俄羅斯首臺光刻機問(wèn)世

據外媒報道，目前，俄羅斯首臺光刻機已經(jīng)制造完成并正在進(jìn)行測試。

俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿易部副部長(cháng)瓦西里-什帕克（Vasily Shpak）表示，已組裝并制造了第一臺國產(chǎn)光刻機，作為澤廖諾格勒技術(shù)生產(chǎn)線(xiàn)的一部分，目前正在對其進(jìn)行測試，該設備可確保生產(chǎn)350nm的芯片。什帕克還指出，到2026年將獲得130nm的國產(chǎn)光刻機，下一步將是開(kāi)發(fā)90nm光刻機，并繼續向下邁進(jìn)。

此前，俄羅斯曾表示，計劃到2026年實(shí)現65nm的芯片節點(diǎn)工藝，2027年實(shí)現28nm本土芯片制造，到2030年實(shí)現14nm國產(chǎn)芯片制造。