EEPW首頁(yè) >>
主題列表 >>
asml
asml 文章 進(jìn)入 asml技術(shù)社區
ASML：中國廠(chǎng)商生產(chǎn)成熟制程芯片就行，世界需要
- 全球對成熟制程芯片的需求正在急劇上升，但西方芯片制造商對該領(lǐng)域的投資不夠。
- 關(guān)鍵字： ASML
不賣(mài)7nm等先進(jìn)光刻機！ASML：中國廠(chǎng)商生產(chǎn)“落后”制程芯片就行 世界需要
- 7月9日消息，據外媒報道稱(chēng)，由于種種因素，ASML絕不能賣(mài)給中國廠(chǎng)商最先進(jìn)的光刻機，但該公司CEO卻表示，世界需要中國生產(chǎn)的"傳統芯片"。ASML的CEO Christophe Fouquet接受采訪(fǎng)時(shí)表示，全球芯片買(mǎi)家，包括德國汽車(chē)工業(yè)在內，都迫切需要中國芯片制造商目前正大力投資的舊一代電腦芯片。根據行業(yè)組織SEMI的估計，中國芯片制造商將在2025年將產(chǎn)能增加14%，是全球其他地區的兩倍以上，到2025年將達到每月1010萬(wàn)片晶圓，占全球總產(chǎn)量的大約三分之一。"全球對這類(lèi)
- 關(guān)鍵字： 7nm 刻機 ASML 制程芯片
ASML前總裁稱(chēng)"意識形態(tài)而非事實(shí)"助長(cháng)中美芯片戰爭
- 荷蘭半導體設備巨頭 ASML 為所有主要企業(yè)提供尖端光刻技術(shù)。該公司最近離職的首席執行官剛剛分享了他對這一復雜地緣政治格局的見(jiàn)解。彼得-溫尼克（Peter Wennink）最近在接受荷蘭 BNR 電臺采訪(fǎng)時(shí)，對美國針對中國芯片產(chǎn)業(yè)的貿易限制毫不諱言。在執掌 ASML 十年之后于今年四月卸任的溫尼克聲稱(chēng)，這類(lèi)討論不是基于事實(shí)、內容、數字或數據，而是基于意識形態(tài)。在溫尼克的領(lǐng)導下，ASML 逐漸成為歐洲最大的科技公司。隨著(zhù)中國政府加倍努力實(shí)現半導體自給自足，中國成為繼臺灣之后 ASML 的第二大市
- 關(guān)鍵字： ASML 芯片
ASML或將Hyper-NA EUV光刻機定價(jià)翻倍，讓臺積電、三星和英特爾猶豫不決
- ASML去年末向英特爾交付了業(yè)界首臺High-NA EUV光刻機，業(yè)界準備從EUV邁入High-NA EUV時(shí)代。不過(guò)ASML已經(jīng)開(kāi)始對下一代Hyper-NA EUV技術(shù)進(jìn)行研究，尋找合適的解決方案，計劃在2030年左右提供新一代Hyper-NA EUV光刻機。據Trendforce報道，Hyper-NA EUV光刻機的價(jià)格預計達到驚人的7.24億美元，甚至可能會(huì )更高。目前每臺EUV光刻機的價(jià)格約為1.81億美元，High-NA EUV光刻機的價(jià)格大概為3.8億美元，是EUV光刻機的兩倍多
- 關(guān)鍵字： ASML Hyper-NA EUV 光刻機 臺積電 三星 英特爾
臺積電EUV大舉拉貨 供應鏈集體狂歡
- 臺積電2納米先進(jìn)制程產(chǎn)能將于2025年量產(chǎn)，設備廠(chǎng)正如火如荼交機，尤以先進(jìn)制程所用之EUV（極紫外光曝光機）至為關(guān)鍵，今明兩年共將交付超過(guò)60臺EUV，總投資金額上看超過(guò)4,000億元。在產(chǎn)能持續擴充之下，ASML2025年交付數量成長(cháng)將超過(guò)3成，臺廠(chǎng)供應鏈沾光，其中家登積極與ASML攜手投入次世代High-NA EUV研發(fā)，另外帆宣、意德士、公準、京鼎及翔名等有望同步受惠。 設備業(yè)者透露，EUV機臺供應吃緊，交期長(cháng)達16至20個(gè)月，因此2024年訂單大部分會(huì )于后年開(kāi)始交付；據法人估計，今年臺積電EUV訂
- 關(guān)鍵字： 2納米 先進(jìn)制程 ASML EUV 臺積電
三井化學(xué)將量產(chǎn)光刻薄膜新品，支持ASML下一代光刻機
- 日前，日本三井化學(xué)宣布將在其巖國大竹工廠(chǎng)設立碳納米管 (CNT) 薄膜生產(chǎn)線(xiàn)，開(kāi)始量產(chǎn)半導體最尖端光刻機的零部件產(chǎn)品（保護半導體電路原版的薄膜材料“Pellicle”的新一代產(chǎn)品）。據悉，此種CNT薄膜可以實(shí)現92%以上的高EUV透射率和超過(guò)1kW曝光輸出功率的光阻能力。三井化學(xué)預期年產(chǎn)能力為5000張，生產(chǎn)線(xiàn)預計于2025年12月完工，可為ASML將推出的下一代高數值孔徑、高輸出EUV光刻機提供支持。
- 關(guān)鍵字： 光刻機 納米管薄膜 ASML
可量產(chǎn)0.2nm工藝！ASML公布Hyper NA EUV光刻機：死胡同不遠了
- 6月16日消息，ASML去年底向Intel交付了全球第一臺High NA EUV極紫外光刻機，同時(shí)正在研究更強大的Hyper NA EUV光刻機，預計可將半導體工藝推進(jìn)到0.2nm左右，也就是2埃米。ASML第一代Low NA EUV光刻機孔徑數值只有0.33，對應產(chǎn)品命名NXE系列，包括已有的3400B/C、3600D、3800E，以及未來(lái)的4000F、4200G、4X00。該系列預計到2025年可以量產(chǎn)2nm，再往后就得加入多重曝光，預計到2027年能實(shí)現1.4nm的量產(chǎn)。High NA光刻機升級到了
- 關(guān)鍵字： ASML 光刻機 高NA EUV 0.2nm
光刻機巨頭 ASML 聯(lián)合創(chuàng )始人維姆?特魯斯特逝世，享年 98 歲
- IT之家 6 月 12 日消息，光刻機巨頭 ASML 公司 6 月 11 日在社交媒體發(fā)文，悼念 ASML 創(chuàng )始人之一維姆?特魯斯特（Wim Troost）離世。另?yè)栋Ｒ蚧魷厝請蟆?，Wim 于上周五（6 月 8 日）上午逝世，享年 98 歲。ASML 稱(chēng)，“Wim Troost 去世了。Wim 是我們的創(chuàng )始元老之一，也是 1987 年至 1990 年期間的 CEO，那時(shí) ASML 正努力爭取其第一個(gè)客戶(hù)。退休后，Wim 一直是 ASML 和高科技產(chǎn)業(yè)的真正大使。他激勵了一代又一代的后人。我們感
- 關(guān)鍵字： ASML 維姆?特魯斯特
美國芯片管控引ASML吐槽：倒逼中國廠(chǎng)商造出更先進(jìn)光刻機
- 快科技6月7日消息，近日，ASML公司CEO公開(kāi)表示，美國嚴厲的芯片管控規定，只會(huì )倒逼中國廠(chǎng)商進(jìn)步更快。ASML CEO表示，多年來(lái)，公司都不用擔心設備的去向會(huì )受到政治限制，但突然之間，這卻變成了全世界最重要的話(huà)題之一。過(guò)去一段時(shí)間，美國一直在向荷蘭施壓，以阻止中國獲得關(guān)鍵的半導體技術(shù)。去年，荷蘭政府宣布了新的半導體設備出口管制措施，主要針對先進(jìn)制程的芯片制造技術(shù)，阿斯麥首當其沖。根據ASML今年1月1日發(fā)布的聲明，荷蘭政府撤銷(xiāo)的是2023年頒發(fā)的NXT:2050i和NXT:2100i光刻系統的出口許可證
- 關(guān)鍵字： 美國芯片管控 ASML 光刻機
ASML：EUV光刻機已近極限 追趕技術(shù)還是另辟蹊徑？
- ASML首席財務(wù)官達森（Roger Dassen）表示，EUV技術(shù)路線(xiàn)發(fā)展受歐美限制，且光刻機已接近技術(shù)極限，此一技術(shù)路線(xiàn)前景不明。積極尋求突破的中國廠(chǎng)商是持續投入資源突破現有限制進(jìn)行技術(shù)跟隨？還是將資源另辟蹊徑尋找新的技術(shù)路徑？將面臨艱難的抉擇。 據《芯智訊》報導，臺積電已經(jīng)訂購了High NA EUV（高數值孔徑極紫外光）光刻機，ASML與臺積電的商業(yè)談判即將結束，預計在第2季度或第3季度開(kāi)始獲得大量 2nm芯片制造相關(guān)設備訂單。ASML預測其設備的市場(chǎng)需求有望一路走強至2026年，這主要是受益于各國
- 關(guān)鍵字： ASML EUV 光刻機
臺積電今年將拿到最新款光刻機
- 6月6日消息，據外媒報道稱(chēng)，ASML將在今年向臺積電交付旗下最先進(jìn)的光刻機，單臺造價(jià)達3.8億美元。報道中提到，ASML首席財務(wù)官Roger Dassen在最近的一次電話(huà)會(huì )議上告訴分析師，公司兩大客戶(hù)臺積電和英特爾將在今年年底前獲得所謂的高數值孔徑（高NA）極紫外（EUV）光刻系統。英特爾此前已經(jīng)訂購了最新的高NA EUV設備，第一臺設備已于12月底運往俄勒岡州的一家工廠(chǎng)。目前尚不清楚ASML最大的EUV客戶(hù)臺積電何時(shí)會(huì )收到設備。據悉，這些機器每臺造價(jià)3.5億歐元（3.8億美元），重量相當于兩架空中客車(chē)A
- 關(guān)鍵字： ASML 光刻機 高NA EUV
ASML今年將向臺積電交付最新款光刻機 單價(jià)3.8億美元
- 6月6日消息，荷蘭光刻機制造商ASML今年將向臺積電交付其最新款光刻機。據公司發(fā)言人莫尼克·莫爾斯（Monique Mols）透露，首席財務(wù)官羅杰·達森（Roger Dassen）在近期的分析師電話(huà)會(huì )議中表示，包括臺積電和英特爾在內的ASML兩大客戶(hù)都將在今年年底前拿到高數值孔徑極紫外線(xiàn)（high-NA EUV）光刻機。英特爾已經(jīng)下單購買(mǎi)了這款最新的光刻機，并于去年12月底將第一臺機器運至其位于俄勒岡州的工廠(chǎng)。目前尚不清楚臺積電何時(shí)會(huì )收到這些設備。臺積電代表表示，公司一直與供應商保持密切合作，但拒絕對此事
- 關(guān)鍵字： ASML 臺積電 光刻機 英特爾 半導體
ASML和IMEC啟用聯(lián)合High-NA EUV光刻實(shí)驗室
- 自ASML官網(wǎng)獲悉，6月3日，比利時(shí)微電子研究中心（imec）與阿斯麥（ASML）宣布在荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven）開(kāi)設聯(lián)合High-NA EUV光刻實(shí)驗室（High NA EUV Lithography Lab），由ASML和imec共同運營(yíng)。聲明中稱(chēng)，經(jīng)過(guò)多年的構建和集成，該實(shí)驗室已準備好為領(lǐng)先的邏輯和存儲芯片制造商以及先進(jìn)材料和設備供應商提供第一臺原型高數值孔徑EUV掃描儀（TWINSCAN EXE：5000）以及周?chē)奶幚砗陀嬃抗ぞ?。據悉，該?lián)合實(shí)驗室的開(kāi)放是High-NA EUV大批量生
- 關(guān)鍵字： 阿斯麥 ASML EUV
asml介紹
您好，目前還沒(méi)有人創(chuàng )建詞條 asml!
歡迎您創(chuàng )建該詞條，闡述對 asml的理解，并與今后在此搜索 asml的朋友們分享。 創(chuàng )建詞條
歡迎您創(chuàng )建該詞條，闡述對 asml的理解，并與今后在此搜索 asml的朋友們分享。 創(chuàng )建詞條
asml專(zhuān)欄文章
關(guān)于我們 -
廣告服務(wù) -
企業(yè)會(huì )員服務(wù) -
網(wǎng)站地圖 -
聯(lián)系我們 -
征稿 -
友情鏈接 -
手機EEPW
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權所有 北京東曉國際技術(shù)信息咨詢(xún)有限公司
京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案：1101082052 京公網(wǎng)安備11010802012473
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權所有 北京東曉國際技術(shù)信息咨詢(xún)有限公司
京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案：1101082052 京公網(wǎng)安備11010802012473