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350nm
350nm 文章 進(jìn)入350nm技術(shù)社區
350nm，俄羅斯光刻機制造完成
- 5月25日消息，據外媒報道稱(chēng)，俄羅斯首臺光刻機已經(jīng)制造完成并正在進(jìn)行測試。俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿易部副部長(cháng)瓦西里-什帕克指出，該設備可確保生產(chǎn)350nm（0.35μm）的芯片。圖片來(lái)源：塔斯社報道截圖公開(kāi)資料顯示，350納米尺寸芯片在當代較為落后，但是仍然可以應用于汽車(chē)、能源和電信等多個(gè)行業(yè)。該光刻機的研制成功對于俄羅斯未來(lái)實(shí)現自主生產(chǎn)芯片具有里程碑意義。圖片來(lái)源：全球半導體觀(guān)察制圖目前，全球光刻機的主要玩家依舊以ASML、尼康、佳能三家為主。據外媒公開(kāi)消息，俄羅斯目前主有兩家主要的晶圓廠(chǎng)，分別是Mikron
- 關(guān)鍵字： 350nm 俄羅斯 光刻機
俄羅斯首臺光刻機問(wèn)世
- 據外媒報道，目前，俄羅斯首臺光刻機已經(jīng)制造完成并正在進(jìn)行測試。俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿易部副部長(cháng)瓦西里-什帕克（Vasily Shpak）表示，已組裝并制造了第一臺國產(chǎn)光刻機，作為澤廖諾格勒技術(shù)生產(chǎn)線(xiàn)的一部分，目前正在對其進(jìn)行測試，該設備可確保生產(chǎn)350nm的芯片。什帕克還指出，到2026年將獲得130nm的國產(chǎn)光刻機，下一步將是開(kāi)發(fā)90nm光刻機，并繼續向下邁進(jìn)。此前，俄羅斯曾表示，計劃到2026年實(shí)現65nm的芯片節點(diǎn)工藝，2027年實(shí)現28nm本土芯片制造，到2030年實(shí)現14nm國產(chǎn)芯片制造。
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350nm介紹
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