5nm工藝起飛 ASML宣布全新半導體技術(shù)：產(chǎn)能大漲600%

提到荷蘭ASML公司，大家都知道他們是全球唯一的EUV光刻機供應商，7nm及以下的工藝生產(chǎn)都要靠他們的設備。不過(guò)ASML不只是光刻機厲害，今天他們宣布了另外一個(gè)新產(chǎn)品——第一代HMI多光束檢測機HMI eScan1000，適用于5nm及更先進(jìn)工藝，使得產(chǎn)能大漲600%。

隨著(zhù)制程工藝不斷提升，晶圓的制造也越來(lái)越復雜，這也會(huì )導致晶圓中的錯誤更多，HMI eScan1000就是一套基于HMI多光束技術(shù)的檢測系統，內部也有復雜的光電子系統，能夠產(chǎn)生、控制多個(gè)電子束，然后根據反射回來(lái)的電子束成像來(lái)分析晶圓質(zhì)量，并有高速運行的平臺以控制測試的晶圓數量，還要有計算系統處理電子束的數據。

簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，ASML研發(fā)的這個(gè)HMI eScan1000機器就是一臺驗證先進(jìn)工藝生產(chǎn)出來(lái)的晶圓質(zhì)量的系統，工藝越先進(jìn)，檢測系統就越重要，它的檢測精度、吞吐量決定了生產(chǎn)的效率。

ASML的HMI eScan1000的突破之處在于能夠同時(shí)產(chǎn)生、控制九道電子束，所以產(chǎn)能提升了600%，可以大大減少晶圓質(zhì)量分析所用的時(shí)間。

目前HMI eScan1000可以用于5nm及以下先進(jìn)工藝的晶圓測試，已經(jīng)交付給客戶(hù)進(jìn)行測試驗證，未來(lái)ASML還會(huì )推出光束更多的測試設備以滿(mǎn)足客戶(hù)對先進(jìn)工藝的要求。