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中科院研發(fā)者回應5納米光刻技術(shù)突破ASML壟斷
- 今年7月，在中國科學(xué)院官網(wǎng)上發(fā)布了一則研究進(jìn)展，中科院蘇州所聯(lián)合國家納米中心在《納米快報》（Nano Letters）上發(fā)表了題為《超分辨率激光光刻技術(shù)制備5納米間隙電極和陣列》（5 nm Nano gap Electrodes and Arrays by a Super-resolution Laser Lithography）的研究論文，介紹了該團隊研發(fā)的新型5 納米超高精度激光光刻加工方法。該論文發(fā)表在《納米快報》（NanoLetters）。圖截自官網(wǎng)ACS官網(wǎng) 消息一經(jīng)發(fā)出，外界一片沸騰，一
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荷蘭巨頭1nm光刻機迎新突破！中國訂購的EUV光刻機呢？
- 據TechWeb網(wǎng)站11月30日最新報道，近日荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）又送來(lái)一則好消息，該司已經(jīng)與比利時(shí)半導體研究機構IMEC共同完成了1nm光刻機的設計工作?！ 私?，先進(jìn)制程的光刻機對于曝光設備的分辨率要求更高。與此同時(shí)，ASML已經(jīng)完成了0.55NA曝光設備的基本設計工作。按照阿斯麥的計劃，預計相應的曝光設備全線(xiàn)準備好之后，會(huì )在2022年實(shí)現商業(yè)化?！ ∪欢?，這家荷蘭企業(yè)的光刻機制造技術(shù)卻變得重大突破之際，我國芯片制造巨頭——中芯國際自阿斯麥訂購的EUV光刻機至今卻還未到貨。據悉，中芯
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華為+中科院攻關(guān)EUV光刻機？ASML華裔工程師：天方夜譚
- 9月16日，中國科學(xué)院院長(cháng)白春禮在國新辦發(fā)布會(huì )上介紹稱(chēng)，“率先行動(dòng)”計劃第二階段要把美國“卡脖子”的清單變成科研任務(wù)清單進(jìn)行布局，集中全院力量聚焦國家最關(guān)注的重大領(lǐng)域攻關(guān)。白春禮稱(chēng)，從2021年到2030年未來(lái)的十年是“率先行動(dòng)”計劃第二階段。對此，首先要進(jìn)行體制機制改革。他稱(chēng)，目前已經(jīng)設立了創(chuàng )新研究院、卓越創(chuàng )新中心、大科學(xué)中心和特色所四類(lèi)機構，目的是根據科研性質(zhì)不同進(jìn)行分類(lèi)定位、分類(lèi)管理、分類(lèi)評價(jià)、分類(lèi)資源配置?！斑@個(gè)工作還沒(méi)有完，只是進(jìn)行了一部分，所以第二階段我們爭取在2025年要把四類(lèi)機構全部做完，
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Intel/臺積電/ASML齊捧EUV光刻：捍衛摩爾定律
- 日前，中國國際半導體技術(shù)大會(huì )（CSTIC）在上海開(kāi)幕，為期19天，本次會(huì )議重點(diǎn)是探討先進(jìn)制造和封裝。其中，光刻機一哥ASML（阿斯麥）的研發(fā)副總裁Anthony Yen表示，EUV光刻工具是目前唯一能夠處理7nm和更先進(jìn)工藝的設備，EUV技術(shù)已經(jīng)被廣泛認為是突破摩爾定律瓶頸的關(guān)鍵因素之一。Yen援引統計數據顯示，截至2019年第四季度，ASML當年共售出53臺EUV NXE：3400系列EUV光刻機，使用EUV機器制造的芯片產(chǎn)量已經(jīng)達到1000萬(wàn)片。他說(shuō)，EUV已經(jīng)成為制造7nm、5nm和3nm邏輯集成電
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5nm工藝起飛 ASML宣布全新半導體技術(shù)：產(chǎn)能大漲600%
- 提到荷蘭ASML公司，大家都知道他們是全球唯一的EUV光刻機供應商，7nm及以下的工藝生產(chǎn)都要靠他們的設備。不過(guò)ASML不只是光刻機厲害，今天他們宣布了另外一個(gè)新產(chǎn)品——第一代HMI多光束檢測機HMI eScan1000，適用于5nm及更先進(jìn)工藝，使得產(chǎn)能大漲600%。隨著(zhù)制程工藝不斷提升，晶圓的制造也越來(lái)越復雜，這也會(huì )導致晶圓中的錯誤更多，HMI eScan1000就是一套基于HMI多光束技術(shù)的檢測系統，內部也有復雜的光電子系統，能夠產(chǎn)生、控制多個(gè)電子束，然后根據反射回來(lái)的電子束成像來(lái)分析晶圓質(zhì)量，并有
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光刻機制造商ASML：疫情中公司訂單依然強勁
- 據外媒報道，由于擔心新型冠狀病毒疫情帶來(lái)的不確定性，三星和臺積電的半導體設備供應商ASML宣布撤回2020年第二季度的業(yè)績(jì)預期。不過(guò)，這家生產(chǎn)極紫外線(xiàn)(EUV)光刻設備的荷蘭公司補充說(shuō)，該公司的設備訂單依然強勁，需求也沒(méi)有變化。ASML首席執行官彼得·溫寧克（Peter Wennink）說(shuō)：“需求前景沒(méi)有變化，今年我們沒(méi)有遇到任何推遲或取消交易的情況。盡管當前形勢充滿(mǎn)挑戰，但到目前為止，我們能夠繼續保持正常業(yè)務(wù)?！钡珳貙幙搜a充說(shuō)：“目前新型冠狀病毒疫情將如何影響全球GDP發(fā)展、終端市場(chǎng)、我們的制造能力以及
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2021年ASML將推下一代EUV光刻機 面向2nm、1nm工藝
- 作為全球唯一能生產(chǎn)EUV光刻機的公司,荷蘭ASML公司去年出售了26臺EUV光刻機,主要用于臺積電、三星的7nm及今年開(kāi)始量產(chǎn)的5nm工藝,預計今年出貨35臺EUV光刻機。目前ASML出貨的光刻機主要是NXE:3400B及改進(jìn)型的NXE:3400C,兩者基本結構相同,但NXE:3400C采用模塊化設計,維護更加便捷,平均維修時(shí)間將從48小時(shí)縮短到8-10小時(shí),支持7nm、5nm。此外,NXE:3400C的產(chǎn)能也從之前的125WPH(每小時(shí)處理晶圓數)提升到了175WPH。不論NXE:3400B還是NXE:
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