ASML市值超車(chē)LVMH，成為歐洲第二大上市公司

全球芯片制造設備龍頭阿斯麥（ASML）周三（5 日）歐洲股價(jià)漲逾 8%，市值達到 3770 億歐元（約 4100 億美元），超車(chē)法國奢侈品業(yè)巨擘酩悅軒尼詩(shī)-路易威登集團（LVMH）約 6.41 億歐元，成為歐洲第二大上市公司，僅次于丹麥制藥公司諾和諾德（Novo Nordisk）。

截稿前，ASML 美股 ADR 周三盤(pán)中上飆漲 9.35%，每股暫報 1,039.68 美元。

有外媒周三稍早報道，ASML 最大客戶(hù)臺積電將在今年底前接收高數值孔徑極紫外光曝光機（High-NA EUV），推動(dòng)前者股價(jià)上漲。這款最新的芯片制造設備是 ASML 迄今為止最強大的機器，每臺造價(jià)高達 3.5 億歐元。

對于 ASML 的投資人來(lái)說(shuō)，這讓他們對未來(lái)的營(yíng)收感到放心，因為臺積電先前曾對這臺機器的定價(jià)表示擔憂(yōu)。自 4 月以來(lái)，ASML 股價(jià)一直在回落，此前該公司第一季業(yè)績(jì)顯示，頂尖芯片制造商推遲購買(mǎi)高端設備。

Jefferies 分析師 Janardan Menon 預估未來(lái)幾季將有大量訂單，將 ASML 股票評為「買(mǎi)入」（Buy）。他補充說(shuō)，臺積電將在 2025 年下半年提高下一代 2nm 芯片的產(chǎn)量，但到目前為止，ASML 還沒(méi)有收到大單。

與此同時(shí)，由于擔心奢侈品銷(xiāo)售正在放緩，LVMH 的股價(jià)在過(guò)去一個(gè)月有所下跌。香奈兒（Chanel）最近警告，該奢侈品業(yè)將面臨艱難時(shí)期，開(kāi)云集團（Kering SA）正在努力重振 Gucci 的命運。

ASML 將向臺積電、三星交付 High-NA EUV

媒體周三（5 日）報道，芯片制造設備商阿斯麥（ASML）今年將向臺積電、英特爾、三星交付最新的高數值孔徑極紫外光曝光機（High-NA EUV）。

根據阿斯麥發(fā)言人透露，該公司財務(wù)長(cháng) Roger Dassen 在最近一次的電話(huà)會(huì )議上向分析師說(shuō)，公司最大的三個(gè)客戶(hù)──臺積電、英特爾、三星──都將在今年年底前拿到 High-NA EUV。

報道指出，英特爾已經(jīng)訂購最新的 High-NA EUV，已于去年 12 月把這臺機器運送到美國俄勒岡州的工廠(chǎng)。不過(guò)目前還不清楚臺積電何時(shí)會(huì )收到這臺阿斯麥的最新設備，臺積電一位代表僅表示雙方密切合作，拒絕進(jìn)一步置評。

阿斯麥的這臺最新機器可以用只有 8nm 厚的線(xiàn)來(lái)印壓半導體──較上一代機器還要小 1.7 倍──將用來(lái)生產(chǎn)替人工智能（AI）應用和先進(jìn)消費電子產(chǎn)品的芯片。

High-NA EUV 造價(jià)不斐，一臺價(jià)格為 3.5 億歐元（約 3.8 億美元）而且重量相當兩臺空中巴士的 A320 飛機。對于如此昂貴價(jià)格的機器，臺積電業(yè)務(wù)開(kāi)發(fā)資深副總裁張曉強（Kevin Zhang）上月曾在阿姆斯特丹的一次活動(dòng)上表示太貴，而且將于 2026 年底前推出的 A16 節點(diǎn)技術(shù)不需使用到 High-NA EUV，可以依賴(lài)現有的極紫外光曝光機（extreme ultraviolet）。

盡管如此，臺積電一直是阿斯麥 High-NA EUV 計劃的積極參與者。包括 Janardan Menon 在內的 Jefferies 分析師表示，他們預估臺積電將在 2028 年在 A14 節點(diǎn)上使用 High-NA EUV。分析師在與 Dassen 的電話(huà)會(huì )議后表示，阿斯麥仍認為 2025 年營(yíng)收可能處于指導區間的上半部。

Jefferies 分析師表示，在今年剩下的三個(gè)季度里，阿斯麥的平均訂單可能在 57 億歐元左右，這將使 2025 年的銷(xiāo)售額達到 400 億歐元。

英特爾將購買(mǎi) 10 臺 High-NA EUV 中的 6 臺

根據 TrendForce 集邦咨詢(xún)的一份報告，英特爾成為 2023 年第一家從 ASML 獲得 0.55 數值孔徑 EUV 光刻機的公司，并且還將在 2024 年獲得該公司的大部分該類(lèi)設備。

據悉，2024 年，ASML 將生產(chǎn) 10 臺 High-NA EUV（Twinscan EXE：5200 掃描儀，英特爾將獲得其中的 6 臺，將在 2025 年及以后用于使用 18A 或其它制程工藝的芯片生產(chǎn)。

Twinscan EXE 的使用可能會(huì )對公司的生產(chǎn)周期產(chǎn)生積極影響，盡管很難說(shuō)這是否會(huì )對英特爾的成本產(chǎn)生積極影響，因為這些機器將比 Twinscan NXE：3600D 或 NXE：3800E 貴得多（有人說(shuō)在 3 億~4 億美元之間），后者已經(jīng)超過(guò) 2 億美元。此外，由于高數值孔徑光刻設備的光罩尺寸小兩倍，因此它們的使用方式將與我們在典型 EUV 機器上看到的不同。

在高數值孔徑學(xué)習方面，英特爾將領(lǐng)先于其競爭對手，這將為其帶來(lái)多項優(yōu)勢。具體來(lái)說(shuō)，由于英特爾很可能是第一家使用高數值孔徑工具啟動(dòng)大批量生產(chǎn)的公司，因此晶圓廠(chǎng)工具生態(tài)系統將不可避免地遵循其要求。上述要求可能會(huì )轉化為行業(yè)標準，這可能會(huì )使英特爾比臺積電和三星更具優(yōu)勢。

但英特爾的競爭對手也在尋求獲得高數值孔徑 EUV。三星電子副董事長(cháng)兼設備解決方案部門(mén)負責人 Kyung Kye-hyun 表示，該公司與 ASML 就采購高數值孔徑 EUV 達成協(xié)議。

「三星已經(jīng)確保了高數值孔徑設備技術(shù)的優(yōu)先權，」Kyung Kye-hyun 說(shuō)：「我相信，從長(cháng)遠來(lái)看，我們創(chuàng )造了一個(gè)機會(huì )，可以?xún)?yōu)化高數值孔徑技術(shù)在 DRAM 存儲芯片和邏輯芯片生產(chǎn)中的使用?！?/p>