臺積電今年將拿到最新款光刻機
6月6日消息,據外媒報道稱(chēng),ASML將在今年向臺積電交付旗下最先進(jìn)的光刻機,單臺造價(jià)達3.8億美元。
本文引用地址:http://dyxdggzs.com/article/202406/459625.htm報道中提到,ASML首席財務(wù)官Roger Dassen在最近的一次電話(huà)會(huì )議上告訴分析師,公司兩大客戶(hù)臺積電和英特爾將在今年年底前獲得所謂的高數值孔徑(高NA)極紫外(EUV)光刻系統。
英特爾此前已經(jīng)訂購了最新的高NA EUV設備,第一臺設備已于12月底運往俄勒岡州的一家工廠(chǎng)。
目前尚不清楚ASML最大的EUV客戶(hù)臺積電何時(shí)會(huì )收到設備。
據悉,這些機器每臺造價(jià)3.5億歐元(3.8億美元),重量相當于兩架空中客車(chē)A320。ASML 是世界上唯一一家生產(chǎn)極紫外光刻技術(shù)的公司。
臺積電此前宣布,其2nm節點(diǎn)進(jìn)展順利,并計劃于2025下半年推出N3X、N2制,并將在2026下半年量產(chǎn)N2P和A16制程。
與3nm制程節點(diǎn)不同,臺積電2nm制程將使用Gate-all-around FETs(GAAFET)晶體管,相比3nm工藝會(huì )有10%到15%的性能提升,還可以將功耗降低25%到30%。
之前,有股東發(fā)言提及近華為發(fā)展晶圓代工相當積極,向臺積電董事長(cháng)劉德音請教如何評斷,劉德音表示,臺積電著(zhù)重是自己發(fā)展的速度夠不夠快,臺積電永遠有競爭對手。
“至于華為會(huì )不會(huì )超越臺積電,本來(lái)他想請總裁魏哲家回答,后來(lái)就直接說(shuō),總裁也不用回答了,因為但根本不可能?!眲⒌乱粽f(shuō)道。
此言一出,也是引起了行業(yè)專(zhuān)家的吐槽,有人甚至放話(huà),如果沒(méi)有先進(jìn)光刻機,你們恐怕什么也不是。
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