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ASML發(fā)布2022年第二季度財報 | 凈銷(xiāo)售額54億歐元，凈利潤為14億歐元
- 阿斯麥（ASML）今日發(fā)布了2022年第二季度財報。2022年第二季度，ASML實(shí)現了凈銷(xiāo)售額54億歐元，毛利率為49.1%，凈利潤達14億歐元。今年第二季度新增訂單金額創(chuàng )歷史新高，達到85億歐元。ASML預計2022年第三季度凈銷(xiāo)售額約為51億~54億歐元，毛利率約為49%~50%。2022年營(yíng)收預計增長(cháng)約10%。2022年因快速發(fā)貨流程*產(chǎn)生的遞延到2023年的收入，預計將從約10億歐元增加到約28億歐元。(*) 快速發(fā)貨流程跳過(guò)了我們工廠(chǎng)內的一些測試環(huán)節。最終測試及驗收將在客戶(hù)現場(chǎng)進(jìn)行。雖然該措施導
- 關(guān)鍵字： ASML 2022年第二季度 財報
26億一臺！ASML全新光刻機準備中：Intel提前鎖定 沖擊2nm工藝
- 對于芯片廠(chǎng)商而言，光刻機顯得至關(guān)重要，而ASML也在積極布局新的技術(shù)。據外媒報道稱(chēng)，截至 2022 年第一季度，ASML已出貨136個(gè)EUV系統，約曝光7000萬(wàn)個(gè)晶圓已曝光。按照官方的說(shuō)法，新型號的EUV光刻機系統 NXE:3600D將能達到93%的可用性，這將讓其進(jìn)一步接近DUV光刻機（95%的可用性）。數據顯示，NXE:3600D系統每小時(shí)可生產(chǎn)160個(gè)晶圓 (wph)，速度為30mJ/cm，這比 NXE:3400C高18%。二正在開(kāi)發(fā)的 NXE:3800E系統最初將以30mJ/cm的速度提供大過(guò)1
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臺積電、Intel、三星狂買(mǎi)ASML EUV光刻機
- 臺積電在北美技術(shù)論壇上公布了新的制程路線(xiàn)圖，定于2025年量產(chǎn)2nm工藝，其采用Nanosheet（納米片電晶體）的微觀(guān)結構，取代FinFET。期間，臺積電甚至規劃了5種3nm制程，包括N3、N3E、N3P、N3S和N3X，要在2025年前將成熟和專(zhuān)業(yè)化制程的產(chǎn)能提高50%，包括興建更多的晶圓廠(chǎng)。顯然，作為產(chǎn)能提升以及興建晶圓廠(chǎng)的關(guān)鍵核心設備，EUV光刻機少不了要采購一大批。臺積電表示，計劃在2024年引入ASML的新一代EUV極紫外光刻機。此前，Intel曾說(shuō)自己是第一個(gè)訂購ASML下一代EUV光刻機的
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ASML 分享 High-NA EUV 光刻機最新進(jìn)展：目標 2024-2025 年進(jìn)廠(chǎng)
- 5 月 29 日消息，半導體行業(yè)花了十多年的時(shí)間來(lái)準備極紫外線(xiàn) (EUV) 光刻技術(shù)，而新的高數值孔徑 EUV 光刻（High-NA EUV）技術(shù)將會(huì )比這更快。目前，最先進(jìn)的芯片是 4/5 納米級工藝，下半年三星和臺積電還能量產(chǎn) 3nm 技術(shù)，而對于使用 ASML EUV 光刻技術(shù)的 Twinscan NXE:3400C 及類(lèi)似系統來(lái)說(shuō)，它們大都具有 0.33 NA（數值孔徑）的光學(xué)器件，可提供 13 nm 分辨率。目前來(lái)看，這種分辨率尺寸對于 7 nm / 6 nm 節點(diǎn) (36 nm ~ 38 nm)
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ASML：現有技術(shù)能實(shí)現1nm工藝
- 5月17日消息，為了強調光在推進(jìn)科學(xué)進(jìn)步過(guò)程中的重要作用，聯(lián)合國教科文組織將每年的5月16日定為“國際光日”。5月13日，ASML在一篇公眾號文章中稱(chēng)，現有技術(shù)能實(shí)現1nm工藝，摩爾定律可繼續生效十年甚至更長(cháng)時(shí)間?！ SML稱(chēng)，在半導體領(lǐng)域，摩爾定律——這一誕生于1965年的前瞻推斷，就扮演著(zhù)如同光一樣的角色，指引芯片制造的每一次創(chuàng )新與突破。在過(guò)去的50多年里，摩爾定律不斷演進(jìn)。摩爾關(guān)于以最小成本制造復雜芯片的最初預測，也在演進(jìn)過(guò)程中被轉述成各種各樣的表述，現在這個(gè)定律最常被表述為半導體芯片可容納的
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ASML：2023年芯片產(chǎn)能將仍然供應緊張
- 日前，ASML對目前的芯片產(chǎn)能做出了推測，目前沒(méi)有任何跡象表明相關(guān)需求放緩。根據ASML首席執行官Peter Wennink在財報會(huì )議上的說(shuō)法，目前，在各大細分市場(chǎng)的客戶(hù)對于先進(jìn)和成熟芯片制造技術(shù)需求已經(jīng)到了一種“前所未有”的地步，且沒(méi)有任何減弱的跡象。用戶(hù)旺盛的需求導致Wennink不得不承認，由于產(chǎn)能限制，ASML目前做多只能滿(mǎn)足其深紫外光刻機需求的60%左右。Wennink表示，這意味著(zhù)，直到2023年，芯片產(chǎn)能都將處在嚴重短缺的狀態(tài)，并且沒(méi)有看到任何能夠表明需求放緩的跡象。在此次電話(huà)會(huì )議上，Pet
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ASML公司開(kāi)撕美國？光源技術(shù)不是根源，不交付EUV光刻機另有原因
- ASML公司雖然是荷蘭企業(yè)，但不少網(wǎng)友都把ASML公司“美”化了，這里的“美”指的是美國。在華為遭遇到芯片封鎖之前，中國半導體企業(yè)就曾向ASML公司支付了定金，采購了一臺EUV光刻機。然而，ASML公司卻遲遲沒(méi)有發(fā)貨，這也引起了網(wǎng)友的各種猜疑。眾所周知，全世界只有ASML公司能夠生產(chǎn)EUV光刻機，而一部EUV光刻機上就有超過(guò)10w的精密零件，各方面的技術(shù)也是來(lái)自全世界各國的頂尖技術(shù)。所以ASML公司的光刻機一直是供不應求。但明明已經(jīng)收了定金，10億一部的EUV光刻機，ASML公司為何有生意不做呢？大部分的
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投資5000多萬(wàn) 俄羅斯計劃研發(fā)全新EUV光刻機：ASML都沒(méi)有
- 光刻機是半導體制造中的核心設備之一，EUV光刻機全球也只有ASML公司能夠研發(fā)、生產(chǎn)，但它的技術(shù)限制也很多，俄羅斯計劃開(kāi)發(fā)全新的EUV光刻機，使用的是X射線(xiàn)技術(shù)，不需要光掩模就能生產(chǎn)芯片?！ 」饪虣C的架構及技術(shù)很復雜，不過(guò)決定光刻機分辨率的主要因素就是三點(diǎn)，分別是常數K、光源波長(cháng)及物鏡的數值孔徑，波長(cháng)越短，分辨率就越高，現在的EUV光刻機使用的是極紫外光EUV，波長(cháng)13.5nm，可以用于制造7nm及以下的先進(jìn)工藝工藝?！ 《砹_斯莫斯科電子技術(shù)學(xué)院 (MIET)現在就接下了貿工部的6.7億盧布資金(約合51
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攻克“光源中的光源”，中國有機會(huì )
- 當前，芯片問(wèn)題廣受關(guān)注，而半導體工業(yè)皇冠上的明珠——以極紫外（EUV）光刻機為代表的高端光刻機，則是我國集成電路（IC）產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展必須邁過(guò)的“如鐵雄關(guān)”。如何在短期內加快自主生產(chǎn)高端光刻機的步伐，打破國外的技術(shù)封鎖和市場(chǎng)壟斷？筆者認為，應找準關(guān)鍵技術(shù)，攻克核心設備，躋身上游產(chǎn)業(yè)。認清光刻關(guān)鍵技術(shù)對于光刻機，憑什么美國可以左右荷蘭阿斯麥公司（ASML）EUV光刻機的出海國家？ASML又為什么“愿意”聽(tīng)從美國的“擺布”？一方面，美國在A(yíng)SML早期研發(fā)階段給予大力扶持，幫助其獲取最新的研究成果；作為繼續扶持
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總投資155億 國產(chǎn)CMOS傳感器工廠(chǎng)又迎來(lái)一臺ASML先進(jìn)光刻機搬入
- 日前國產(chǎn)芯片廠(chǎng)商格科微宣布成功實(shí)現整套ASML光刻機中的關(guān)鍵設備——先進(jìn)ArF光刻機的搬入。據格科微表示，目前，格科微潔凈室已按計劃分階段順利驗收，相關(guān)廠(chǎng)務(wù)系統配備進(jìn)展順利，共有六十一臺設備已經(jīng)搬入。未來(lái)，外延、蝕刻、薄膜、清洗等相關(guān)設備仍會(huì )陸續搬入。格科微表示，ArF光刻機的成功引入，是格科微“12英寸CIS集成電路特色工藝研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化項目”建設的關(guān)鍵節點(diǎn)。依托自有工廠(chǎng)即格科半導體的先進(jìn)制程，格科微將進(jìn)一步加快先進(jìn)CIS工藝和高階專(zhuān)利像素的研發(fā)速度，并在自有工廠(chǎng)實(shí)現批量生產(chǎn)驗證，從而極大縮短高端產(chǎn)品從研
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光刻機巨頭阿斯麥 ASML 將于新加坡擴建新產(chǎn)線(xiàn)
- 3 月 29 日消息，光刻機巨頭阿斯麥 ASML 在新加坡一間工廠(chǎng)的開(kāi)幕式上宣布，將在該工廠(chǎng)興建第二座制造車(chē)間，預計將于 2023 年初投產(chǎn)。擴建后的工廠(chǎng)將讓該公司在新加坡的產(chǎn)能增加 3 倍，全球產(chǎn)能倍增。ASML 是世界領(lǐng)先的科技公司之一，全球半導體價(jià)值鏈的主要參與者。這里設計的技術(shù)和機器有助于在新加坡、韓國或美國生產(chǎn)芯片。世界上最大的芯片制造商們都需要這種設備。在生產(chǎn)處理器芯片的過(guò)程中，EUV 光刻機最昂貴。目前全世界只有阿斯麥（ASML）能制造出 EUV 光刻機。在過(guò)去的十年時(shí)間里，阿斯麥總共售出大
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ASML發(fā)出產(chǎn)能預警 芯片制造商面臨先進(jìn)光刻機供應短缺的瓶頸
- 受近年芯片供應持續短缺的影響，我們已經(jīng)看到了位于世界各地的多個(gè)晶圓廠(chǎng)的建設公告。但是在投入實(shí)際生產(chǎn)之前，這一切都受到荷蘭阿斯麥（ASML）的光刻機供應的限制。ASML 首席執行官 Peter Wennink 剛剛發(fā)出警告，稱(chēng)該公司難以滿(mǎn)足客戶(hù)的產(chǎn)品需求。據悉，ASML 專(zhuān)注于生產(chǎn)適用于半導體行業(yè)的各種類(lèi)型的光刻機，且在該領(lǐng)域處于世界領(lǐng)先地位，客戶(hù)中包括了英特爾、臺積電、三星等芯片巨頭。然而最新消息是，至少在未來(lái)幾年內，ASML 都無(wú)法順利交付所有訂單。即使今年預期的光刻機出貨量高于去年，但明年的增勢并未放
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ASML的大股東究竟是誰(shuí)？真的是英特爾、三星、臺積電？
- 眾所周知，ASML是全球最牛的光刻機廠(chǎng)商，能夠用于7nm及以下芯片制造的EUV光刻機，只有ASML能夠生產(chǎn)。而ASML生產(chǎn)的EUV光刻機，一般也是優(yōu)先供應給intel、臺積電、三星這三家廠(chǎng)商，其它的廠(chǎng)商要等這三家廠(chǎng)商買(mǎi)剩了后，才可能會(huì )輪到。為什么ASML會(huì )優(yōu)先賣(mài)給這三家廠(chǎng)商呢？第一是這三家廠(chǎng)商是大客戶(hù)，必須要優(yōu)特，第二則是很多人說(shuō)，這三家廠(chǎng)商是ASML的股東，所以當然要先照顧股東。那么問(wèn)題就來(lái)了，ASML的股東究竟是誰(shuí)，英特爾、三星、臺積電真的是ASML的股東么？關(guān)于A(yíng)SML的由來(lái)，可以追溯到1984年，
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格科微臨港12吋CIS項目迅速推進(jìn)，ASML先進(jìn)ArF光刻機正式搬入
- 3月24日上午10:18，在嚴格遵守防疫政策并做好疫情防控措施的情況下，格科微順利舉辦ASML先進(jìn)ArF光刻機搬入儀式。格科半導體SVP李朝勇、各部門(mén)總監、光刻團隊及廠(chǎng)務(wù)團隊出席儀式，共同見(jiàn)證了公司這一里程碑式的重要時(shí)刻。目前，格科微有限公司“12英寸CIS集成電路特色工藝研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化項目”推進(jìn)迅速。廠(chǎng)房和潔凈車(chē)間建設已經(jīng)基本完成，并于2022年2月16日開(kāi)始主設備的搬入安裝。在3月24日，格科半導體再次迎來(lái)了建廠(chǎng)重要標志性時(shí)刻，整套生產(chǎn)線(xiàn)中的最關(guān)鍵設備——ASML先進(jìn)ArF光刻機成功搬入。ArF光刻機的
- 關(guān)鍵字： 光刻機 格科微 ASML
俄烏局勢未解又遇疫情反撲 半導體供應鏈雪上加霜
- 俄烏軍事沖突愈演愈烈，加上中國境內多座城市新冠疫情反撲，全球半導體供應鏈再次亮起紅燈。綜合外媒報道，由于俄烏局勢持續緊張，烏克蘭兩家主要氖氣供應商Ingas和Cryoin公司工廠(chǎng)暫停生產(chǎn)。氖氣廣泛應用于鐳射激光等半導體制程中，這兩家公司每月為中國大陸及臺灣地區、韓國、美國、德國客戶(hù)提供氖氣，其中約75%用于芯片行業(yè)。兩家公司所在地馬里烏波爾和敖德薩目前被俄羅斯控制，為保護員工安全停止運營(yíng)。俄羅斯和烏克蘭的氖氣產(chǎn)量占全球的四分之一，半導體制造另一重要原材料稀土金屬鈀40%來(lái)自俄羅斯。俄烏事態(tài)持續激化將令本就
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