350nm，俄羅斯光刻機制造完成

5月25日消息，據外媒報道稱(chēng)，俄羅斯首臺光刻機已經(jīng)制造完成并正在進(jìn)行測試。俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿易部副部長(cháng)瓦西里-什帕克指出，該設備可確保生產(chǎn)350nm（0.35μm）的芯片。

圖片來(lái)源：塔斯社報道截圖

公開(kāi)資料顯示，350納米尺寸芯片在當代較為落后，但是仍然可以應用于汽車(chē)、能源和電信等多個(gè)行業(yè)。該光刻機的研制成功對于俄羅斯未來(lái)實(shí)現自主生產(chǎn)芯片具有里程碑意義。

圖片來(lái)源：全球半導體觀(guān)察制圖

目前，全球光刻機的主要玩家依舊以ASML、尼康、佳能三家為主。

據外媒公開(kāi)消息，俄羅斯目前主有兩家主要的晶圓廠(chǎng)，分別是Mikron和Angstrem公司，前者提供65-250nm芯片制造能力，后者（2019年破產(chǎn)重組）提供90-250nm芯片制造，擁有8英寸晶圓廠(chǎng)，兩家都以提供軍用、航天和工業(yè)領(lǐng)域芯片產(chǎn)品為主。因此，預計新的國產(chǎn)光刻機設備將會(huì )供應到兩家企業(yè)當中。

俄羅斯接下來(lái)的目標是在2026年制造可以支持130nm工藝的光刻機。之前俄羅斯表示，計劃到2026年實(shí)現65nm的芯片節點(diǎn)工藝，2027年實(shí)現28nm本土芯片制造，到2030年實(shí)現14nm國產(chǎn)芯片制造。