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ASML最先進(jìn)EUV出貨，臺積電5納米有譜
- 全球半導體微影技術(shù)領(lǐng)導廠(chǎng)商艾司摩爾(ASML)昨(20)日宣布，在臺積電(2330)、英特爾及三星三大晶圓廠(chǎng)力挺下，最先進(jìn)的極紫外光(EUV)已連續四周平均妥善率逾八成，本季底前將完成三臺最新的EUV系統出貨。 EUV堪稱(chēng)半導體設備發(fā)展以來(lái)最昂貴的設備，一臺售價(jià)高達9,000 萬(wàn)歐元(約新臺幣36億元)，這項設備也是半導體產(chǎn)業(yè)向更先進(jìn)制程發(fā)展最關(guān)鍵設備，因此發(fā)展進(jìn)度，一直各界關(guān)注焦點(diǎn)。 臺積電共同執行長(cháng)暨劉德音表示，臺積電本季將會(huì )再增購一臺EUV設備，不過(guò)臺積電將會(huì )于5奈米制程才會(huì )導入生產(chǎn)
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ASML接獲設備大單 EUV微影商用進(jìn)展邁大步
- 微影設備制造商ASML近期宣布，接獲美國一家主要客戶(hù)十五部EUV機臺訂單，并將于今年底開(kāi)始陸續出貨;同時(shí)間，日本光阻材料大廠(chǎng)JSR也與IMEC合資成立新公司，致力生產(chǎn)EUV微影所需的光阻劑，為EUV微影技術(shù)的商用發(fā)展揭橥新的里程碑。 極紫外光微影(EUV Lithography)技術(shù)發(fā)展大有斬獲。半導體設備供應商艾司摩爾(ASML)日前公開(kāi)宣布，該公司與美國一家主要客戶(hù)已簽屬協(xié)議書(shū)，將提供至少十五臺的最新一代EUV微影系統機臺，以支援不斷增加的制程開(kāi)發(fā)活動(dòng)和未來(lái)世代制程的試量產(chǎn)。 雙方交易
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為量產(chǎn)10nm制程鋪路 ASML攜手IMEC建置APC
- 艾司摩爾(ASML)與比利時(shí)微電子研究中心(IMEC)合作案再添一樁。雙方將共同設立先進(jìn)曝光中心(Advanced Patterning Center, APC)，助力半導體產(chǎn)業(yè)突破10奈米(nm)以下先進(jìn)奈米曝光制程技術(shù)關(guān)卡，讓微影(Lithography)技術(shù)及其設備更臻成熟，加速制程微縮技術(shù)的商用化。 ASML總裁暨執行長(cháng)Martin van den Brink表示，長(cháng)期以來(lái)，該公司與IMEC的合作，已促成半導體制程發(fā)展不斷突破;而此次的合作案，預期將進(jìn)一步加快先進(jìn)奈米制程技術(shù)及其相關(guān)設備
- 關(guān)鍵字： 10nm ASML
ASML提升新EUV機臺技術(shù)生產(chǎn)效率
- 微影設備大廠(chǎng)ASML積極提升極紫外線(xiàn)(EUV)機臺技術(shù)的生產(chǎn)效率，在2012年購并光源供應商Cymer后，大幅提升光源效率，從2009年至今光源效率分別為2009年2瓦、2010年5瓦、2011年10瓦，2012年提升至20瓦，目前已達55瓦，每小時(shí)晶圓產(chǎn)出片數為43片，預計2013年底前，可達到80瓦的目標，2015年達250瓦、每小時(shí)產(chǎn)出125片。 半導體生產(chǎn)進(jìn)入10納米后，雖然可采用多重浸潤式曝光方式，但在一片晶圓上要進(jìn)行多次的微影制程曝光，將導致生產(chǎn)流程拉長(cháng)，成本會(huì )大幅墊高，半導體大廠(chǎng)為
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莫大康：縮小半導體工藝尺寸能走多遠？
- 推動(dòng)半導體業(yè)進(jìn)步有兩個(gè)輪子，一個(gè)是工藝尺寸縮小，另一個(gè)是硅片直徑增大，而且總是尺寸縮小為先。由半導體工藝路線(xiàn)圖看，2013年應該進(jìn)入14納米節點(diǎn)，觀(guān)察近期的報道，似乎已無(wú)異議，而且仍是英特爾挑起大樑。盡管摩爾定律快“壽終正寢”的聲音已不容置辯，但是14nm的步伐仍按期走來(lái)，原因究竟是什么? 傳統光刻技術(shù)與日俱進(jìn) 當尺寸縮小到22/20nm時(shí)，傳統的光刻技術(shù)已無(wú)能力，必須采用輔助的兩次圖形曝光技術(shù)。 提高光刻的分辨率有3個(gè)途徑：縮短曝光波長(cháng)、增大鏡頭數值孔徑NA
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ASML：量產(chǎn)型EUV機臺2015年就位
- 極紫外光(EUV)微影技術(shù)將于2015年突破量產(chǎn)瓶頸。傳統浸潤式微影技術(shù)在半導體制程邁入1x奈米節點(diǎn)后將面臨物理極限，遂使EUV成為產(chǎn)業(yè)明日之星。設備供應商艾司摩爾(ASML)已協(xié)同比利時(shí)微電子研究中心(IMEC)和重量級晶圓廠(chǎng)，合力改良EUV光源功率與晶圓產(chǎn)出速度，預計2015年可發(fā)布首款量產(chǎn)型EUV機臺。 ASML亞太區技術(shù)行銷(xiāo)協(xié)理鄭國偉提到，ASML雖也同步投入E-Beam基礎研究，但目前對相關(guān)設備的開(kāi)發(fā)計劃仍抱持觀(guān)望態(tài)度。 ASML亞太區技術(shù)行銷(xiāo)協(xié)理鄭國偉表示，ASML于2012年
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450毫米晶圓2018年量產(chǎn) 極紫外光刻緊隨
- 全球最大的半導體制造設備供應商荷蘭ASML今天披露說(shuō)，他們將按計劃在2015年提供450毫米晶圓制造設備的原型，Intel、三星電子、臺積電等預計將在2018年實(shí)現450毫米晶圓的商業(yè)性量產(chǎn)，與此同時(shí)，極紫外(EUV)光刻設備也進(jìn)展順利，將在今年交付兩套新的系統。 ASML在一份聲明中稱(chēng)：“在客戶(hù)合作投資項目的支持下，我們已經(jīng)完成了用于極紫外、沉浸式光刻的450毫米架構的概念設計，將在2015年交貨原型，并兼容2018年的量產(chǎn)，當然如果整個(gè)產(chǎn)業(yè)來(lái)得及的話(huà)?！? Int
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半導體設備大廠(chǎng)ASML上季報喜 歐芯片股慶賀
- 歐洲半導體設備大廠(chǎng)荷商艾司摩爾(ASML)上季營(yíng)收凈利雙雙優(yōu)于預測，并且維持今年前景看法，帶動(dòng)市場(chǎng)看好芯片業(yè)將展現復蘇預期，推升歐洲芯片股周四大漲。 艾司摩爾周四大漲4.85%至55.1歐元，在歐洲科技指數SX8P中表現居冠，德國芯片業(yè)者英飛凌(Infineon)躍升2.6%至5.58歐元，為漲幅第二大成份股。 艾司摩爾上季財報周三揭曉，營(yíng)收年減29%至8.92億歐元，稅前息前凈利年減66%至1.07億歐元，盡管數據皆向下衰退，但雙雙優(yōu)于市場(chǎng)預期。 艾司摩爾預估本季營(yíng)收約達11億歐元
- 關(guān)鍵字： ASML 半導體設備
ASML上季報喜 歐芯片股慶賀
- 歐洲半導體設備大廠(chǎng)荷商艾司摩爾(ASML)上季營(yíng)收凈利雙雙優(yōu)于預測，并且維持今年前景看法，帶動(dòng)市場(chǎng)看好芯片業(yè)將展現復蘇預期，推升歐洲芯片股周四大漲。 艾司摩爾周四大漲4.85%至55.1歐元，在歐洲科技指數SX8P中表現居冠，德國芯片業(yè)者英飛凌(Infineon)躍升2.6%至5.58歐元，為漲幅第二大成份股。 艾司摩爾上季財報周三揭曉，營(yíng)收年減29%至8.92億歐元，稅前息前凈利年減66%至1.07億歐元，盡管數據皆向下衰退，但雙雙優(yōu)于市場(chǎng)預期。 艾司摩爾預估本季營(yíng)收約達11億歐元
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ASML一季度凈利潤9600萬(wàn)歐元
- 國際頂級半導體設備供應商ASML2013年第一季度凈利潤9600萬(wàn)歐元，同時(shí)宣布Peter Wennink從七月一日起擔任CEO 一季度凈利潤9600萬(wàn)歐元 ASML第一季度的銷(xiāo)售額約為8億9千2百萬(wàn)歐元，凈利潤為9600萬(wàn)歐元。 預期2013年全年銷(xiāo)售水平類(lèi)似于2012年，第二季度比第一季度銷(xiāo)售額增加，下半年銷(xiāo)售強勁。同時(shí)ASML宣布將在2014年底之前回購高達10億歐元股份。 Peter Wennink從七月一日起擔任CEO 從2013年7月1日期，現任CFO Peter
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