片。

佳能表示這套生產(chǎn)設備的工作原理和行業(yè)領(lǐng)導者 ASML 不同，并非光刻，而更類(lèi)似于印刷，沒(méi)有利用圖像投影的原理將集成電路的微觀(guān)結構轉移到硅晶圓上。

這套設備可以應用于最小 14 平方毫米的硅晶圓，從而可以生產(chǎn)相當于 5nm 工藝的芯片。

佳能表示會(huì )繼續改進(jìn)和發(fā)展這套系統，未來(lái)有望用于生產(chǎn) 2nm 芯片。

IT之家注：納米印刷（Nanoprinted lithography）通常被認為是光學(xué)光刻的低成本替代品，SK 海力士和鎧俠等存儲芯片制造商過(guò)去曾嘗試過(guò)使用。鎧俠此前進(jìn)行過(guò)測試，不過(guò)潛在客戶(hù)提出投訴，認為產(chǎn)品缺陷率較高，最后選擇放棄。