三井化學(xué)將量產(chǎn)光刻薄膜新品，支持ASML下一代光刻機
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日前，日本三井化學(xué)宣布將在其巖國大竹工廠(chǎng)設立碳納米管 (CNT) 薄膜生產(chǎn)線(xiàn)，開(kāi)始量產(chǎn)半導體最尖端光刻機的零部件產(chǎn)品（保護半導體電路原版的薄膜材料“Pellicle”的新一代產(chǎn)品）。
本文引用地址：http://dyxdggzs.com/article/202406/460031.htm據悉，此種CNT薄膜可以實(shí)現92%以上的高EUV透射率和超過(guò)1kW曝光輸出功率的光阻能力。三井化學(xué)預期年產(chǎn)能力為5000張，生產(chǎn)線(xiàn)預計于2025年12月完工，可為ASML將推出的下一代高數值孔徑、高輸出EUV光刻機提供支持。
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