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ASML出貨新光刻機NXT2000i：用于7nm/5nm DUV工藝
- 據外媒報道，光刻機霸主ASML(阿斯麥)已經(jīng)開(kāi)始出貨新品Twinscan NXT：2000i DUV(NXT：2000i雙工件臺深紫外光刻機)，可用于7nm和5nm節點(diǎn)?！ XT：2000i將是NXE：3400B EUV光刻機的有效補充，畢竟臺積電/GF的第一代7nm都是基于DUV工藝?！ ⊥瑫r(shí)，NXT：2000i也成為了ASML旗下套刻精度(overlay)最高的產(chǎn)品，達到了和3400B一樣的1.9nm(5nm要求至少2.4nm，7nm要求至少3.5nm)?！ SML將于本季度末開(kāi)始量產(chǎn)Twin
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ASML載具供應商家登精密談中國EUV的發(fā)展，面臨諸多挑戰
- 載具對于曝光機發(fā)揮保護、運送和存儲光罩等功能十分重要。家登精密多年來(lái)致力于研究曝光機載具，并為全球最大的半導體設備制造商ASML提供載具相關(guān)技術(shù)。 我們主要研究EUV的配套技術(shù)，例如EUV的載具以及EUV的配套光罩，是7nm向5nm進(jìn)階的突破口。隨著(zhù)5nm技術(shù)的升級，EUV的重要性逐漸凸顯出來(lái)，而載具的研究也越發(fā)緊迫。過(guò)去幾年，家登精密一直專(zhuān)心做一件事，那就是載具的配套研究。去年，我們的技術(shù)產(chǎn)品已經(jīng)達到國際先進(jìn)水平，這是一個(gè)值得自豪的成績(jì)。未來(lái)，7nm工藝逐漸向5nm升級，技術(shù)的研究會(huì )越來(lái)越困難
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看好中國半導體產(chǎn)業(yè)騰飛，ASML南京分公司近日開(kāi)業(yè)
- 據南京日報報道，8月18日，全球最大芯片光刻設備市場(chǎng)供貨商阿斯麥(ASML)在南京的分公司正式開(kāi)業(yè)。作為臺積電的重要合作伙伴及上游供應商，該企業(yè)選擇落戶(hù)在南京江北新區研創(chuàng )園孵鷹大廈。 跟隨臺積電的步伐，ASML在南京的布局在一年前啟動(dòng)。去年11月考察江北新區研創(chuàng )園后，被園區前端的產(chǎn)業(yè)定位、創(chuàng )新的整體設計、完善的軟硬件配套所吸引。今年8月，ASML南京分公司完成了750平米辦公設施搭建，以及服務(wù)工程師、裝機工程師、應用工程師等多職能覆蓋的團隊組建。談及ASML未來(lái)對中國半導體市場(chǎng)前景的展望，該公司
- 關(guān)鍵字： ASML 臺積電
EUV在手天下我有 ASML二季度表現亮眼
- 全球最大芯片光刻設備市場(chǎng)供貨商阿斯麥(ASML)近日公布2017第二季財報。ASML第二季營(yíng)收凈額21億歐元，毛利率為45%。在第二季新增8臺EUV系統訂單，讓EUV光刻系統的未出貨訂單累積到27臺，總值高達28億歐元。 預估2017第三季營(yíng)收凈額約為22億歐元，毛利率約為43%。因為市場(chǎng)需求和第二季的強勁財務(wù)表現，ASML預估2017全年營(yíng)收成長(cháng)可達25%。 ASML總裁暨執行長(cháng)溫彼得指出:“ASML今年的主要營(yíng)收貢獻來(lái)自?xún)却嫘酒蛻?hù)，尤其在DRAM市場(chǎng)需求的驅動(dòng)下，這部分的
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尼康起訴ASML和卡爾蔡司光刻技術(shù)侵權 要求賠償
- 北京時(shí)間4月24日晚間消息，尼康今日宣布，已對荷蘭半導體行業(yè)光刻系統供應商阿斯麥(ASML)和德國光學(xué)及光電子學(xué)設備廠(chǎng)商卡爾蔡司(Carl Zeiss)提起訴訟，指控這兩家公司未經(jīng)授權而使用其光刻技術(shù)。 尼康稱(chēng)，已在荷蘭、德國和日本對阿斯麥和卡爾蔡司提起訴訟?？柌趟臼前⑺果湹墓鈱W(xué)設備供應商。尼康在一份聲明中稱(chēng)：“阿斯麥和卡爾蔡司在未經(jīng)尼康許可的前提下，在阿斯麥的光刻系統中使用尼康的專(zhuān)利技術(shù)。” 當前，光刻系統被廣泛應用于制造半導體，而阿斯麥又主導著(zhù)半導體光刻機市場(chǎng)
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光刻機領(lǐng)域國內接近世界先進(jìn)水平，9nm線(xiàn)寬光刻實(shí)現突破
- SEMICON China 2017開(kāi)幕日即3月14日，上海微電子裝備(集團)股份有限公司(后簡(jiǎn)稱(chēng)“SMEE”)宣布，SMEE 與荷蘭公司 ASML 簽署戰略合作備忘錄(MoU)，為雙方進(jìn)一步的潛在合作奠定了基礎。 根據這項合作備忘錄，ASML 和 SMEE 將探索就 ASML 光刻系統的特定模塊或半導體行業(yè)相關(guān)產(chǎn)品進(jìn)行采購的可能性。此次MoU的簽署代表 ASML 繼日前與上海集成電路研發(fā)中心(ICRD)宣布合作之后，進(jìn)一步深入參與中國的IC產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。 光刻機被稱(chēng)
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上海微電子與芯片制造設備廠(chǎng)商ASML簽署戰略合作備忘錄
- 3月14日，上海微電子裝備(集團)股份有限公司(SMEE)宣布，與世界領(lǐng)先的芯片制造設備的領(lǐng)先廠(chǎng)商阿斯麥 (ASML) 簽署戰略合作備忘錄(MoU)，為雙方進(jìn)一步的潛在合作奠定了基礎。 根據這項合作備忘ASML和SMEE將探索就ASML光刻系統的特定模塊或半導體行業(yè)相關(guān)產(chǎn)品進(jìn)行采購的可能性。 “全球IC行業(yè)都在積極尋求技術(shù)藍圖進(jìn)來(lái)一步縮小芯片尺寸，為商業(yè)和消費者用戶(hù)提供更性能更強但節能的電子組件。這一技術(shù)藍圖的有效執行需要精密復雜的制造技術(shù)，這只能靠各領(lǐng)先公司、研究機構和院
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半導體押寶EUV ASML突破瓶頸 預計2018年可用于量產(chǎn)
- 摩爾定律(Moore’s Law)自1970年代左右問(wèn)世以來(lái)，全球半導體產(chǎn)業(yè)均能朝此一定律規則前進(jìn)發(fā)展，過(guò)去數十年來(lái)包括光微影技術(shù)(Photolithography)等一系列制程技術(shù)持續的突破，才得以讓半導體產(chǎn)業(yè)能依照摩爾定律演進(jìn)，進(jìn)而帶動(dòng)全球科技產(chǎn)業(yè)研發(fā)持續前進(jìn)。 但為延續產(chǎn)業(yè)良性發(fā)展，光是依賴(lài)于傳統微影技術(shù)仍不夠，因此芯片制造商也正在苦思試圖進(jìn)行一次重大且最具挑戰的變革，即發(fā)展所謂的“極紫外光”(EUV)微影技術(shù)，該技術(shù)也成為臺積電、英特爾(Intel)等
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尼康半導體曝光設備死于自我封閉？
- 日本光學(xué)及半導體設備大廠(chǎng)尼康(Nikon)未來(lái)可能進(jìn)行人事調整，以數位相機及半導體設備事業(yè)為主，希望轉型重建企業(yè)經(jīng)營(yíng)。 根據報導，日本半導體事業(yè)始于日本政府的產(chǎn)業(yè)計劃，1970年代由官方與民間合作的結果，建立了從半導體設備到半導體生產(chǎn)線(xiàn)的完整事業(yè)。當時(shí)名為日本光學(xué)工業(yè)的尼康，借其光學(xué)技術(shù)推出先進(jìn)的曝光裝置，制造精密半導體的線(xiàn)路，是日本半導體產(chǎn)業(yè)在1980~1990年代與美國平起平坐的主因。 但是，1984年從荷蘭電機大廠(chǎng)飛利浦(Philips)獨立的ASML，由于積極與外界學(xué)校及廠(chǎng)商合作，
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ASML 10億歐元現金收購蔡司半導體24.9%股份
- 全球芯片光刻技術(shù)領(lǐng)導廠(chǎng)商阿斯麥(ASML) 和德國卡爾蔡司 (ZEISS) 旗下的蔡司半導體有限公 司 (Carl Zeiss SMT) 11月3日共同宣布，由 ASML以10億歐元現金收購 Carl Zeiss SMT的24.9%股權，以強化雙方在半導體光刻技術(shù)方面的合作，發(fā)展下一代EUV光刻系統，讓半導體行業(yè)得以用更低的成本制造更高效能的微芯片。目前雙方并沒(méi)有進(jìn)一步股權交換的計劃。 Carl Zeiss SMT是ASML最重要的長(cháng)期策略合作伙伴，30 多年來(lái)，為ASML的光刻設備提供最關(guān)火鍵
- 關(guān)鍵字： ASML 蔡司
ASML新技術(shù) 搶救摩爾定律
- 荷商艾司摩爾(ASML)可能有辦法解決全球半導體產(chǎn)業(yè)所面臨的問(wèn)題：如何一面讓晶片保持現有尺寸，一面增加它們的性能。 半導體產(chǎn)業(yè)的過(guò)去發(fā)展均照著(zhù)摩爾定律在走，這個(gè)由英特爾共同創(chuàng )辦人摩爾于1965年首度提出的定律指出，每隔兩年，晶片制造商就能使傳統微處理器的電晶體數目倍增，且性能也會(huì )隨之提升。 不過(guò)，英特爾執行長(cháng)科再奇去年警告，經(jīng)過(guò)幾十年的快速發(fā)展，未來(lái)半導體業(yè)每隔兩年半業(yè)才會(huì )出現過(guò)去那種進(jìn)展。 ASML則相信自家突破性的技術(shù)，能延后半導體產(chǎn)業(yè)步入衰敗期的時(shí)間。主導ASML相關(guān)業(yè)務(wù)的梅靈
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