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二次成像光刻
二次成像光刻 文章 進(jìn)入二次成像光刻技術(shù)社區
KLA-Tencor推出可解決二次成像挑戰的首款計算光刻機
- KLA-Tencor 公司（納斯達克股票代碼：KLAC）今天推出其領(lǐng)先業(yè)界的最新版計算光刻機 PROLITH 11。這種新型光刻機讓用戶(hù)首次得以評估當前的二次成像方案，并以較低的成本針對光刻在設計、材料與制程開(kāi)發(fā)等方面挑戰，嘗試不同的解決方案。這種新型計算光刻機還支持單次成像和浸沒(méi)技術(shù)。 KLA-Tencor 制程控制信息部副總裁兼總經(jīng)理 Ed Charrier 指出：“由于光刻復雜性及實(shí)驗成本的大幅增加，電路設計師與芯片制造商不得不面對二次成像光刻所帶來(lái)的挑戰。計算光刻已成為控制這
- 關(guān)鍵字： KLA-Tencor 光刻機 二次成像光刻
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二次成像光刻介紹
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