ASML TWINSCAN系統實(shí)現新的里程碑

　　ASML近日宣布，兩位使用TWINSCAN 光刻機的芯片制造商實(shí)現了生產(chǎn)新紀錄，即在24小時(shí)內實(shí)現了超過(guò)4000片晶圓的處理。這個(gè)里程碑記錄是在XT:870和XT:400上實(shí)現的，兩家使用者為亞洲的不同客戶(hù)。設備幫助他們提高了300mm光刻生產(chǎn)能力。

　　ASML和客戶(hù)一直致力于共同提高ASML光刻機的生產(chǎn)能力。ASML努力改善光刻機的硬件和軟件，而客戶(hù)則專(zhuān)注于改進(jìn)工藝菜單和制造工藝。

　　衡量共同努力的一項關(guān)鍵指標就是一天之內處理的晶圓數量。另一項衡量指標是設備能夠在365天內實(shí)現100萬(wàn)片晶圓處理。第一臺實(shí)現一年內處理超過(guò)100萬(wàn)晶圓的ASML TWINSCAN系統的是TWINSCAN XT:400E iLine，時(shí)間是在2007年10月?，F在已有超過(guò)200臺設備達到了這個(gè)指標，包括了iLine、KrF和ArF，以及超過(guò)25臺浸入式光刻機。另外，最快實(shí)現100萬(wàn)晶圓處理的時(shí)間是37周。

　　“光刻機這樣復雜的設備能實(shí)現生產(chǎn)的里程碑，這是我們的員工和客戶(hù)共同努力合作的結果。”ASML CMO和執行副總裁Frits van Hout說(shuō)，“為客戶(hù)提供高生產(chǎn)效率一直是ASML的目標。我們將一如既往的提升我們的價(jià)值。”