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光刻機
光刻機 文章 進(jìn)入光刻機技術(shù)社區
光刻機領(lǐng)域國內接近世界先進(jìn)水平，9nm線(xiàn)寬光刻實(shí)現突破
- SEMICON China 2017開(kāi)幕日即3月14日，上海微電子裝備(集團)股份有限公司(后簡(jiǎn)稱(chēng)“SMEE”)宣布，SMEE 與荷蘭公司 ASML 簽署戰略合作備忘錄(MoU)，為雙方進(jìn)一步的潛在合作奠定了基礎。 根據這項合作備忘錄，ASML 和 SMEE 將探索就 ASML 光刻系統的特定模塊或半導體行業(yè)相關(guān)產(chǎn)品進(jìn)行采購的可能性。此次MoU的簽署代表 ASML 繼日前與上海集成電路研發(fā)中心(ICRD)宣布合作之后，進(jìn)一步深入參與中國的IC產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。 光刻機被稱(chēng)
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沉浸式光刻機供貨緊缺 臺系內存芯片廠(chǎng)制程升級受阻
- 據內存業(yè)者透露，由于著(zhù)名光刻設備廠(chǎng)商ASML生產(chǎn)的NXT:1950i沉浸式光刻機目前供貨十分緊缺，因此臺系內存芯片廠(chǎng)商收到所訂購的這種設備的時(shí)間 可能會(huì )再后延12個(gè)月之久，由于NXT:1950i沉浸式光刻機對這些廠(chǎng)商轉移到38nm以上級別制程至關(guān)重要，因此預計臺系內存芯片廠(chǎng)商制程轉換的進(jìn)度 會(huì )受到較大的影響。NXT:1950i 是荷蘭ASML公司最新開(kāi)發(fā)的沉浸式光刻機，可用于制造12英寸32nm及以上級別制程的產(chǎn)品. 此前曾有報道稱(chēng) NXT:1950i的訂貨至到貨日期已經(jīng)被拉長(cháng)到了將近12個(gè)月，
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ASML Q2業(yè)績(jì)創(chuàng )新高 6套EUV設備將交貨
- ASML日前宣布，其2010年Q2凈銷(xiāo)售達到1,069 million歐元，凈收入為239 million 歐元，Q2的凈訂單價(jià)值1,179 million 歐元，包括了48套新系統及11套二手系統。各項數據均較2010年Q1有所提高。 ASML總裁兼CEO Eric Meurice認為，Q2銷(xiāo)售的強勁增長(cháng)證明了半導體產(chǎn)業(yè)近期對于光刻設備的需求，已有近20套NXT:1950i 設備運出。所有ASML的先進(jìn)NXT光刻機都包括了一個(gè)或多個(gè)一體化光刻部件。對于下一代將要應用于20nm以下節點(diǎn)的產(chǎn)品，E
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全球存儲器短缺的三個(gè)理由
- 2010年全球存儲器可能出現供應缺貨，而且非?？赡軙?huì )延續下去。為什么?可能有三個(gè)原因，1)，存儲器市場(chǎng)復蘇;2)，前幾年中存儲器投資不足;3)，由ASML供應的光刻機交貨期延長(cháng)。 巴克菜投資公司的分析師 Tim Luke在近期的報告中指出，通過(guò)存儲器的食物供應鏈看到大量的例證，認為目前存儲器供應偏緊的局面將持續2010整年，甚至延伸到2011年。 據它的報告稱(chēng)，2010年全球NAND閃存的位增長(cháng)可達70%，而2009增長(cháng)為41%。2010年全球DRAM的位增長(cháng)達52%。 Luke認為
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半導體業(yè)衰退重創(chuàng )設備業(yè)
- 在全球金融危機影響下，半導體業(yè)正進(jìn)入前所未遇的嚴重衰退時(shí)期，半導體固定資產(chǎn)投資在2008年下降27.3%基礎上，2009年將再下降34.1%。綜合分析各大分析機構的預測數據，2009年全球半導體業(yè)年銷(xiāo)售額的下降幅度將在15%到20%之間。 半導體設備業(yè)受災最重 半導體產(chǎn)業(yè)鏈中設備業(yè)受到的影響相對最為嚴重。依Gartner公司的官方數據顯示，全球半導體業(yè)固定資產(chǎn)投資兩年來(lái)逐漸下滑，2007年為592億美元，2008年下降了27.3%，為490億美元，而09年將再次下降34.1%，為323億美
- 關(guān)鍵字： 應用材料 半導體 存儲器 處理器 光刻機 芯片制造 200906
KLA-Tencor推出可解決二次成像挑戰的首款計算光刻機
- KLA-Tencor 公司（納斯達克股票代碼：KLAC）今天推出其領(lǐng)先業(yè)界的最新版計算光刻機 PROLITH 11。這種新型光刻機讓用戶(hù)首次得以評估當前的二次成像方案，并以較低的成本針對光刻在設計、材料與制程開(kāi)發(fā)等方面挑戰，嘗試不同的解決方案。這種新型計算光刻機還支持單次成像和浸沒(méi)技術(shù)。 KLA-Tencor 制程控制信息部副總裁兼總經(jīng)理 Ed Charrier 指出：“由于光刻復雜性及實(shí)驗成本的大幅增加，電路設計師與芯片制造商不得不面對二次成像光刻所帶來(lái)的挑戰。計算光刻已成為控制這
- 關(guān)鍵字： KLA-Tencor 光刻機 二次成像光刻
中芯國際今年將進(jìn)全球45納米"俱樂(lè )部"
- 中芯國際正悄悄從海外進(jìn)口關(guān)鍵設備，欲搶在今年年底試產(chǎn)45納米芯片，從而進(jìn)入全球半導體代工業(yè)45納米的“俱樂(lè )部”。 消息人士對《第一財經(jīng)日報》透露，29日中芯國際上海12英寸廠(chǎng)采購浸潤式光刻機已到位，“這標志著(zhù)中芯國際在量產(chǎn)45納米芯片方面有了生產(chǎn)保障。” 天價(jià)光刻機悄悄到廠(chǎng) 本報獲悉，這是中國大陸的第一臺浸潤式光刻機，該設備由荷蘭ASML生產(chǎn)，后者是全球這一領(lǐng)域的第一大供應商。上述消息人士透露，由于光刻機屬高精密設備，為防止震動(dòng)，從機場(chǎng)
- 關(guān)鍵字： 中芯國際 45納米 芯片 半導體 臺積電 光刻機
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