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?asml 文章 進(jìn)入?asml技術(shù)社區
ASML除了光刻機還有什么秘密武器
- ASML( Advanced Semiconductor Material Lithography)是半導體光刻系統的主要供應商，也是EUV系統的唯一供應商。根據Network題為“Sub 100nm光刻:市場(chǎng)分析與戰略問(wèn)題”的報道，ASML當前取得的成績(jì)可以匯總為以下幾點(diǎn): 1)ASML占據EUV光刻市場(chǎng)100%的份額; 2)ASML占據浸沒(méi)式193nm DUV光刻市場(chǎng)93%的份額; 3)ASML占據248nm DUV光刻行業(yè)73%的份額?！ ?016年，ASML以31億美元收購了He
- 關(guān)鍵字： ASML 光刻機
EUV需求巨大！ASML最新財報顯示今年將出貨30臺
- 荷蘭當地時(shí)間1月23日，ASML發(fā)布了去(2018)年第四季度及全年的業(yè)績(jì)報告?！ 蟾嬷赋?，去年第四季度凈銷(xiāo)售額為31億歐元，凈收入為7.88億歐元，毛利率為44.3%?！ 【唧w來(lái)看，ASML指出，DUV光刻業(yè)務(wù)中，存儲客戶(hù)的需求使得TWINSCAN NXT:2000i保持著(zhù)持續增長(cháng)。同時(shí)ASML也提高了該產(chǎn)品的可靠性，據了解，上一代產(chǎn)品需要六個(gè)月才能達到高可靠性，而該產(chǎn)品僅用了兩個(gè)月?！ ∪ツ耆?，ASML凈銷(xiāo)售額為109億歐元，凈收入為26億歐元?！ ≈档米⒁獾氖?，ASML已與尼康簽署了諒解
- 關(guān)鍵字： EUV ASML
全面起底ASML的EUV光刻技術(shù)
- 用于高端邏輯半導體量產(chǎn)的EUV(Extreme Ultra-Violet，極紫外線(xiàn)光刻)曝光技術(shù)的未來(lái)藍圖逐漸“步入”我們的視野，從7nm階段的技術(shù)節點(diǎn)到今年(2019年，也是從今年開(kāi)始)，每2年~3年一個(gè)階段向新的技術(shù)節點(diǎn)發(fā)展?！ 「叨诉壿嫲雽w的技術(shù)節點(diǎn)和對應的EUV曝光技術(shù)的藍圖?！ ∫簿褪钦f(shuō)，在EUV曝光技術(shù)的開(kāi)發(fā)比較順利的情況下，5nm的量產(chǎn)日程時(shí)間會(huì )大約在2021年，3nm的量產(chǎn)時(shí)間大約在2023年。關(guān)于更先進(jìn)的2nm的技術(shù)節點(diǎn)，還處于模糊階段，據預測，其量產(chǎn)時(shí)間最快也是在2026
- 關(guān)鍵字： ASML EUV
中國首臺ASML NXT2000i正式入駐SK海力士無(wú)錫工廠(chǎng)
- 12月19日晚間，中國首臺ASML NXT2000i正式搬入SK海力士位于無(wú)錫的工廠(chǎng)?！ 嗀SML證實(shí)，此次入駐SK海力士無(wú)錫工廠(chǎng)確為NXT2000i，也即NXT2000。ASML解釋道，i是immersion的意思。NXT2000都是immersion的機器。所以NXT2000即NXT2000i?！ 私?，無(wú)錫是SK海力士在中國的DRAM內存芯片生產(chǎn)基地，目前每月晶圓的產(chǎn)量約為14萬(wàn)片?！ ⊥瑫r(shí)，SK海力士還成立了SK Hynix System IC公司，開(kāi)始進(jìn)軍晶圓代工市場(chǎng)，同時(shí)增加100
- 關(guān)鍵字： ASML NXT2000i
半導體設備廠(chǎng)商競爭格局生變？
- 半導體設備供應商的排名在2016-2017年間沒(méi)有發(fā)生太大的變化，但是這種格局正在發(fā)生變化。不僅Lam Research、ASML和東京電子的位次發(fā)生調轉，排名第一的應用材料公司的寶座位置也岌岌可危?！ ∽?990年以來(lái)，應用材料公司一直是半導體設備領(lǐng)域的市場(chǎng)領(lǐng)導者。在此之前的1989年，坐在鐵王座位置上的還是日本的東京電子，該公司2016年排名第四，今年前三季度的新排名則是第二。除了位次的變化，也許更重要的是，領(lǐng)頭羊和第二名的差距正在迅速收窄?！ ?016年，應用材料公司的市場(chǎng)份額比Lam
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國產(chǎn)光刻機真的這么厲害嗎？這些光刻機知識您得知道
- 近日，中科院研制的“超分辨光刻裝備”通過(guò)驗收。消息傳著(zhù)傳著(zhù)，就成了謠言——《國產(chǎn)光刻機偉大突破，國產(chǎn)芯片白菜化在即》《突破荷蘭技術(shù)封鎖，彎道超車(chē)》《厲害了我的國，新式光刻機將打破“芯片荒”》……筆者幫您們捋一捋! 關(guān)于光刻機，這些知識您得知道 光刻機不光是制造芯片用。一張平面(不論硅片還是什么材料)想刻出繁復的圖案，都可以用光刻——就像照相，圖像投在感光底片上，蝕掉一部分。半個(gè)多世紀前，美國人用這個(gè)原理“印刷”電路，從而有了大規模集成電路——芯片。為了節能和省硅料，芯片越做越小，逼得光刻機越做越極
- 關(guān)鍵字： 光刻機 ASML
ASML內部“霍亂”，中國晶圓廠(chǎng)成為“首發(fā)受害者”
- 11月30日晚上，荷蘭費爾德霍芬的一個(gè)科技園區發(fā)生火災，ASML的一家供應商Prodrive遭受了重創(chuàng )，部分廠(chǎng)房與倉庫遭受波及。12月3日，ASML發(fā)表聲明稱(chēng)：“Prodrive供應ASML的部分電子元件和模組，ASML初步評估至2018年底的出貨計劃不變，但預期部分2019年初的出貨將受影響?！盇SML還表示需要幾周的時(shí)間詳細評估該事件對公司的影響?！ SML目前已開(kāi)始協(xié)助Prodrive重啟生產(chǎn)，同時(shí)ASML也已與其他供應商接洽，以確保相關(guān)組件和材料的替代來(lái)源供應無(wú)虞?！ ?2月作為2018年最
- 關(guān)鍵字： ASML 晶圓
Imec與ASML聯(lián)手，EUV成主流技術(shù)工具
- 日前，有消息稱(chēng)，比利時(shí)研究機構Imec和微影設備制造商ASML計劃成立一座聯(lián)合研究實(shí)驗室，共同探索在后3nm邏輯節點(diǎn)的奈米級元件制造藍圖。此次雙方這項合作是一項為期五年計劃的一部份，分為兩個(gè)階段： 首先是開(kāi)發(fā)并加速極紫外光(EUV)微影技術(shù)導入量產(chǎn)，包括最新的EUV設備準備就緒?！ ∑浯螌⒐餐剿飨乱淮邤抵悼讖?NA)的EUV微影技術(shù)潛力，以便能夠制造出更小型的奈米級元件，從而推動(dòng)3nm以后的半導體微縮?！ O紫外光(EUV)微影技術(shù) EUV光刻也叫極紫外光刻，它以波長(cháng)為10-14 nm的極紫外
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ASML看好中國市場(chǎng) 最先進(jìn)光刻機將入華
- 中國集成電路制造年會(huì )近日邀請到了光刻機霸主ASML(阿斯麥)中國區總裁沈波參加，他出面解答了一些媒體關(guān)心的話(huà)題?！ ”M管UMC(聯(lián)電)和Globalfoundries(格羅方德，格芯)先后宣布放棄7nm制程及更先進(jìn)工藝的研發(fā)，但ASML依然對EUV光刻機的前景表示樂(lè )觀(guān)?！ 〈饲坝邢⒅赋?，中芯國際(SMIC)今年已向ASML訂購了一臺EUV光刻機，預計明年交付，用于7nm節點(diǎn)?！ ⊥瑫r(shí)，傳統的沉浸式光刻機方面，沈波稱(chēng)，今年下半年ASML已開(kāi)始出貨家族最先進(jìn)的NXT：2000i，很快會(huì )在中國市場(chǎng)上也見(jiàn)到
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迫于美國政府壓力，光刻機巨頭荷蘭ASML被曝不再招收中國員工 ...
- 在高科技領(lǐng)域，美國這一年來(lái)加強了對中國人的防范，不只限于美國本土，就連歐洲公司也受到了美國政府的壓力，荷蘭ASML被曝禁止招收中國籍員工?！ ≡诠饪虣C領(lǐng)域，荷蘭ASML公司幾乎壟斷了全球高端光刻機市場(chǎng)，在EUV光刻機中更是獨一份，7nm及以后的工藝都要依賴(lài)EUV光刻機。在高科技領(lǐng)域，美國這一年來(lái)加強了對中國人的防范，不只限于美國本土，就連歐洲公司也受到了美國政府的壓力，荷蘭ASML被曝禁止招收中國籍員工?！ ∪绻f(shuō)半導體產(chǎn)業(yè)是制造工業(yè)的皇冠，那么光刻機可以說(shuō)是皇冠上的明珠，因為光刻機是半導體制造中最關(guān)
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Entegris EUV 1010光罩盒展現極低的缺陷率，已獲ASML認證
- 業(yè)界領(lǐng)先的特種化學(xué)及先進(jìn)材料解決方案的公司Entegris(納斯達克：ENTG)日前發(fā)布了下一代EUV 1010光罩盒，用于以極紫外(EUV)光刻技術(shù)進(jìn)行大批量IC制造。Entegris的EUV 1010是與全球最大的芯片制造設備制造商之一的ASML密切合作而開(kāi)發(fā)的，已在全球率先獲得ASML的認證，用于NXE:3400B等產(chǎn)品?！ ‰S著(zhù)半導體行業(yè)開(kāi)始更多地使用EUV光刻技術(shù)進(jìn)行先進(jìn)技術(shù)制程的大批量制造(HVM)，對EUV光罩無(wú)缺陷的要求比以往任何時(shí)候都要嚴格。Entegris的EUV 1010光罩盒已
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歡迎您創(chuàng )建該詞條，闡述對?asml的理解，并與今后在此搜索?asml的朋友們分享。 創(chuàng )建詞條
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