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分析師：ASML是導致內存芯片供不應求局面的罪魁之一
- 對于內存廠(chǎng)商來(lái)說(shuō)，已經(jīng)過(guò)去的2009年就像是一場(chǎng)噩夢(mèng)。而2010年情況則大有好轉，可是今年內存廠(chǎng)商卻遇上了芯片供貨緊缺，芯片產(chǎn)品投產(chǎn)準備時(shí)間加 長(cháng)，產(chǎn)品價(jià)格居高不下的問(wèn)題。在本周三舉辦的Memcon會(huì )議上，一位分析師將今年內存廠(chǎng)商遇到的這些問(wèn)題歸結為由內存廠(chǎng)商自身的問(wèn)題而引起，不過(guò)著(zhù)名光 刻設備制造商ASML則也在被指責之列。 Objective Analysis市調公司的分析師Jim Handy認為內存市場(chǎng)的上揚期恐怕不久便會(huì )結束，他并稱(chēng)2011年中期或2012年間內存芯片
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ASML整合微影方案獲意法采用
- 受惠于晶圓代工與DRAM廠(chǎng)推出先進(jìn)制程，對浸潤式顯影機臺需求大增，讓半導體設備大廠(chǎng)艾斯摩爾(ASML)2010年接單暢旺，隨著(zhù)半導體制程推進(jìn)5x奈米以下先進(jìn)制程，制程復雜度大增，亦需加緊提高量良率，讓ASML甫于2009年推出的整合微影技術(shù)(Holistic Lithography)系列產(chǎn)品，已獲得意法半導體(STMicroelectronics)采用于28奈米制程。 ASML指出，隨著(zhù)半導體制程推進(jìn)到50x奈米以下制程，業(yè)者投入的經(jīng)費越來(lái)越高昂，生產(chǎn)時(shí)程亦拉得更長(cháng)，良率更難提升，制程容許度(p
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Sokudo早餐會(huì )上論光刻技術(shù)趨勢
- 在SEMICON West舉行的Sokudo光刻論壇上對于實(shí)現22nm的各類(lèi)光刻技術(shù)的進(jìn)展、挑戰與未來(lái)市場(chǎng)前景進(jìn)行了熱烈的討論。 作為193nm光刻技術(shù)的接替者，ASML仍是全球EUV(遠紫外光光刻機) 技術(shù)的領(lǐng)先供應商。該公司的首臺NXE3100機器將如期發(fā)貨，目前正在作最后的組裝及測試。盡管如此，由于EUV技術(shù)中目前能提供的光源功率及掩模缺陷仍是此類(lèi)技術(shù)的主要挑戰。另外，為了達到工業(yè)使用指標急需投入大筆資金。 Nikon指出它仍繼續采用兩次圖形曝光方法來(lái)延伸193nm高NA(數值孔徑)
- 關(guān)鍵字： ASML 22nm 光刻
ASML Q2業(yè)績(jì)創(chuàng )新高 6套EUV設備將交貨
- ASML日前宣布，其2010年Q2凈銷(xiāo)售達到1,069 million歐元，凈收入為239 million 歐元，Q2的凈訂單價(jià)值1,179 million 歐元，包括了48套新系統及11套二手系統。各項數據均較2010年Q1有所提高。 ASML總裁兼CEO Eric Meurice認為，Q2銷(xiāo)售的強勁增長(cháng)證明了半導體產(chǎn)業(yè)近期對于光刻設備的需求，已有近20套NXT:1950i 設備運出。所有ASML的先進(jìn)NXT光刻機都包括了一個(gè)或多個(gè)一體化光刻部件。對于下一代將要應用于20nm以下節點(diǎn)的產(chǎn)品，E
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32nm制程用沉浸光刻設備客戶(hù)需求量劇增：ASML公司召回先前遭辭退員工
- 據荷蘭ASML公司高管透露，由于最近半導體廠(chǎng)商對沉浸式光刻設備的需求量劇增，著(zhù)名光刻廠(chǎng)商ASML公司最近重新召回了先前辭退的700名員工，同時(shí)還 招聘了數百名新員工，這名高管表示ASML公司還需要再增加300名員工，同時(shí)還預計公司將可保證各個(gè)客戶(hù)對光刻設備的訂單需求。 由于消費電子設備以及PC市場(chǎng)對高密度芯片的需求在不斷上升，ASML公司的高管表示他預計他的客戶(hù)們在今明兩年不會(huì )碰上所生產(chǎn)的芯片產(chǎn)品供過(guò)于求的情況。 據ASML公司今年一季度公布的財報數據顯示，這家光刻廠(chǎng)商今年一季度末的N
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聯(lián)電計劃發(fā)行12.98億新股募資190億新臺幣
- 據臺灣媒體報道，聯(lián)電近日宣布，將發(fā)動(dòng)公司成立30年來(lái)首次私募案。業(yè)界揣測，聯(lián)電將藉此引進(jìn)新策略伙伴，對象包括整合元件制造廠(chǎng)德儀 (TI)、設備大廠(chǎng)ASML，以及新崛起的同業(yè)Global Foundries(GF)等，再次挑戰臺積電。 半導體產(chǎn)業(yè)景氣佳，晶圓代工廠(chǎng)聯(lián)電積極擴產(chǎn)，南科12寸廠(chǎng)第3、4期廠(chǎng)房20日完工啟用。聯(lián)電董事會(huì )同時(shí)決議，辦理12.98億股額度私募增資案，換算相當公司已發(fā)行股數的一成，每股面額10元。以聯(lián)電前天收盤(pán)價(jià)計算，最多可募得逾190億元資金。 聯(lián)電發(fā)言人劉啟東坦言，&
- 關(guān)鍵字： 聯(lián)電 晶圓代工 ASML Global Foundries
未來(lái)三年內存價(jià)格將持續攀升
- DRAMeXchange傳來(lái)噩耗稱(chēng)內存芯片的價(jià)格在未來(lái)三年內將持續走高。這家市場(chǎng)分析公司將內存產(chǎn)業(yè)的興衰周期定為3年左右，據該公司的分析師表示，2001-2003年，內存業(yè)者一直處在虧損期，而2004-2006年則恢復為持續盈利的狀態(tài)，2007-2009年間則再度出現虧損期，因此他們預計從2010年開(kāi)始，在全球經(jīng)濟危機緩和，Windows7日漸流行等因素的影響下，內存業(yè)者將再度扭虧為盈，進(jìn)入新的一輪三年盈利期。 不過(guò)內存業(yè)者仍然面臨另外一個(gè)重要的難題，他們要將制程水品提升到50nm以上級別則一般
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ASML第一季訂單大幅超越預期 對半導體行業(yè)復蘇抱信心
- 荷蘭半導體設備生產(chǎn)商ASML日前公布，第一季營(yíng)收為7.42億歐元，優(yōu)于路透調查得到的分析師預估值7.13億歐元。 第一季機器訂單總量為50部，總價(jià)值為10億歐元，路透調查預估分別為43部和10億歐元。 首席執行官Eric Meurice在聲明中稱(chēng)：“我們第一季訂單總值為10.04億歐元，預計第二季訂單水準類(lèi)似，這證實(shí)了半導體行業(yè)正處于上升周期。” 分析師將ASML訂單情況視作衡量芯片制造大企業(yè)預期的風(fēng)向標。 第一季凈利為1.07億歐元，路透調查得到的分析
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ASML第一季訂單量繼續增長(cháng)
- 荷蘭半導體設備生產(chǎn)商ASML的訂單狀況顯示今年第一季情況繼續好轉，投資者將詳細審視該公司業(yè)績(jì)，以尋找芯片行業(yè)結構性復蘇的跡象。 分析師將該公司的訂單情況視作英特爾和臺積電等大型芯片生產(chǎn)商業(yè)績(jì)預估的風(fēng)向標。 根據路透調查，第一季半導體光刻設備訂單料為43筆，多于前一季的40筆。 ASML是全球最大的光刻設備生產(chǎn)商，其競爭對手包括日本的Nikon和佳能。 分析師預計ASML第一季凈利為9,900萬(wàn)歐元(1.324億美元)，營(yíng)收為7.13億歐元。15位分析師的營(yíng)收預估范圍為5.90億
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去年光刻機市場(chǎng)銷(xiāo)量總體下跌47%
- 據 Information Network報道，繼2008年銷(xiāo)量下跌25%之后，2009年全球半導體光刻工具的銷(xiāo)量進(jìn)一步下跌了47%。按銷(xiāo)售數量計算，去年光刻工具的銷(xiāo)量總和下降了54%，其中248nm DUV光刻機的銷(xiāo)量下降的最嚴重，售出的數量下跌了70%。 去年光刻機銷(xiāo)售營(yíng)收最高的是ASML公司，其所占的市場(chǎng)營(yíng)收份額達到50%，而尼康公司則在銷(xiāo)售的光刻機數量方面保持領(lǐng)先，其售出的光刻機數量占到了總量的56%。而2008年，ASML公司則在銷(xiāo)售營(yíng)收和銷(xiāo)售機臺數量上均排在頭名。
- 關(guān)鍵字： ASML 光刻工具
半導體能支撐未來(lái)的發(fā)展
- 相比于2009年今年全球半導體業(yè)的態(tài)勢好了許多，但是仍有少部分人提出質(zhì)疑，2010年有那么好嗎?即具備條件了嗎? 在今年1月由SEMI主辦的工業(yè)策略年會(huì )上(ISS)，有些演講者表示一些擔憂(yōu)，認為雖然半導體業(yè)正在復蘇的路上，但是制造商們仍缺少激情，不肯繼續大幅的投資，以及不太愿意重新擴大招慕員工。 恐怕更大的擔心來(lái)自全球半導體業(yè)間的兼并與重組到來(lái)，以及產(chǎn)業(yè)能否支持得起22納米及以下技術(shù)的進(jìn)步。 IBS的CEO Handle Jones認為，雖然工業(yè)正在復蘇，但是在半導體業(yè)運營(yíng)中仍面臨成
- 關(guān)鍵字： ASML 半導體 EUV
臺積電取得ASML超紫外光微影設備以研發(fā)新世代工藝
- TSMC與荷蘭艾司摩爾(ASML)公司今日共同宣布，TSMC將取得ASML公司TWINSCAN™ NXE:3100 - 超紫外光(Extreme Ultra-violet，EUV)微影設備，是全球六個(gè)取得這項設備的客戶(hù)伙伴之一。 這項設備將安裝于TSMC的超大晶圓廠(chǎng)(GigaFab™)-臺積十二廠(chǎng)，用以發(fā)展新世代的工藝技術(shù)。TSMC也將成為全球第一個(gè)可以在自身晶圓廠(chǎng)發(fā)展超紫外光微影技術(shù)的專(zhuān)業(yè)集成電路制造服務(wù)業(yè)者。 相較于現行浸潤式微影技術(shù)以193納米波長(cháng)當作光源，超
- 關(guān)鍵字： 臺積電 EUV 微影設備 ASML
半導體設備行業(yè)：全面走出陰影
- 10月是收獲的季節，對全球半導體設備行業(yè)來(lái)說(shuō)，這句話(huà)同樣適用。經(jīng)歷了全球經(jīng)濟危機后，各大設備公司10-11月公布的季度報表開(kāi)始全面飄紅。 Applied Materials 11月11日公布的09年第4季財報顯示公司已扭虧為盈，凈收入實(shí)現1.38億美元，而上季虧損為5500萬(wàn)美元。其Q4銷(xiāo)售額為15.3億美元，其中半導體設備銷(xiāo)售占6.56億美元，公司同時(shí)已收到了6.29億美元的半導體設備新訂單。 ASML總裁兼CEO Eric Meurice 更是喜不自勝，因為在10月14日公布的09
- 關(guān)鍵字： ASML 半導體設備
光刻巨頭ASML四季度來(lái)首次盈利
- 隨著(zhù)芯片廠(chǎng)商設備訂單的恢復，歐洲最大的半導體設備制造商ASML報出了2930萬(wàn)美元的凈利潤，為四個(gè)季度來(lái)首次盈利。 ASML在今天的聲明中表示該公司第三季度凈利潤為1970萬(wàn)歐元(2930萬(wàn)美元)，即每股5歐分，低于去年同期7330萬(wàn)歐元的利潤水平。不過(guò)這超過(guò)了彭博社調查7位分析師所得出的1060萬(wàn)歐元的市場(chǎng)預期。 該公司首席執行官埃里克·莫里斯(EricMeurice)表示，ASML的設備可以讓芯片客戶(hù)生產(chǎn)出尺寸更小的芯片，隨著(zhù)客戶(hù)在設備投資上恢復投入，該公司本季度銷(xiāo)售額將
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