ASML：EUV光刻機已近極限 追趕技術(shù)還是另辟蹊徑？

ASML首席財務(wù)官達森（Roger Dassen）表示，EUV技術(shù)路線(xiàn)發(fā)展受歐美限制，且光刻機已接近技術(shù)極限，此一技術(shù)路線(xiàn)前景不明。積極尋求突破的中國廠(chǎng)商是持續投入資源突破現有限制進(jìn)行技術(shù)跟隨？還是將資源另辟蹊徑尋找新的技術(shù)路徑？將面臨艱難的抉擇。

據《芯智訊》報導，臺積電已經(jīng)訂購了High NA EUV（高數值孔徑極紫外光）光刻機，ASML與臺積電的商業(yè)談判即將結束，預計在第2季度或第3季度開(kāi)始獲得大量 2nm芯片制造相關(guān)設備訂單。ASML預測其設備的市場(chǎng)需求有望一路走強至2026年，這主要是受益于各國政府推動(dòng)的芯片制造當地化策略。

報導說(shuō)，High NA EUV光刻機的價(jià)格相當昂貴，一臺要價(jià)超過(guò)3.5億歐元。臺積電業(yè)務(wù)開(kāi)發(fā)資深副總裁張曉強（Kevin Zhang）日前表示，由于定價(jià)過(guò)高，臺積電預計于2026年下半量產(chǎn)的A16（1.6nm）制程，不一定需要用到High NA EUV光刻機，這要看如何在經(jīng)濟與技術(shù)間取得最佳的平衡而定。

目前最為積極引入High NA EUV光刻機則是英特爾，其是第一家訂購并完成交付安裝的晶圓制造商，目前英特爾已經(jīng)開(kāi)始進(jìn)行Intel 18A工藝的測試，以積累相關(guān)經(jīng)驗，后續將會(huì )被用于Intel 14A的量產(chǎn)。

報導指出，ASML已接獲數十臺High NA EUV光刻機的訂單，其中大部分被英特爾預定，此外三星、臺積電、SK海力士、美光也有訂購。但是由于技術(shù)本身和生態(tài)系統的復雜性，ASML 認為在可預見(jiàn)的未來(lái)，其EUV技術(shù)領(lǐng)域不會(huì )面臨來(lái)自中國光刻設備公司上海微電子（SMEE）或華為的競爭。

根據數據顯示，ASML先進(jìn)的標準型EUV光刻機就擁有超過(guò)10萬(wàn)個(gè)零件，涉及到上游5000多家供貨商。它是所有半導體制造設備中技術(shù)含量最高的設備，目前全世界沒(méi)有一家企業(yè)、甚至可以說(shuō)沒(méi)有一個(gè)國家可以獨立完成EUV光刻機的完整制造。

目前ASML仍然是全球唯一的EUV光刻機供貨商，High NA EUV光刻機的發(fā)展已經(jīng)接近當前技術(shù)的極限，下一代的0.75 NA的Hyper NA EUV光刻機理論上是可以實(shí)現，但是會(huì )面臨更多更復雜的技術(shù)問(wèn)題，同時(shí)成本也更為驚人。

報導分析說(shuō)，在ASML現有光刻機技術(shù)路線(xiàn)即將走向盡頭的背景之下，對于中國廠(chǎng)商來(lái)說(shuō)在現有技術(shù)路線(xiàn)對于ASML之間的差距可能將不會(huì )繼續加速擴大，這有利于大陸廠(chǎng)商的技術(shù)追趕。

但是，在EUV技術(shù)路線(xiàn)發(fā)展受歐美限制，且該技術(shù)路線(xiàn)前景灰暗的情況下，中國大陸廠(chǎng)商是持續投入資源突破現有限制進(jìn)行技術(shù)跟隨，還是考慮投入資源另辟蹊徑尋找新的技術(shù)路徑？將會(huì )面臨困難的抉擇。比如佳能去年就推出了面向先進(jìn)制程的奈米壓印設備，但該技術(shù)路線(xiàn)能否成功還有待市場(chǎng)檢驗。