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ASML：客戶(hù)下單增溫 微顯影設備2010年成長(cháng)30%
- 半導體市場(chǎng)回溫，ASML市場(chǎng)智庫總監Antonio Mesquida Küsters表示，客戶(hù)對設備下單需求增溫，他引用研究機構預測，2010年半導體微顯影設備可望成長(cháng)30%至少達到40億歐元。尤其晶圓代工領(lǐng)域，經(jīng)過(guò)18個(gè)月的壓低資本支出，現在業(yè)者更積極投資擴充產(chǎn)能，他個(gè)人亦樂(lè )見(jiàn)臺積電積極擴充產(chǎn)能，滿(mǎn)足客戶(hù)投單需求的做法。 Küsters表示，2008 年是變動(dòng)相當劇烈的一年，回顧2007年時(shí)研究機構還對2008年奧運所帶來(lái)的商機相當樂(lè )觀(guān)，孰料DRAM價(jià)格快速崩落約65%，緊
- 關(guān)鍵字： ASML DRAM 晶圓代工
2010決勝年 ASML 主攻38納米、EUV設備
- 全球最大半導體微顯影設備業(yè)者ASML表示，目前客戶(hù)訂單增加相當多，但主是來(lái)自半導體業(yè)者制程微縮而非產(chǎn)能擴充的需求，半導體業(yè)者仍持續微縮半導體制程，摩爾定律預料將持續延續。以目前ASML最先進(jìn)的浸潤式微顯影機種來(lái)看，新一代的機種NXT 1950i 也已于2009年下半出貨，未來(lái)將快速增加出貨，同時(shí)深紫外光(EUV)也至少囊括5套客戶(hù)訂單，對ASML來(lái)說(shuō)2010年將是極重要的一年。 ASML NXT技術(shù)平臺資深經(jīng)理Frank van de Mast指出，XT1900Hi的下一代機種NXT 1950i
- 關(guān)鍵字： ASML 38納米 EUV設備
EUV: 一場(chǎng)輸不起的賭局
- 2010年， ASML將有5臺最先進(jìn)的EUV設備整裝發(fā)往全球的5家客戶(hù)。業(yè)界傳言，最新的NXE3100系統將發(fā)送給3家頂級存儲器廠(chǎng)商和2家頂級邏輯廠(chǎng)商。EUV勝利的曙光正在向我們招手，雖然目前工程師們還在荷蘭Veldhoven專(zhuān)為EUV新建的大樓中忙碌，在設備出廠(chǎng)前，解決正在發(fā)生的問(wèn)題，并預測著(zhù)各種可能發(fā)生的問(wèn)題及解決方案。 人們談?wù)揈UV的各種技術(shù)問(wèn)題已歷時(shí)數年，因為其波長(cháng)較目前的193nm縮短10倍以上，EUV一直是通往22nm的實(shí)力派參賽選手之一。與此同時(shí)，延伸immersion技術(shù)，用其
- 關(guān)鍵字： ASML EUV 22nm
EUV蓄勢待發(fā) Carl Zeiss向ASML出貨EUV光學(xué)系統
- 德國Carl Zeiss SMT AG已向半導體設備商ASML出貨首臺EUV光學(xué)系統。該公司已使EUV光學(xué)系統達到了生產(chǎn)要求。 光學(xué)系統是EUV設備的核心模塊，首臺EUV設備預計將在2010年出貨。幾周前，美國公司Cymer完成了EUV光源的開(kāi)發(fā)，EUV光源是EUV光刻設備另一個(gè)關(guān)鍵模塊。該技術(shù)將使芯片制造商進(jìn)一步縮小芯片的特征尺寸，提高生產(chǎn)效率。 據Carl Zeiss 介紹，目前出貨的光學(xué)系統已經(jīng)研發(fā)了約15年。
- 關(guān)鍵字： ASML EUV 光刻設備
ASML一體化光刻解決方案延續摩爾定律
- ASML集團公司在美國舊金山舉行的SEMICON West展會(huì )上發(fā)布多項全新光刻設備，讓芯片制造商能夠繼續縮小半導體器件尺寸。FlexRay™ (可編程照明技術(shù))和BaseLiner™ (反饋式調控機制)為ASML一體化光刻技術(shù) (holistic lithography)的一部分，具有高穩定性，能夠優(yōu)化和穩定制造工藝。 半導體行業(yè)發(fā)展的推動(dòng)力量來(lái)自小型化趨勢，以降低生產(chǎn)成本，同時(shí)提高器件性能。不過(guò)，隨著(zhù)半導體器件尺寸的縮小，工藝窗口(生產(chǎn)出合格芯片的工藝允許偏差)也相應
- 關(guān)鍵字： ASML FlexRay BaseLiner Eclipse
ASML的上半年訂單落空 預期下半年有望回復
- 按全球第一大光刻設備供應商ASML公司的預估，其Q1的銷(xiāo)售額將從08年Q4的4.94億歐元下降到1.84億歐元，而去年同期為9.19億歐元，下降達80%。 ASML預計Q2的銷(xiāo)售額在2.1-2.3億歐元間，因為受工藝制程的進(jìn)一步縮小推動(dòng)，產(chǎn)業(yè)可能會(huì )在今年下半年開(kāi)始復蘇，訂單回歸到4.0-5.0億歐元。新的工藝制程會(huì )要求購買(mǎi)新的或者升級現有的設備。 如08年僅只有各領(lǐng)域的領(lǐng)先者在購買(mǎi)設備，主要集中在如閃存flash的45nm、DRAM的55nm及代工的45nm客戶(hù)。預計2009年會(huì )加速工藝制
- 關(guān)鍵字： ASML 光刻 DRAM
Gartner發(fā)布2008年設備商排名 ASML取代TEL排名第二
- Gartner近日發(fā)布2008年半導體設備商排名，Applied Materials仍位居榜首。 去年，盡管Applied Materials的銷(xiāo)售收入減少39.8%，但市場(chǎng)份額占13.2%。 ASML取代了TEL位居第二。ASML的先進(jìn)技術(shù)使其193nm沉浸式光刻設備獲得良好的需求。Teradyne入圍前十，同時(shí)也摘得測試市場(chǎng)中的桂冠。 總體來(lái)看，2008年全球半導體設備支出總額為307億美元，同比減少31.7%。從分類(lèi)市場(chǎng)來(lái)看，晶圓廠(chǎng)設備收入減少32.8%，后端設備減少27.2%
- 關(guān)鍵字： ASML 半導體
電子產(chǎn)品需求驟降芯片設備減產(chǎn)
- 12月22日國際報道 芯片設備商叫苦，整個(gè)電子與高科技業(yè)隨之沉淪。這是非常簡(jiǎn)單的等式。電子產(chǎn)品制造商向芯片制造商購買(mǎi)芯片，后者則向如應用材料（Applied Materials）和ASML等設備制造商購買(mǎi)生產(chǎn)設備。上游出問(wèn)題，下游情況自然堪慮。 該來(lái)的終究躲不過(guò)。荷蘭芯片設備大廠(chǎng)ASML CFO Peter Wennink上周在美國財經(jīng)頻道CNBC表示：“電子產(chǎn)品需求驟降……迫使我們的顧客大幅減產(chǎn)。”ASML的主要顧客包括東芝、臺積電、三
- 關(guān)鍵字： ASML 金融危機
2008十佳晶圓設備和工藝診斷設備廠(chǎng)商排名(圖)
- 市場(chǎng)調研機構VLSIResearch近日公布了2008十佳半導體設備廠(chǎng)商。今年獲得工藝診斷設備廠(chǎng)商、小型晶圓處理設備廠(chǎng)商和大型晶圓處理設備廠(chǎng)商各個(gè)類(lèi)別桂冠的分別是KeithleyInstruments、SENCorporation和VarianSemiconductor。 本次調查結果是來(lái)自對芯片制造商4565次調查，受訪(fǎng)制造商的產(chǎn)量總和約占全球產(chǎn)量的95％。每家設備供應商在13項指標中進(jìn)行排名，包括設備性能和客服等。以下是十佳供應商排名： 工藝診斷設備供應商 在工藝診斷設備供應商中
- 關(guān)鍵字： 晶圓 Keithley gilentTechnologies ASML
ASML看好亞洲市場(chǎng), 搭上晶片順風(fēng)車(chē)
- 晶片產(chǎn)業(yè)景氣暢旺,ASML看好亞洲明年營(yíng)收成長(cháng) 路透報道---荷蘭晶片設備制造商艾司摩爾亞太區策略行銷(xiāo)協(xié)理鄭國偉周三表示,隨著(zhù)其主要半導體客戶(hù)搭上晶片產(chǎn)業(yè)景氣復蘇的順風(fēng)車(chē),ASML看好明年亞洲市場(chǎng)的營(yíng)收成長(cháng). ASML的整體營(yíng)收有60%-70%來(lái)自亞洲.全球最大的晶圓代工廠(chǎng)商臺積電即是ASML的主要客戶(hù)之一. 鄭國偉在臺灣半導體及微電子產(chǎn)業(yè)年度盛事SEMICON Taiwan場(chǎng)邊告訴路透,從一般趨勢來(lái)研判,亞洲的業(yè)務(wù)營(yíng)收將愈來(lái)愈大. 鄭國偉稱(chēng):我不認為其他有任何地區的成長(cháng)動(dòng)能比亞洲更強.但他并未
- 關(guān)鍵字： 通訊 無(wú)線(xiàn) 網(wǎng)絡(luò ) ASML 晶片 通信基礎
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