臺積電0.18微米晶圓制程技術(shù)登陸案獲準

    臺灣“經(jīng)濟部投審會(huì )”委員會(huì )議 通過(guò)臺灣積體電路制造股份有限公司申請將其上海廠(chǎng)晶圓制程技術(shù)提升為零點(diǎn)一八微米以上申請案。這是臺灣方面去年底開(kāi)放零點(diǎn)一八微米晶圓制程登陸后首宗獲準投資案。

　　“中央社”報道，臺灣有關(guān)方面去年底宣布開(kāi)放零點(diǎn)一八微米晶圓制程赴大陸投資，唯一獲準在大陸投資設立八吋、零點(diǎn)二五微米晶圓廠(chǎng)的臺積電率先提出提升制程申請。

　　臺積電早于二00五年一月即向當局提出赴大陸投資零點(diǎn)一八微米制程申請，當局直至去年底政策才正式松綁。臺積電遂補件申請。

　　二十日，臺積電上海有限公司產(chǎn)銷(xiāo)積體電路產(chǎn)品制程技術(shù)，由零點(diǎn)一八微米以上修正放寬至零點(diǎn)一八微米以上申請案順利獲通過(guò)。

　　另外，臺灣茂德科技公司也已遞案申請相同制程晶圓廠(chǎng)登陸，尚待審議。

　　對于有關(guān)投資案獲通過(guò)，臺積電方面表示歡迎，并指出在正式接獲當局核準函后，公司將盡快展開(kāi)大陸廠(chǎng)零點(diǎn)一八微米制程建置。稱(chēng)這將有利于在大陸地區提供符合客戶(hù)需求的制造服務(wù)，應有助于爭取更多訂單，擴大公司在大陸的市占率。